ΝΕΑ ΥΛΙΚΑ ΚΑΙ ΙΕΡΓΑΣΙΕΣ ΓΙΑ ΜΙΚΡΟΛΙΘΟΓΡΑΦΙΑ ΥΨΗΛΗΣ ΙΑΚΡΙΤΙΚΗΣ ΙΚΑΝΟΤΗΤΑΣ

Μέγεθος: px
Εμφάνιση ξεκινά από τη σελίδα:

Download "ΝΕΑ ΥΛΙΚΑ ΚΑΙ ΙΕΡΓΑΣΙΕΣ ΓΙΑ ΜΙΚΡΟΛΙΘΟΓΡΑΦΙΑ ΥΨΗΛΗΣ ΙΑΚΡΙΤΙΚΗΣ ΙΚΑΝΟΤΗΤΑΣ"

Transcript

1 ΕΘΝΙΚΟ ΜΕΤΣΟΒΙΟ ΠΟΛΥΤΕΧΝΕΙΟ ΤΜΗΜΑ ΧΗΜΙΚΩΝ ΜΗΧΑΝΙΚΩΝ ΤΟΜΕΑΣ ΙΙΙ: ΕΠΙΣΤΗΜΗΣ ΚΑΙ ΤΕΧΝΙΚΗΣ ΤΩΝ ΥΛΙΚΩΝ ΝΕΑ ΥΛΙΚΑ ΚΑΙ ΙΕΡΓΑΣΙΕΣ ΓΙΑ ΜΙΚΡΟΛΙΘΟΓΡΑΦΙΑ ΥΨΗΛΗΣ ΙΑΚΡΙΤΙΚΗΣ ΙΚΑΝΟΤΗΤΑΣ Ι ΑΚΤΟΡΙΚΗ ΙΑΤΡΙΒΗ ΒΑΣΙΛΟΠΟΥΛΟΥ ΜΑΡΙΑ ΦΥΣΙΚΟΣ ΑΘΗΝΑ 2002

2 ΕΘΝΙΚΟ ΜΕΤΣΟΒΙΟ ΠΟΛΥΤΕΧΝΕΙΟ ΤΜΗΜΑ ΧΗΜΙΚΩΝ ΜΗΧΑΝΙΚΩΝ ΤΟΜΕΑΣ ΙΙΙ: ΕΠΙΣΤΗΜΗΣ ΚΑΙ ΤΕΧΝΙΚΗΣ ΤΩΝ ΥΛΙΚΩΝ Τριµελής Συµβουλευτική Επιτροπή. ηµοτίκαλη, Αναπληρώτρια Καθηγήτρια ΕΜΠ Ι. Αναστασοπούλου, Αναπληρώτρια Καθηγήτρια ΕΜΠ Π. Αργείτης, Ερευνητής Β Βαθµίδας ΕΚΕΦΕ «ηµόκριτος» Επταµελής Εξεταστική Επιτροπή Ν. Μαρκάτος, Καθηγητής ΕΜΠ Ι. Σιµιτζής, Καθηγητής ΕΜΠ Ν. Σπυρέλλης, Καθηγητής ΕΜΠ. ηµοτίκαλη, Αναπληρώτρια Καθηγήτρια ΕΜΠ Ι. Αναστασοπούλου, Αναπληρώτρια Καθηγήτρια ΕΜΠ Α. Μπουντουβής, Αναπληρωτής Καθηγητής ΕΜΠ. Τσαµάκης, Αναπληρωτής Καθηγητής ΕΜΠ... Η έγκριση της διδακτορικής διατριβής από την Ανώτατη Σχολή Χηµικών Μηχανικών του Εθνικού Μετσόβιου Πολυτεχνείου δεν υποδηλώνει αποδοχή των γνωµών του συγγραφέα (Ν. 5343/1932, Άρθρο 202).

3 ΠΕΡΙΕΧΟΜΕΝΑ ΕΙΣΑΓΩΓΗ-ΣΚΟΠΟΣ ΤΗΣ ΙΑΤΡΙΒΗΣ 1 Αντικείµενο της ιατριβής 4 1.ΘΕΩΡΗΤΙΚΟ ΜΕΡΟΣ 1.1: ΕΞΕΛΙΞΗ ΤΗΣ ΤΕΧΝΟΛΟΓΙΑΣ ΣΤΗ ΜΙΚΡΟΗΛΕΚΤΡΟΝΙΚΗ ΠΥΡΙΤΙΟΥ : Ιστορική αναδροµή : ιεργασίες Μικροηλεκτρονικής 6 1.2: ΛΙΘΟΓΡΑΦΙΑ-ΕΓΧΑΡΑΞΗ : Λιθογραφία: Ιστορική εξέλιξη : Η λιθογραφία στην κατασκευή των ηλεκτρονικών διατάξεων : Είδη λιθογραφίας ως προς την έκθεση : Οπτική λιθογραφία : Συστήµατα οπτικής λιθογραφίας α: Συστήµατα εκτύπωσης µε επαφή (contact printing) β: Εκτύπωση γετνίασης (proximity printing) γ: Συστήµατα εκτύπωσης µε προβολή (projection printing) : Λιθογραφία βαθέος υπεριώδους (DUV) : Λιθογραφία έσµης Ηλεκτρονίων : Λιθογραφία ακτίνων Χ : Είδη λιθογραφίας ως προς την εµφάνιση : Λιθογραφία µε υγρή εµφάνιση : Μεταφορά σχήµατος µέσω εγχάραξης µε πλάσµα : Βασικοί µηχανισµοί εγχάραξης : Είδη αντιδραστήρων πλάσµατος : Η κατάσταση σήµερα και οι µελλοντικές τάσεις στη λιθογραφία. 32

4 1.3: ΠΟΛΥΜΕΡΗ ΣΤΗ ΜΙΚΡΟΗΛΕΚΤΡΟΝΙΚΗ : Σύσταση και χαρακτηριστικά των φωτοπολυµερικών υλικών : Χαρακτηρισµός φωτοπολυµερικών υλικών : Ανάλυση της Ευαισθησίας και Αντίθεσης : Ανάλυση µε τη χρήση Καµπύλων ιαλυτότητας : Ανάλυση της ιακριτικής Ικανότητας : Ανάλυση της Αντίστασης στην Εγχάραξη : Θερµικός χαρακτηρισµός λεπτών υµενίων φωτοπολυµερικών υλικών : Είδη Φωτοπολυµερικών Υλικών Μικροηλεκτρονικής : Συµβατικά φωτοπολυµερή : Φωτοπολυµερικά Υλικά Χηµικής Ενίσχυσης (α): Ρητίνη χηµικής ενίσχυσης µε βάση εποξειδωµένη νεολάκα : Φωτοχηµεία πολυµερικών υµενίων : Σπάσιµο ενός σ δεσµού, που βρίσκεται σε α-θέση ως προς το καρβονύλιο των κετονών (a cleavage) : Ενδοµοριακές επαναδιευθετήσεις µέσω µεταφοράς ηλεκτρονίου των αλάτων σουλφωνίου : Μηχανισµοί διάλυσης πολυµερικών υλικών : Γενική θεώρηση : Πρόβλεψη διαλυτότητας : Μηχανισµοί εµφάνισης φωτοπολυµερικών υλικών : Σύγχρονες τάσεις στην έρευνα πολυµερικών υλικών λιθογραφίας : Φωτοπολυµερικά υλικά για 193nm : Φωτοπολυµερικά υλικά για ακραίο υπεριώδες και ακτίνες Χ : Φωτοπολυµερικά υλικά για λιθογραφία δέσµης ηλεκτρονίων ΠΕΙΡΑΜΑΤΙΚΟ ΜΕΡΟΣ : ΧΗΜΙΚΑ ΑΝΤΙ ΡΑΣΤΗΡΙΑ : ιαλύτες : Πολυµερή : Οργανικά πρόσθετα-φωτοευαισθητοποιητές. 69

5 2.1.4: Υποστρώµατα : Παρασκευή διαλυµάτων : ΣΥΣΚΕΥΕΣ- ΙΑΤΑΞΕΙΣ : Συστήµατα ακτινοβόλησης των υλικών λιθογραφίας : Λυχνία εκκένωσης υδραργύρου-ξένου (Oriel) : Σύστηµα έκθεσης µε δέσµη ηλεκτρονίων, EBPG 3 (Leica) : Σύστηµα έκθεσης µε ακτινοβολία λέιζερ (Exitech Series nm Microstepper) : Συστήµατα εγχάραξης : Εγχαράκτης πλάσµατος (Reactive Ion Etcher, RIE-Nextral Alcatel NE330) : Όργανα xαρακτηρισµού δοµών : Ηλεκτρονικό Μικροσκόπιο Σάρωσης (Scanning Electron Microscope, SEM) : Όργανο µέτρησης πάχους των υµενίων : Όργανα φυσικοχηµικού χαρακτηρισµού : Φασµατοφωτόµετρο υπεριώδους-ορατού (UV-Vis) Lambda : Φασµατοφωτόµετρο υπερύθρου FTIR : Φασµατογράφος µάζας, Platform II Micromass : Άλλα χρησιµοποιηθέντα όργανα : ΠΕΙΡΑΜΑΤΙΚΕΣ ΤΕΧΝΙΚΕΣ : Τεχνικές λιθογραφίας : Τυπική λιθογραφική διαδικασία : Καµπύλες αντίθεσης (ή ευαισθησίας) των υλικών : Τεχνική εγχάραξης : Τεχνική µέτρησης ρυθµού εµφάνισης : Τεχνικές χαρακτηρισµού δοµών : Τεχνική παρατήρησης δειγµάτων στο Ηλεκτρονικό Μικροσκόπιο Σάρωσης : Τεχνική µέτρησης πάχους υµενίων : Τεχνικές φυσικοχηµικού χαρακτηρισµού. 88

6 : Φασµατοφωτοµετρία ορατού-υπεριώδους : Φασµατοφωτοµετρία υπερύθρου : Φασµατοσκοπία µάζας : Μέθοδοι θερµικής ανάλυσης/ ιαφορική θερµιδοµετρία σάρωσης (DSC) : Αξιολόγηση των λιθογραφικών αποτελεσµάτων ΑΠΟΤΕΛΕΣΜΑΤΑ-ΣΥΖΗΤΗΣΗ : ΜΙΚΡΟΛΙΘΟΓΡΑΦΙΚΑ ΥΛΙΚΑ ΘΕΤΙΚΟΥ ΤΟΝΟΥ ΜΕ ΒΑΣΗ Υ ΡΟΞΥ- ΥΠΟΚΑΤΕΣΤΗΜΕΝΑ ΑΚΡΥΛΙΚΑ ΠΟΛΥΜΕΡΗ : Πρώτα πειραµατικά αποτελέσµατα αξιολόγησης ρητίνης θετικού τόνου µε δυνατότητα υδατικής εµφάνισης : Επιλογή διαλύτη-σταθερότητα διαλυµάτων : Θερµικός χαρακτηρισµός λεπτών υµενίων φωτοπολυµερικού υλικού µε βάση PHEMA : Χηµεία λιθογραφικής διεργασίας φωτοπολυµερικών υλικών µε βάση πολυ(µεθακρυλικό υδροξυαιθυλεστέρα) : Φασµατοσκοπία Μάζας, ΜS (α): Μελέτη PMMA (β): Μελέτη PΗΕMA : Φασµατοσκοπία Υπεριώδους-Ορατού, UV-Vis : (α): Επίδρασης της δόσης έκθεσης : (β): Επίδρασης της θερµοκρασίας πριν την έκθεση : Φασµατοσκοπία Υπερύθρου, FTIR : Λιθογραφικές επιπτώσεις φυσικοχηµικών µηχανισµών απευθείας διάσπασης ακρυλικών πολυµερών : Μικρολιθογραφικά αποτελέσµατα : Μελέτη επίδρασης παραµέτρων της λιθογραφικής διεργασίας (process study) (α): Επίδραση της θέρµανσης πριν από την έκθεση (β): Επίδραση των συνθηκών εµφάνισης. 123

7 : Μελέτη µηχανισµού εµφάνισης (dissolution mechanism) : Αντίσταση κατά την εγχάραξη µε πλάσµα (etch resistance) : Κατασκευή υποµικρονικών δοµών. 128 i) µε οπτική λιθογραφία βαθέος υπεριώδους. 128 ii) µε λιθογραφία δέσµης ηλεκτρονίων : ΜΙΚΡΟΛΙΘΟΓΡΑΦΙΚΑ ΥΛΙΚΑ ΑΡΝΗΤΙΚΟΥ ΤΟΝΟΥ ΜΕ ΒΑΣΗ Υ ΡΟΞΥ- ΥΠΟΚΑΤΕΣΤΗΜΕΝΑ ΑΚΡΥΛΙΚΑ ΠΟΛΥΜΕΡΗ : Παρασκευή και πρώτη αξιολόγηση χηµικά ενισχυµένης ρητίνης µε βάση PHEMA : Παρασκευή και σύσταση των διαλυµάτων της νέας ρητίνης (α): Έλεγχος της επίδρασης του διαλύτη (β): Επιλογή φωτοευαίσθητης ουσίας : Βελτιστοποίηση της λιθογραφικής διεργασίας : Επίδραση της θερµοκρασίας και του χρόνου θέρµανσης πριν την έκθεση : Επίδραση της θερµοκρασίας και του χρόνου θέρµανσης µετά την έκθεση : Επίδραση της καθυστέρησης µεταξύ έκθεσης και θέρµανσης µετά την έκθεση (Delay effect) : Επίδραση του εµφανιστή στη λιθογραφική διεργασία : Μηχανισµός χηµικής ενίσχυσης ρητίνης µε βάση πολυµεθακρυλικό υδροξυαιθυλεστέρα : Φασµατοσκοπία µάζας : Φασµατοσκοπία Υπερύθρου : Κατασκευή υποµικρονικών δοµών µε οπτική λιθογραφία βαθέος υπεριώδους : ΒΕΛΤΙΩΣΗ ΤΟΥ ΡΥΘΜΟΥ ΕΓΧΑΡΑΞΗΣ ΜΕ ΠΛΑΣΜΑ ΤΩΝ ΠΟΛΥΜΕΡΩΝ ΜΕ ΤΗ ΧΡΗΣΗ ΠΟΛΥΚΥΚΛΙΚΩΝ ΠΡΟΣΘΕΤΩΝ : Μετρήσεις ρυθµών εγχάραξης ακρυλικών πολυµερών : Βελτίωση του ρυθµού εγχάραξης των ακρυλικών πολυµερών :Λιθογραφικά αποτελέσµατα : Βελτιστοποίηση της απορρόφησης των ρητινών µε πρόσθετα. 174

8 : Λιθογραφικά αποτελέσµατα στο βαθύ υπεριώδες και στα 193 nm : Χαρακτηρισµός νέων χηµικών ενώσεων ως προσθέτων για τη βελτίωση του ρυθµού εγχάραξης των ρητινών : ΝΕΑ ΕΠΟΞΕΙ ΙΚΗ ΡΗΤΙΝΗ ΥΨΗΛΗΣ ΕΥΑΙΣΘΗΣΙΑΣ ΓΙΑ ΛΙΘΟΓΡΑΦΙΑ ΕΣΜΗΣ ΗΛΕΚΤΡΟΝΙΩΝ, ΑΚΤΙΝΩΝ Χ ΚΑΙ ΑΚΡΑΙΟΥ ΥΠΕΡΙΩ ΟΥΣ ΜΕ ΥΝΑΤΟΤΗΤΑ Υ ΑΤΙΚΗΣ ΕΜΦΑΝΙΣΗΣ :Χηµικά ενισχυµένη ρητίνη µε βάση µίγµα πολυ-υδροξυστυρενίου και εποξειδωµένου πολυµερούς νεολάκας : Παρασκευή και πρώτη λιθογραφική αξιολόγηση της χηµικά ενισχυµένης ρητίνης µίγµατος πολυ(παρα-υδροξυστυρενίου) και εποξειδωµένου πολυµερούς νεολάκας : Επίδραση της περιεκτικότητας του µίγµατος σε εποξειδωµένο πολυµερές στη λιθογραφική συµπεριφορά της νέας ρητίνης : Μηχανισµός αδιαλυτοποίησης της χηµικά ενισχυµένης ρητίνης ADEPR : Μικρολιθογραφικά αποτελέσµατα : Οπτικός χαρακτηρισµός υµενίων ρητίνης ADEPR µε τη χρήση µετρήσεων διαπερατότητας και την εφαρµογή του µοντέλου των Forouhi-Bloomer :Θεωρητική παρουσίαση του µοντέλου των Forouhi-Bloomer (FB) : Οπτικό µοντέλο χαρακτηρισµού λεπτών υµενίων : Εφαρµογή των αρχών του οπτικού και φυσικού µοντέλου στον υπολογισµό της διασποράς του δείκτη διάθλασης και του πάχους υµενίων ρητίνης ADEPR. 215 ΓΕΝΙΚΑ ΣΥΜΠΕΡΑΣΜΑΤΑ ΚΑΙ ΠΡΟΟΠΤΙΚΕΣ ΓΙΑ ΤΟ ΜΕΛΛΟΝ. 221 ΠΑΡΑΡΤΗΜΑ Α. ιαδικασία Κλασµάτωσης του πολυµερούς Epikote ΠΑΡΑΡΤΗΜΑ Β. Προσδιορισµός της περιοχής τιµών δ ενός πολυµερούς σε µια οµάδα διαλυτών. 229

9 ΠΑΡΑΡΤΗΜΑ Γ. οµές πολυµερών φωτοευαισθητοποιητών. 230 ΠΑΡΑΡΤΗΜΑ. Εξισώσεις οπτικού µοντέλου χαρακτηρισµού λεπτών υµενίων 232 ΣΥΝΤΜΗΣΕΙΣ 233 ΠΕΡΙΛΗΨΗ 235 ABSTRACT 237 ΒΙΒΛΙΟΓΡΑΦΙΑ 239

10 ΣΚΟΠΟΣ ΤΗΣ ΙΑΤΡΙΒΗΣ ΕΙΣΑΓΩΓΗ-ΣΚΟΠΟΣ ΤΗΣ ΙΑΤΡΙΒΗΣ Τα τελευταία 30 χρόνια η ζήτηση στην παγκόσµια αγορά των ηµιαγωγών παρουσιάζει µέση ετήσια αύξηση 15% περίπου. Αυτό οφείλεται κυρίως στη µείωση του κόστους της βιοµηχανικής παραγωγής και την καλύτερη απόδοση των ηµιαγώγιµων διατάξεων. Πιο συγκεκριµένα, τα τελευταία 20 χρόνια οι κρίσιµες διαστάσεις των ολοκληρωµένων κυκλωµάτων, ΟΚ, (τα ΟΚ αποτελούνται από ηλεκτρονικές διατάξεις, κυρίως τρανζίστορς, οι οποίες συνδέονται κατάλληλα µεταξύ τους, ώστε να επιτελείται µια επιθυµητή λειτουργία [1]) έχουν µειωθεί στο ένα πέµπτο (από 1.25µm σε 0.25µm), ενώ ταυτόχρονα επιτυγχάνεται µέση ετήσια µείωση του κόστους κατασκευής µιας ηλεκτρονικής διάταξης κατά 25-30% περίπου. Η πρόοδος αυτή αποδίδεται κατά κύριο λόγο στον τοµέα της Λιθογραφίας και δε θα ήταν υπερβολή να τονισθεί ότι η εξέλιξη της Μικροηλεκτρονικής καθορίζεται από το βαθµό προόδου της Λιθογραφίας τόσο στον τοµέα των πηγών έκθεσης, όσο και στον τοµέα των υλικών και των διεργασιών που χρησιµοποιεί [2]. Οι πηγές ακτινοβολίας αρχικά ήταν οπτικές και χρησιµοποιούσαν λάµπες Hg-Xe µε µήκη κύµατος φωτός 436nm και 365nm. Τα τελευταία χρόνια έχει επιτευχθεί η κατασκευή νέων συστηµάτων οπτικής λιθογραφίας που χρησιµοποιούν ως πηγές laser και παράγουν ακτινοβολία σε διαρκώς ελαττούµενα µήκη κύµατος: 248 nm (laser KrF), 193 nm (laser ArF), έρευνα στα 157 nm (laser F 2 ), αλλά απαιτούν τη χρήση ειδικών φακών και οπτικών συστηµάτων γενικότερα. Πρέπει να σηµειωθεί πως η έρευνα στον τοµέα των συστηµάτων λιθογραφίας εξαρτάται από την αντίστοιχη έρευνα στον τοµέα των υλικών και των διεργασιών τους. Έτσι, τα πρώτα υλικά λιθογραφίας που χρησιµοποιήθηκαν ήταν κατάλληλα για έκθεση σε µήκος κύµατος 436nm και 365nm. Βασίζονταν σε αρωµατικά πολυµερή τύπου νεολάκας (παράγωγα κρεσόλης-φορµαλδεύδης) και περιείχαν διαζωναφθοκινόνη ως φωτοευαίσθητη ουσία [3,4]. Τα υλικά αυτά όµως δεν ήταν κατάλληλα για µικρότερα µήκη κύµατος, εξαιτίας της εξαιρετικά µεγάλης απορρόφησης του φωτός µε µήκος κύµατος 248 nm από το σύστηµα νεολάκας-διαζωναφθοκινόνης. Ωστόσο, βρέθηκε ότι ορισµένα άλλα αρωµατικά πολυµερή, και συγκεκριµένα το πολυ(παρα υδροξυστυρένιο) και µερικά παράγωγά του, παρουσιάζουν επιτρεπτές τιµές απορρόφησης σε µήκος 1

11 ΕΙΣΑΓΩΓΗ κύµατος περίπου 248 nm [5,6] και έτσι µπορούσαν να χρησιµοποιηθούν επιτυχώς για λιθογραφία. Ταυτόχρονα, η παρουσία αρωµατικών δακτυλίων στο µόριο του υλικού επέδιδε την επιθυµητή ιδιότητα της υψηλής αντίστασης κατά την εγχάραξή του µε πλάσµα αερίων, όπως άλλωστε συνέβαινε και στα 436 nm και 365 nm µε τα πολυµερή νεολάκας. Πρέπει να σηµειωθεί ότι η εισαγωγή των νέων πηγών ακτινοβολίας στη λιθογραφία, όπου απαιτούνται περίπλοκα και ιδιαίτερα υψηλού κόστους οπτικά τµήµατα και φακοί, δηµιούργησε την ανάγκη για πολυµερικά υλικά υψηλής ευαισθησίας, προκειµένου να ελαττωθεί ο χρόνος αντινοβόλησής τους, ώστε να αυξηθεί ο χρόνος ζωής τους. Ο µικρότερος απαιτούµενος χρόνος ακτινοβόλησης του υλικού έχει ως συνέπεια την αύξηση του αριθµού των δειγµάτων που µπορούν να ακτινοβοληθούν σε ορισµένο χρόνο, αυξάνοντας έτσι την απόδοση του συστήµατος. Για τους παραπάνω λόγους αναπτύχθηκαν υλικά λιθογραφίας, που βασίζονταν στην ιδέα της χηµικής ενίσχυσης [7-9]. ηλαδή, το λιθογραφικό υλικό εκτός από την πολυµερική µήτρα περιέχει κατάλληλη φωτοευαίσθητη ουσία, η οποία στη διάρκεια της έκθεσης απορροφά φως και παράγει οξύ, το οποίο στη συνέχεια προκαλεί χηµικές αντιδράσεις που αλλάζουν τη διαλυτότητα του αρχικού υλικού (σηµειώνεται ότι το οξύ µπορεί να συµµετέχει στην αντίδραση ή απλώς να δρα ως καταλύτης). Χηµικά ενισχυµένες ρητίνες µε βάση αρωµατικά και εποξειδικά πολυµερή χρησιµοποιούνται εδώ και πολλά χρόνια στην οπτική [5], τη λιθογραφία δέσµης ηλεκτρονίων [6], αλλά και σε εφαρµογές στη Μικροµηχανική [10,11]. Κατά το πέρασµα από τα 248 nm στα 193 nm παρουσιάστηκε και πάλι επιτακτική η ανάγκη για χρήση νέων υλικών κατάλληλων για λιθογραφία, ώστε να αντικαταστήσουν τα αρωµατικά πολυµερή, των οποίων η απορρόφηση στο νέο µήκος κύµατος είναι ανεπίτρεπτα υψηλή [12]. Βρέθηκε ότι τα ακρυλικά πολυµερή παρουσιάζουν χαµηλές τιµές απορρόφησης στο µήκος κύµατος που ενδιαφέρει και για το λόγο αυτό αποφασίστηκε η χρησιµοποίησή τους σε νέα υλικά λιθογραφίας για έκθεση στα 193 nm. Πρέπει να σηµειωθεί ότι πολυµερικά υλικά µε βάση ακρυλικά πολυµερή, όπως ο πολυ(µεθακρυλικός µεθυλεστέρα) (PMMA), άρχισαν να χρησιµοποιούνται πολύ νωρίς στη λιθογραφία δέσµης ηλεκτρονίων κυρίως στην κατασκευή µασκών [13]. Ωστόσο, υλικά µε βάση το PMMA δεν µπορούσαν να χρησιµοποιηθούν στην οπτική λιθογραφία των 248 και 193nm, εξαιτίας της µεγάλης δόσης της ακτινοβολίας (µικρή ευαισθησία), που απαιτείται για να εµφανιστούν οι επιθυµητές δοµές. Για τους λόγους αυτούς 2

12 ΣΚΟΠΟΣ ΤΗΣ ΙΑΤΡΙΒΗΣ θεωρούνται ιδανικά π.χ. για τα 193nm τα φωτοπολυµερικά υλικά µε ευαισθησίες της τάξεως των mj/cm 2. Στα πλαίσια της προσπάθειας βελτίωσης της ευαισθησίας του PMMA χρησιµοποιήθηκαν είτε συµπολυµερή του µε άλλα ακρυλικά µόρια (πχ µε µεθακρυλικό οξύ ΜΑΑ) [14], είτε αλκυλ-α-αλογονοακρυλικά πολυµερή [15], όπως ο πολυ(α-φθορο- µεθυλεστέρας) [16] και ο πολυ(α-χλωρο τριφθοροαιθυλεστέρας) [17,18]. Το PMMA εξακολουθεί να αποτελεί µια από τις σηµαντικότερες ρητίνες θετικού τόνου στο χώρο της λιθογραφίας δέσµης ηλεκτρονίων [19,20], κυρίως σε ερευνητικές εφαρµογές όπου ο χρόνος έκθεσης δεν είναι τόσο σηµαντική παράµετρος. Σηµαντικό µειονέκτηµα του πολυµεθακρυλικού µεθυλεστέρα αποτελεί το γεγονός ότι για την εµφάνιση των υµενίων της ρητίνης µετά την έκθεση απαιτούνται οργανικοί εµφανιστές (PGMEA ή διαλύµατά του µε ισοπροπανόλη, IPA), τη στιγµή που συντελείται µεγάλη προσπάθεια να χρησιµοποιούνται στη Λιθογραφία κατ αποκλειστικότητα ήπιοι, φιλικοί στο περιβάλλον εµφανιστές και κυρίως υδατικά διαλύµατα βάσεων µικρής κανονικότητας. Τα ακρυλικά πολυµερή, αν και εµφανίζουν ικανοποιητική απορρόφηση στην περιοχή των 193 nm, ωστόσο παρουσιάζουν ιδιαίτερα φτωχή αντίσταση κατά την εγχάραξή τους µε πλάσµα [21]. Για το λόγο αυτό επιδιώχθηκε η σύνθεση συµπολυµερών, που να περιέχουν κατάλληλη οµάδα για ενισχυµένη αντίσταση στο πλάσµα [22] ή η εισαγωγή πρόσθετων ανόργανων συστατικών (πχ C 60 ) σε ορισµένα ποσοστά επί του ακρυλικού πολυµερούς [23]. Για λιθογραφία σε µήκη κύµατος 157 nm προτείνονται υλικά που βασίζονται σε πολυµερή µε µεγάλο αριθµό δεσµών C-F ή Si-O [24], ενώ για ακόµα µικρότερα µήκη κύµατος (13 nm) αλλά και ακτίνες Χ αρωµατικά πολυµερή αντίστοιχα εκείνων που χρησιµοποιήθηκαν στα 248 nm αναµένεται να παίξουν πολύ σηµαντικό ρόλο στη λιθογραφία [25]. Εποµένως, ιδιαίτερο ενδιαφέρον εµφανίζει η βελτίωση των ιδιοτήτων υλικών που έχουν ήδη χρησιµοποιηθεί για έκθεση στα 248 nm ή και σε δέσµη ηλεκτρονίων, όπως τα υλικά αρνητικού τόνου µε βάση πολυµερή εποξειδωµένης νεολάκας. Τα υλικά αυτά έχουν πολύ καλή ευαισθησία και διακριτική ικανότητα, παρουσιάζουν όµως το µειονέκτηµα ότι απαιτούν εµφάνιση σε οργανικό διαλύτη. Τέλος, αξίζει να επισηµανθεί ότι στον ευρύτερο χώρο της κατασκευής µικροσυστηµάτων τα υλικά που έχουν χρησιµοποιηθεί παλαιότερα στην κατασκευή ΟΚ 3

13 ΕΙΣΑΓΩΓΗ βρίσκουν νέες εφαρµογές. Τέτοια είναι τα υλικά µε βάση εποξειδικά πολυµερή (SU-8) [26], που χρησιµοποιούνται στη µικροµηχανική. Για τους παραπάνω λόγους έχει µεγάλη σηµασία γενικότερα η µελέτη και η κατανόηση των µηχανισµών αλλαγής διαλυτότητας των φωτοευαίσθητων πολυµερικών υλικών που χρησιµοποιούνται στη λιθογραφία, όπως ακρυλικά πολυµερή µε κατάλληλες δραστικές οµάδες και πολυµερή εποξειδικής βάσης. Αντικείµενο της ιατριβής Στόχος της διατριβής αυτής είναι η φυσικοχηµική µελέτη και η λιθογραφική αξιολόγηση νέων φωτοπολυµερικών υλικών µε βάση υδροξυ-υποκατεστηµένα ακρυλικά πολυµερή, που είναι κατάλληλα για λιθογραφία οπτική και δέσµης ηλεκτρονίων, καθώς και υλικών µε βάση αρωµατικά πολυµερή για λιθογραφία άπω υπεριώδους και ακτίνων Χ. Επιδιώκεται ιδιαίτερα η ανάπτυξη υλικών µε τη δυνατότητα της υδατικής εµφάνισης. Τα υλικά αυτά πρέπει πέραν των άλλων ιδιοτήτων (κατάλληλη ευαισθησία, υψηλή διακριτική ικανότητα αποτύπωσης δοµών) να εµφανίζουν ικανοποιητική αντίσταση κατά την εγχάραξή τους µε πλάσµα. Για το σκοπό αυτό σε ακρυλικά φωτοπολυµερή προστέθηκαν µικρά ποσοστά παραγώγων του αδαµαντανίου (κυκλοαλειφατικές ενώσεις) και του ανθρακενίου (αρωµατικές ενώσεις) καθώς και µικτών ουσιών (που περιέχουν δακτυλίους ανθρακενίου ή/και αδαµαντανίου σε συνδυασµό µε άλλες οµάδες). Τέλος, σηµαντικός στόχος είναι η αποκάλυψη του µηχανισµού αλλαγής διαλυτότητας που οφείλεται στην έκθεση των φωτοπολυµερικών υλικών µε υπεριώδες φως. 4

14 ΘΕΩΡΗΤΙΚΟ ΜΕΡΟΣ 1. ΘΕΩΡΗΤΙΚΟ ΜΕΡΟΣ 1.1: ΕΞΕΛΙΞΗ ΤΗΣ ΤΕΧΝΟΛΟΓΙΑΣ ΣΤΗ ΜΙΚΡΟΗΛΕΚΤΡΟΝΙΚΗ ΠΥΡΙΤΙΟΥ 1.1.1: Ιστορική αναδροµή Αντικείµενο της Μικροηλεκτρονικής είναι ο σχεδιασµός και η κατασκευή Ολοκληρωµένων Κυκλωµάτων (ΟΚ), χρησιµοποιώντας ηµιαγώγιµα υλικά (κυρίως πυρίτιο Si, αλλά και γερµάνιο Ge, αρσενικούχο γάλλιο GaAs κλπ). Τα ΟΚ αποτελούνται κυρίως από τρανζίστορς και χαρακτηρίζονται από υψηλή ταχύτητα λειτουργίας, µεγάλη πυκνότητα (µεγάλος αριθµός τρανζίστορς ανά τετραγωνικό εκατοστό), µικρό µέγεθος και µεγάλο αριθµό λειτουργιών ανά ψηφίδα (chip). Ιστορικά αναφέρετα ότι κρυσταλλικές ηµιαγώγιµες διατάξεις χρησιµοποιήθηκαν ως ανιχνευτές από τις πρώτες µέρες του ραδιοφώνου, ενώ δίοδοι επαφής κατασκευασµένες από γερµάνιο εµφανίζονται για πρώτη φορά στη διάρκεια του δευτέρου παγκοσµίου πολέµου, χρησιµοποιούµενες κυρίως σε ραντάρ. Η κατασκευή του πρώτου τρανζίστορ επαφής ανακοινώθηκε το 1948 [27]. Από τότε η εξέλιξη των ΟΚ υπήρξε ραγδαία τόσο στον αριθµό των τρανζίστορς όσο και στο µέγεθός τους. Ενδεικτικά αναφέρεται ότι ένα ΟΚ από 8000 περίπου τρανζίστορς και 5-6µm κρίσιµες διαστάσεις (critical dimention) (Large Scale of Integration, LSI, ολοκλήρωση υψηλής βαθµίδας) που είχε το 1980 έφθασε το 1992 να περιέχει µερικά εκατοµµύρια τρανζίστορς και η κρίσιµη διάσταση να έχει περιοριστεί σε 0.6 µm (Very Large Scale of Integration, VLSI, ολοκλήρωση πολύ υψηλής βαθµίδας). Το 1997 η διάσταση ήταν της τάξεως των 0.35 µm, ενώ σήµερα είναι κάτω των 0.15 µm (Ultra Large Scale of Integration, ULSI, ολοκλήρωση πάρα πολύ υψηλής βαθµίδας). Κάθε ΟΚ περιέχει 10 8 τρανζίστορς, ενώ οι διατάξεις λειτουργούν µε ταχύτητα της τάξεως του 1GHz. Επειδή η ερευνητική δραστηριότητα είναι πολύ έντονη προβλέπεται ότι στο εγγύς µέλλον θα κατασκευαστούν ΟΚ µε εντυπωσιακά χαρακτηριστικά λειτουργίας, όπως για παράδειγµα η κρίσιµη διάσταση θα είναι µικρότερη από 0.07 µm, ο αριθµός των 5

15 ΜΙΚΡΟΗΛΕΚΤΡΟΝΙΚΗ ΠΥΡΙΤΙΟΥ τρανζίστορ ανά ΟΚ θα είναι της τάξεως του και η ταχύτητα λειτουργίας τους περίπου 10GHz. Αυτό θα επιτρέψει την κατασκευή υπολογιστικών συστηµάτων µε εξαιρετικά µεγάλη απόδοση. Είναι γνωστό ότι στην καρδιά ενός ηλεκτρονικού συστήµατος, που αποτελεί και την ευρύτερη χρήση ενός ΟΚ, βρίσκεται η κεντρική µονάδα επεξεργασίας. Αυτή η µονάδα αποτελείται από ηµιαγώγιµες ηλεκτρονικές διατάξεις, οι οποίες ανήκουν σε ένα ή περισσότερα ΟΚ. Εξίσου σηµαντική όµως είναι η εφαρµογή των ΟΚ στις τηλεπικοινωνίες, και ιδιαίτερα στην κινητή τηλεφωνία, στον τοµέα της ενέργειας, στα ιατρικά ηλεκτρονικά όργανα, στα ηλεκτρονικά αυτοκινήτων, σε διαστηµικές εφαρµογές, στον τοµέα του ελέγχου των βιοµηχανικών διαδικασιών κλπ. Είναι γεγονός ότι ο τοµέας των ηλεκτρονικών είναι ένας από τους κυριότερους παράγοντες βιοµηχανικής και οικονοµικής ανάπτυξης. Αυτή η πρόοδος όµως θα ήταν αδύνατη, αν δεν είχε προηγηθεί η ανάπτυξη της τεχνολογίας των ηµιαγωγών γενικά και του πυριτίου ειδικότερα. Υπολογίζεται ότι το πυρίτιο (Si) θα συνεχίσει να υπερισχύει των άλλων ηµιαγωγών στον τοµέα της τεχνολογίας. Υπολογίζεται ότι το υλικό αυτό θα καλύψει το 99% της αγοράς των ηµιαγωγών τα επόµενα χρόνια, ενώ οι άλλοι ηµιαγωγοί (όπως το GaAs, το InP και τα κράµατά τους) θα κατέχουν µόνο το υπόλοιπο 1% : ιεργασίες Μικροηλεκτρονικής Όπως ήδη αναφέρθηκε, η Μικροηλεκτρονική είναι ο κλάδος της τεχνολογίας που έχει ως αντικείµενο το σχεδιασµό και την κατασκευή ΟΚ. Στο Σχήµα 1 παρουσιάζεται η δοµή ενός MOS τρανζίστορ (metal oxide semiconductor, τρανζίστορ οξειδίου του µετάλου-ηµιαγωγού), που αποτελεί αντιπροσωπευτικό στοιχείο ΟΚ. Τα MOS τρανζίστορς σε διάφορες παραλλαγές είναι οι συνηθέστερες διατάξεις των ψηφιακών κυκλωµάτων και ιδιαίτερα της µνήµης και των επεξεργαστών των ηλεκτρονικών υπολογιστών. Στη σχηµατική αυτή τοµή παρατηρείται ότι επάνω στο ηµιαγώγιµο υπόστρωµα (συνήθως πρόκειται για πυρίτιο τύπου p ή τύπου n) έχει δηµιουργηθεί µια σειρά από λεπτά υµένια υλικών, είτε αγώγιµων όπως τα µέταλλα, είτε ηµιαγώγιµων όπως το πυρίτιο, είτε µονωτικών όπως το διοξείδιο του πυριτίου, στο καθένα από τα οποία έχει αποτυπωθεί κατάλληλο Σχήµα. Η τελική δοµή που προκύπτει έχει σχεδιαστεί µε τέτοιο τρόπο, ώστε να εκτελεί το ρόλο που απαιτεί το κύκλωµα. Σχετικά µε τον τρόπο λειτουργίας ενός τέτοιου τρανζίστορ αναφέρεται ότι το ρεύµα µπορεί να 6

16 ΘΕΩΡΗΤΙΚΟ ΜΕΡΟΣ διέλθει από το ηλεκτρόδιο «πηγή» S (saurce) στο ηλεκτρόδιο «απαγωγός» D (drain) και εξαρτάται από την τάση που εφαρµόζεται ανάµεσά τους και από τον αριθµό των φορέων που υπάρχουν στη µεταξύ τους περιοχή (κανάλι ή δίαυλος). Ο αριθµός των φορέων στο κανάλι καθορίζεται από την τάση του τρίτου ηλεκτροδίου, που ονοµάζεται «πύλη» G (gate). Σηµειώνεται ότι η ταχύτητα λειτουργίας µιας τέτοιας διάταξης εξαρτάται από την απόσταση που διανύουν οι φορείς κινούµενοι από την πηγή προς την καταβόθρα, δηλαδή από το µήκος του καναλιού. Μείωση αυτής της απόστασης (κρίσιµη διάσταση) έχει ως συνέπεια την αύξηση της ταχύτητας απόκρισης του τρανζίστορ, ενώ παράλληλα η ελάττωση του µεγέθους του επιτρέπει την τοποθέτηση µεγαλύτερου αριθµού τρανζίστορς στον ίδιο χώρο. Πηγή, Saurce Πύλη, Gate ιοξείδιο του πυριτίου, SiO 2 Απαγωγός, Drain n + n + υ π όστρωµα τύπου p Σχήµα 1: Απλοποιηµένη σχηµατική απεικόνιση της δοµής ενός τρανζίστορ MOS. Η κατασκευή µιας τέτοιας ηµιαγώγιµης διάταξης πάνω σε δισκίο πυριτίου περιλαµβάνει µια σειρά βηµάτων, όπως χαρακτηριστικά φαίνεται στο Σχήµα 2, όπου παρουσιάζεται µια απλοποιηµένη τυπική διαδικασία κατασκευής ενός MOS τρανζίστορ. Τα επιµέρους βήµατα της διαδικασίας αυτής οµαδοποιούνται σε δύο βασικές κατηγορίες: ιεργασίες διαµόρφωσης Σχήµατος. Θερµικές ιεργασίες, οι οποίες περιλαµβάνουν τρεις επιµέρους κατηγορίες διεργασιών και συγκεκριµένα: Εναπόθεση λεπτών υµενίων: περιλαµβάνει χηµικές (Chemical Vapor Deposition, CVD, δηλαδή χηµική εναπόθεση λεπτών υµενίων) και φυσικές (Physical Vapor Deposition, PVD, δηλαδή εναπόθεση λεπτών υµενίων µε 7

17 ΜΙΚΡΟΗΛΕΚΤΡΟΝΙΚΗ ΠΥΡΙΤΙΟΥ φυσικές µεθόδους π.χ. εξάχνωση) µεθόδους εναπόθεσης από ατµό µονωτικών ή µεταλλικών υµενίων σε κατάλληλους αντιδραστήρες. Οξείδωση: δηµιουργία οξειδίων που χρησιµοποιούνται ως πύλες ή οξείδια πεδίου (field oxides) για αποµόνωση των τρανζίστορς. ιάχυση/εµφύτευση: γίνεται εµφύτευση ατόµων κυρίως P, B και As σε περιοχές που δεν προστατεύονται από πολυµερικά υµένια ή οξείδια. Σχήµα 2: Απλοποιηµένη διαδικασία κατασκευής ενός MOS τρανζίστορ. Ο όρος ιεργασίες διαµόρφωσης Σχήµατος αναφέρεται σε δύο επιµέρους κατηγορίες διεργασιών: Λιθογραφία: ο όρος Λιθογραφία είναι ελληνικός και σηµαίνει «Γραφή επί Λίθου». Οι αρχαίοι τον χρησιµοποιούσαν, για να δηλώσουν την τέχνη που 8

18 ΘΕΩΡΗΤΙΚΟ ΜΕΡΟΣ περιελάµβανε σκάλισµα και ζωγραφική των µαρµάρων και άλλων λίθων. Σήµερα, στη Μικροηλεκτρονική ο όρος Λιθογραφία αναφέρεται στη διαδικασία αποτύπωσης ενός Σχήµατος πάνω σε φωτοπολυµερικό υµένιο [4,7,9]. Πρόκειται για το Σχήµα της µάσκας µέσα από την οποία ακτινοβολείται το φωτοπολυµερικό υλικό (για τα θετικού τόνου υλικά) ή για το αντίστροφό του (για τα αρνητικού τόνου υλικά). Εγχάραξη: Πρόκειται για διεργασία που σκοπό έχει τη µεταφορά του Σχήµατος (που αποτυπώθηκε στο φωτοπολυµερικό υµένιο) στο υπόστρωµα, το οποίο είναι συνήθως ένα από τα υµένια που χρειάζεται να σχηµατοποιηθεί για να δηµιουργηθεί το ΟΚ. Πραγµατοποιείται µε τη βοήθεια πλάσµατος που εγχαράσσει τις περιοχές του υποστρώµατος που δεν προστατεύονται από το φωτοπολυµερικό υµένιο µε ταχύτερο ρυθµό από εκείνον µε τον οποίο εγχαράσσεται το ίδιο το φωτοπολυµερές. Μετά το πέρας της λιθογραφίας και της εγχάραξης το υπόστρωµα έχει σχηµατοποιηθεί και µπορεί να ακολουθήσει επιπλέον επεξεργασία, όπως για παράδειγµα να σχηµατιστούν περιοχές µε φορείς πλειονότητας ηλεκτρόνια ή οπές (τύπου n και p αντίστοιχα) µε εµφύτευση κατάλληλων ιόντων, να σχηµατιστούν οι µεταλλικές επαφές (στην καταβόθρα, την πηγή, την πύλη) κτλ. 9

19 ΛΙΘΟΓΡΑΦΙΑ 1.2: ΛΙΘΟΓΡΑΦΙΑ-ΕΓΧΑΡΑΞΗ 1.2.1: Λιθογραφία: Ιστορική εξέλιξη. Η λιθογραφία µε τη σηµερινή της µορφή χρησιµοποιήθηκε για πρώτη φορά τη δεκαετία του 1950, οπότε στα εργαστήρια Bell κατασκευάστηκαν τα πρώτα τρανζίστορς πυριτίου [28]. Στις αρχές της δεκαετίας του 1960 η πρόοδος στον τοµέα αυτό ήταν τέτοια, ώστε να κατασκευάζονται διατάξεις µε κρίσιµη διάσταση 5µm. Η έκθεση των υλικών γινόταν µε φως µήκους κύµατος 436nm, µέσω µάσκας σε επαφή µε το πολυµερικό υµένιο (contact printing) [28]. Ένα από τα µεγαλύτερα προβλήµατα στη λιθογραφία της εποχής, που περιόριζε τη διακριτική ικανότητα της κατασκευαζόµενης ηλεκτρονικής διάταξης, ήταν η επιλογή των κατάλληλων ρητινών λιθογραφίας (φωτοή/και ακτινοευαίσθητα πολυµερικά υλικά). Τα υλικά αυτά αποτελούνταν από κυκλικούς δακτυλίους πολυισοπρενίων, που απορροφούν το υπεριώδες φως, σε συνδυασµό µε διαζίδια ως φωτοευαίσθητη ουσία [29]. Παρουσιάζουν όµως έντονο πρόβληµα διόγκωσης (swelling) στο στάδιο της εµφάνισης, επειδή προσροφούν σε µεγάλο ποσοστό το διάλυµα του εµφανιστή στις περιοχές που δεν διαλύονται, µε αποτέλεσµα να παραµορφώνεται το σχήµα τους και να περιορίζεται η διακριτική τους ικανότητα. Έτσι, ελάχιστη διάσταση που µπορούσε να επιτευχθεί ήταν 2-4 µm ανάλογα µε το πάχος της ρητίνης. Εποµένως, θεωρήθηκε σταθµός στην τεχνολογία της λιθογραφίας η εισαγωγή κατά τα µέσα της δεκαετίας του 1960 σειράς ρητινών AZ [28]. Αυτές είναι ρητίνες θετικού τόνου και αποτελούνται από πολυµερές κρεσόλης-φορµαλδεϋδης (νεολάκα), µε παράγωγα της διαζωναφθοκινόνης ως φωτοευαισθητοποιητές. Η έκθεσή τους γίνεται µε φως µήκους κύµατος 436nm (G-line πηγής Hg) και για την εµφάνισή τους χρησιµοποιούνται υδατικά διαλύµατα βάσης. Οι ρητίνες AZ δεν παρουσιάζουν καθόλου διόγκωση, µε αποτέλεσµα την επίτευξη µεγάλης διακριτικής ικανότητας. Όσον αφορά στα συστήµατα έκθεσης, εκείνη την περίοδο επικρατούσε η άποψη ότι δεν µπορούσε να ξεπεραστεί το φράγµα των 2µm ως κρίσιµη διάσταση δοµής µε οπτική λιθογραφία, εξαιτίας της περίθλασης και συναφών προβληµάτων των φακών. Θεωρήθηκε λοιπόν αναγκαία η χρήση άλλων τύπων ακτινοβολιών για έκθεση των ρητινών, όπως είναι η δέσµη ηλεκτρονίων [30]. 10

20 ΘΕΩΡΗΤΙΚΟ ΜΕΡΟΣ Οι πρώτες προσπάθειες στράφηκαν στη χρήση οπτικού συστήµατος ικανού να ανιχνεύει µια ευρεία περιοχή (8 10 ίντσες) και να δηµιουργεί το σήµα που θα κατηύθυνε τη δέσµη ηλεκτρονίων, η οποία µε τη σειρά της ανίχνευε µια πολύ µικρότερη περιοχή (1mm 2 ) στο δισκίο που ήταν τοποθετηµένο κάτω από αυτή. Το φως προερχόταν από έναν σωλήνα καθοδικών ακτίνων υψηλής διακριτικής ικανότητας (cathode ray tube, CRT) µε επιφάνεια της δέσµης 2 3 ίντσες και µεγενθυνόταν από ένα µεγάλο φακό, για να καλύψει µια περιοχή 8 10 ίντσες. Αξίζει να σηµειωθεί ότι η πρώτη ηλεκτρονική διάταξη (device) που κατασκευάστηκε µε δέσµη ηλεκτρονίων, ως πηγή ακτινοβόλησης, και µε θετικού τόνου ρητίνη, το πολυµερές του µεθακρυλικού µεθυλεστέρα (PMMA), περιείχε διπολικά (bipolars) τρανζίστορς, αλλά και τρανζίστορ επίδρασης πεδίου (FETs) µε ελάχιστη διάσταση του εκποµπού και της πύλης αντίστοιχα, µικρότερη του 1µm [30]. Από τότε µέχρι σήµερα έχει επιτελεστεί τεράστια πρόοδος στα συστήµατα έκθεσης µε δέσµη ηλεκτρονίων [31], ενώ παράλληλα κατασκευάστηκαν συστήµατα έκθεσης µε φως µήκους κύµατος 365nm (χρησιµοποιώντας ως πηγή ακτινοβολίας λυχνία Hg-Xe), 248nm 193nm, 157 nm (µε πηγές ακτινοβολίας excimer lasers) και ακτίνες Χ (χρησιµοποιώντας κυρίως πηγές σύγχροτρον). 11

21 ΛΙΘΟΓΡΑΦΙΑ 1.2.2: Η λιθογραφία στην κατασκευή των ηλεκτρονικών διατάξεων. Η λιθογραφία ή ακριβέστερα µικρολιθογραφία παίζει πρωτεύοντα ρόλο στις εξελίξεις της βιοµηχανίας των ηµιαγωγών. Αποτελεί επίσης σηµαντικό οικονοµικό παράγοντα αφού αντιπροσωπεύει πάνω από το 35% του κόστους παραγωγής των µικροτσίπς (microchips) [32]. Η λιθογραφική διαδικασία µε την οποία ξεκινά η κατασκευή µιας ηλεκτρονικής διάταξης είναι συνάρτηση τριών κυρίως παραγόντων [28]: 1) Ενός συστήµατος έκθεσης, το οποίο περιλαµβάνει και την πηγή ακτινοβολίας, της οποίας η δέσµη φωτός, ή ηλεκτρονίων, για την εγγραφή πρέπει να έχει µήκος κύµατος, ή διάµετρο αντίστοιχα, µικρότερο από την ελάχιστη επιθυµητή διάσταση του ΟΚ. Το σύστηµα αυτό απαιτεί ειδικό σύστηµα φακών υψηλού κόστους. 2) Ενός πολυµερικού υλικού (ρητίνη ή φωτοπολυµερικό υλικό ή ρεζίστ), (resist), που αποτελεί το «ενδιάµεσο» υλικό, στο οποίο εγγράφεται το επιθυµητό σχήµα (pattern) του ΟΚ και των διεργασιών (process) που απαιτούνται για τη σχηµατοποίηση αυτή. 3) Μιας σειράς διαδικασιών (εγχάραξη) για τη µεταφορά του σχήµατος από τη ρητίνη και την αποτύπωσή του πάνω στο υπόστρωµα, µε σκοπό τη δηµιουργία της επιθυµητής δοµής. Στο Σχήµα 3 φαίνονται τα βασικά στάδια της διαδικασίας αποτύπωσης σχήµατος πάνω στο υπόστρωµα, µέσω λιθογραφίας και εγχάραξης [33]. Σύµφωνα µε το σχήµα αυτό, η κατασκευή µιας διάταξης ξεκινά µε την επίστρωση σε επιφάνεια δισκίου πυριτίου ενός φωτο- ή ακτινοευαίσθητου πολυµερικού υλικού, της ρητίνης, µέσω ποικίλων τεχνικών, από τις οποίες συνηθέστερη είναι αυτή της περιστροφής του δισκίου µε χρήση µηχανικού περιστροφέα (spin coating). Το δισκίο ακολούθως θερµαίνεται σε πλάκα (hotplate) για φυσική αποµάκρυνση του εναποµείναντα διαλύτη στο εσωτερικό του υµενίου και οµαλοποίηση της επιφάνειας, αλλά και του εσωτερικού του υµενίου καθώς µειώνεται ο ελεύθερος όγκος του πολυµερούς. Στη συνέχεια γίνεται έκθεση σε φως ή δέσµη ηλεκτρονίων, µέσω µάσκας µε διαφανείς και αδιαφανείς περιοχές, για επιλεκτική ακτινοβόληση περιοχών του υµενίου, οπότε µεταβάλλεται η διαλυτότητα των ακτινοβοληµένων περιοχών. Στην περίπτωση των ρητινών θετικού τόνου κατά το στάδιο της εµφάνισης, που ακολουθεί, αποµακρύνονται από το διαλύτη (developer) οι ακτινοβοληµένες περιοχές, ενώ στις ρητίνες αρνητικού τόνου συµβαίνει ακριβώς το αντίθετο. ηλαδή οι ακτινοβοληµένες περιοχές δεν διαλύονται στον αρχικό διαλύτη του πολυµερικού υλικού, οπότε αποµακρύνονται µόνο 12

ΟΡΓΑΝΟΛΟΓΙΑ ΦΑΣΜΑΤΟΜΕΤΡΙΚΩΝ ΟΡΓΑΝΩΝ ΜΕΤΡΗΣΗΣ: ΑΠΟΡΡΟΦΗΣΗΣ ΦΘΟΡΙΣΜΟΥ, ΦΩΣΦΩΡΙΣΜΟΥ, ΣΚΕΔΑΣΗΣ ΕΚΠΟΜΠΗΣ, ΧΗΜΕΙΟΦΩΤΑΥΓΕΙΑΣ

ΟΡΓΑΝΟΛΟΓΙΑ ΦΑΣΜΑΤΟΜΕΤΡΙΚΩΝ ΟΡΓΑΝΩΝ ΜΕΤΡΗΣΗΣ: ΑΠΟΡΡΟΦΗΣΗΣ ΦΘΟΡΙΣΜΟΥ, ΦΩΣΦΩΡΙΣΜΟΥ, ΣΚΕΔΑΣΗΣ ΕΚΠΟΜΠΗΣ, ΧΗΜΕΙΟΦΩΤΑΥΓΕΙΑΣ ΟΡΓΑΝΟΛΟΓΙΑ ΦΑΣΜΑΤΟΜΕΤΡΙΚΩΝ ΟΡΓΑΝΩΝ ΜΕΤΡΗΣΗΣ: ΑΠΟΡΡΟΦΗΣΗΣ ΦΘΟΡΙΣΜΟΥ, ΦΩΣΦΩΡΙΣΜΟΥ, ΣΚΕΔΑΣΗΣ ΕΚΠΟΜΠΗΣ, ΧΗΜΕΙΟΦΩΤΑΥΓΕΙΑΣ ΠΗΓΕΣ ΑΚΤΙΝΟΒΟΛΙΑΣ ΣΥΝΕΧΕΙΣ ΠΗΓΕΣ ΠΗΓΕΣ ΓΡΑΜΜΩΝ ΚΟΙΛΗΣ ΚΑΘΟΔΟΥ & ΛΥΧΝΙΕΣ ΕΚΚΕΝΩΣΕΩΝ

Διαβάστε περισσότερα

Οι ακτίνες Χ είναι ηλεκτροµαγνητική ακτινοβολία µε λ [10-9 -10-12 m] (ή 0,01-10Å) και ενέργεια φωτονίων kev.

Οι ακτίνες Χ είναι ηλεκτροµαγνητική ακτινοβολία µε λ [10-9 -10-12 m] (ή 0,01-10Å) και ενέργεια φωτονίων kev. Οι ακτίνες Χ είναι ηλεκτροµαγνητική ακτινοβολία µε λ [10-9 -10-12 m] (ή 0,01-10Å) και ενέργεια φωτονίων kev. To ορατό καταλαµβάνει ένα πολύ µικρό µέρος του ηλεκτροµαγνητικού φάσµατος: 1,6-3,2eV. Page 1

Διαβάστε περισσότερα

6.10 Ηλεκτροµαγνητικά Κύµατα

6.10 Ηλεκτροµαγνητικά Κύµατα Πρόταση Μελέτης Λύσε απο τον Α τόµο των Γ. Μαθιουδάκη & Γ.Παναγιωτακόπουλου τις ακόλουθες ασκήσεις : 11.1-11.36, 11.46-11.50, 11.52-11.59, 11.61, 11.63, 11.64, 1.66-11.69, 11.71, 11.72, 11.75-11.79, 11.81

Διαβάστε περισσότερα

Ύλη ένατου µαθήµατος. Οπτικό µικροσκόπιο, Ηλεκτρονική µικροσκοπία σάρωσης, Ηλεκτρονική µικροσκοπία διέλευσης.

Ύλη ένατου µαθήµατος. Οπτικό µικροσκόπιο, Ηλεκτρονική µικροσκοπία σάρωσης, Ηλεκτρονική µικροσκοπία διέλευσης. ιάλεξη 9 η Ύλη ένατου µαθήµατος Οπτικό µικροσκόπιο, Ηλεκτρονική µικροσκοπία σάρωσης, Ηλεκτρονική µικροσκοπία διέλευσης. Μέθοδοι µικροσκοπικής ανάλυσης των υλικών Οπτική µικροσκοπία (Optical microscopy)

Διαβάστε περισσότερα

ΕΡΓΑΣΤΗΡΙΟ 8 (ΦΡΟΝΤΙΣΤΗΡΙΟ) ΦΑΣΜΑΤΟΦΩΤΟΜΕΤΡΙΚΗ ΑΝΑΛΥΣΗ

ΕΡΓΑΣΤΗΡΙΟ 8 (ΦΡΟΝΤΙΣΤΗΡΙΟ) ΦΑΣΜΑΤΟΦΩΤΟΜΕΤΡΙΚΗ ΑΝΑΛΥΣΗ ΕΡΓΑΣΤΗΡΙΟ 8 (ΦΡΟΝΤΙΣΤΗΡΙΟ) ΦΑΣΜΑΤΟΦΩΤΟΜΕΤΡΙΚΗ ΑΝΑΛΥΣΗ Με τον όρο αυτό ονοµάζουµε την τεχνική ποιοτικής και ποσοτικής ανάλυσης ουσιών µε βάση το µήκος κύµατος και το ποσοστό απορρόφησης της ακτινοβολίας

Διαβάστε περισσότερα

Το υποσύστηµα "αίσθησης" απαιτήσεις και επιδόσεις φυσικά µεγέθη γενική δοµή και συγκρότηση

Το υποσύστηµα αίσθησης απαιτήσεις και επιδόσεις φυσικά µεγέθη γενική δοµή και συγκρότηση Το υποσύστηµα "αίσθησης" απαιτήσεις και επιδόσεις φυσικά µεγέθη γενική δοµή και συγκρότηση Το υποσύστηµα "αίσθησης" είσοδοι της διάταξης αντίληψη του "περιβάλλοντος" τροφοδοσία του µε καθορίζει τις επιδόσεις

Διαβάστε περισσότερα

Εισαγωγή Σε Ολοκληρωµένα Κυκλώµατα (Microchips) Αναλογικά ή Ψηφιακά Κυκλώµατα;

Εισαγωγή Σε Ολοκληρωµένα Κυκλώµατα (Microchips) Αναλογικά ή Ψηφιακά Κυκλώµατα; Εισαγωγή Σε Ολοκληρωµένα Κυκλώµατα (Microchips) ρ. Ιούλιος Γεωργίου Further Reading Texts: Design of Analog CMOS Integrated Circuits Behzad Razavi Microelectronic Circuits, Sedra & Smith Αναλογικά ή Ψηφιακά

Διαβάστε περισσότερα

γ ρ α π τ ή ε ξ έ τ α σ η σ τ ο μ ά θ η μ α Φ Υ Σ Ι Κ Η Γ Ε Ν Ι Κ Η Σ Π Α Ι Δ Ε Ι Α Σ B Λ Υ Κ Ε Ι Ο Υ

γ ρ α π τ ή ε ξ έ τ α σ η σ τ ο μ ά θ η μ α Φ Υ Σ Ι Κ Η Γ Ε Ν Ι Κ Η Σ Π Α Ι Δ Ε Ι Α Σ B Λ Υ Κ Ε Ι Ο Υ η εξεταστική περίοδος από 9//5 έως 9//5 γ ρ α π τ ή ε ξ έ τ α σ η σ τ ο μ ά θ η μ α Φ Υ Σ Ι Κ Η Γ Ε Ν Ι Κ Η Σ Π Α Ι Δ Ε Ι Α Σ B Λ Υ Κ Ε Ι Ο Υ Τάξη: Β Λυκείου Τμήμα: Βαθμός: Ονοματεπώνυμο: Καθηγητής: Θ

Διαβάστε περισσότερα

Φασματοσκοπία SIMS (secondary ion mass spectrometry) Φασματοσκοπία μάζης δευτερογενών ιόντων

Φασματοσκοπία SIMS (secondary ion mass spectrometry) Φασματοσκοπία μάζης δευτερογενών ιόντων Φασματοσκοπία SIMS (secondary ion mass spectrometry) Φασματοσκοπία μάζης δευτερογενών ιόντων Ιόντα με υψηλές ενέργειες (συνήθως Ar +, O ή Cs + ) βομβαρδίζουν την επιφάνεια του δείγματος sputtering ουδετέρων

Διαβάστε περισσότερα

ΕΡΓΑΣΤΗΡΙΟ 2 ΗΛΕΚΤΡΟΜΑΓΝΗΤΙΚΗ ΑΚΤΙΝΟΒΟΛΙΑ

ΕΡΓΑΣΤΗΡΙΟ 2 ΗΛΕΚΤΡΟΜΑΓΝΗΤΙΚΗ ΑΚΤΙΝΟΒΟΛΙΑ ΕΡΓΑΣΤΗΡΙΟ 2 ΗΛΕΚΤΡΟΜΑΓΝΗΤΙΚΗ ΑΚΤΙΝΟΒΟΛΙΑ 1. Εισαγωγή. Η ενέργεια, όπως είναι γνωστό από τη φυσική, διαδίδεται με τρεις τρόπους: Α) δι' αγωγής Β) δια μεταφοράς Γ) δι'ακτινοβολίας Ο τελευταίος τρόπος διάδοσης

Διαβάστε περισσότερα

Μοριακή Φασματοσκοπία I. Παραδόσεις μαθήματος Θ. Λαζαρίδης

Μοριακή Φασματοσκοπία I. Παραδόσεις μαθήματος Θ. Λαζαρίδης Μοριακή Φασματοσκοπία I Παραδόσεις μαθήματος Θ. Λαζαρίδης 2 Τι μελετά η μοριακή φασματοσκοπία; Η μοριακή φασματοσκοπία μελετά την αλληλεπίδραση των μορίων με την ηλεκτρομαγνητική ακτινοβολία Από τη μελέτη

Διαβάστε περισσότερα

Επαναληπτικό διαγώνισµα στα Κύµατα

Επαναληπτικό διαγώνισµα στα Κύµατα ΦΡΟΝΤΙΣΤΗΡΙΟ ΜΕΤΑΙΧΜΙΟ 1 Επαναληπτικό διαγώνισµα στα Κύµατα Θέµα 1 0 Να γράψετε στο τετράδιό σας τον αριθµό καθεµιάς από τις παρακάτω ερωτήσεις 1-4 και δίπλα το γράµµα που αντιστοιχεί στη σωστή απάντηση.

Διαβάστε περισσότερα

Εφαρμογές των Laser στην Φ/Β τεχνολογία: πιο φτηνό ρεύμα από τον ήλιο

Εφαρμογές των Laser στην Φ/Β τεχνολογία: πιο φτηνό ρεύμα από τον ήλιο Εφαρμογές των Laser στην Φ/Β τεχνολογία: πιο φτηνό ρεύμα από τον ήλιο Μιχάλης Κομπίτσας Εθνικό Ίδρυμα Ερευνών, Ινστιτούτο Θεωρ./Φυσικής Χημείας (www.laser-applications.eu) 1 ΠΕΡΙΕΧΟΜΕΝΑ ΤΗΣ ΟΜΙΛΙΑΣ 1.

Διαβάστε περισσότερα

ΟΡΟΣΗΜΟ ΓΛΥΦΑΔΑΣ. 7.1 Τι είναι το ταλαντούμενο ηλεκτρικό δίπολο; Πως παράγεται ένα ηλεκτρομαγνητικό

ΟΡΟΣΗΜΟ ΓΛΥΦΑΔΑΣ. 7.1 Τι είναι το ταλαντούμενο ηλεκτρικό δίπολο; Πως παράγεται ένα ηλεκτρομαγνητικό ΚΕΦΑΛΑΙΟ 2 Ηλεκτρομαγνητικά κύματα. Ηλεκτρομαγνητικά κύματα 7. Τι είναι το ταλαντούμενο ηλεκτρικό δίπολο; Πως παράγεται ένα ηλεκτρομαγνητικό κύμα; 7.2 Ποιες εξισώσεις περιγράφουν την ένταση του ηλεκτρικού

Διαβάστε περισσότερα

Πώς γίνεται η µετάδοση των δεδοµένων µέσω οπτικών ινών:

Πώς γίνεται η µετάδοση των δεδοµένων µέσω οπτικών ινών: 1 ΔΟΜΗ ΟΠΤΙΚΗΣ ΙΝΑΣ Κάθε οπτική ίνα αποτελείται από τρία μέρη: Την κεντρική γυάλινη κυλινδρική ίνα, που ονομάζεται πυρήνας(core core) και είναι το τμήμα στο οποίο διαδίδεται το φως. Την επικάλυψη (απλή

Διαβάστε περισσότερα

ΦΥΣΙΚΗ ΓΕΝΙΚΗΣ ΠΑΙΔΕΙΑΣ

ΦΥΣΙΚΗ ΓΕΝΙΚΗΣ ΠΑΙΔΕΙΑΣ 5 ΧΡΟΝΙΑ ΕΜΠΕΙΡΙΑ ΣΤΗΝ ΕΚΠΑΙΔΕΥΣΗ ΦΥΣΙΚΗ ΓΕΝΙΚΗΣ ΠΑΙΔΕΙΑΣ ΘΕΜΑΤΑ ΘΕΜΑ Α Στις ερωτήσεις Α-Α να γράψετε στο τετράδιό σας τον αριθμό της ερώτησης και δίπλα το γράμμα που αντιστοιχεί στη σωστή φράση, η οποία

Διαβάστε περισσότερα

Όλα τα θέματα των εξετάσεων έως και το 2014 σε συμβολή, στάσιμα, ηλεκτρομαγνητικά κύματα, ανάκλαση - διάθλαση Η/Μ ΚΥΜΑΤΑ. Ερωτήσεις Πολλαπλής επιλογής

Όλα τα θέματα των εξετάσεων έως και το 2014 σε συμβολή, στάσιμα, ηλεκτρομαγνητικά κύματα, ανάκλαση - διάθλαση Η/Μ ΚΥΜΑΤΑ. Ερωτήσεις Πολλαπλής επιλογής Η/Μ ΚΥΜΑΤΑ 1. Τα ηλεκτροµαγνητικά κύµατα: Ερωτήσεις Πολλαπλής επιλογής α. είναι διαµήκη. β. υπακούουν στην αρχή της επαλληλίας. γ. διαδίδονται σε όλα τα µέσα µε την ίδια ταχύτητα. δ. Δημιουργούνται από

Διαβάστε περισσότερα

6. Ατομικά γραμμικά φάσματα

6. Ατομικά γραμμικά φάσματα 6. Ατομικά γραμμικά φάσματα Σκοπός Κάθε στοιχείο έχει στην πραγματικότητα ένα χαρακτηριστικό γραμμικό φάσμα, οφειλόμενο στην εκπομπή φωτός από πυρωμένα άτομα του στοιχείου. Τα φάσματα αυτά μπορούν να χρησιμοποιηθούν

Διαβάστε περισσότερα

ΜΕΛΕΤΗ ΧΑΜΗΛΟ ΙΑΣΤΑΤΩΝ ΣΥΣΤΗΜΑΤΩΝ ΒΑΣΙΖΟΜΕΝΩΝ ΣΤΟ SiC

ΜΕΛΕΤΗ ΧΑΜΗΛΟ ΙΑΣΤΑΤΩΝ ΣΥΣΤΗΜΑΤΩΝ ΒΑΣΙΖΟΜΕΝΩΝ ΣΤΟ SiC ΤΙΤΛΟΣ Ι ΑΚΤΟΡΙΚΗΣ ΙΑΤΡΙΒΗΣ: ΜΕΛΕΤΗ ΧΑΜΗΛΟ ΙΑΣΤΑΤΩΝ ΣΥΣΤΗΜΑΤΩΝ ΒΑΣΙΖΟΜΕΝΩΝ ΣΤΟ SiC Λαφατζής ηµήτριος Υποψήφιος διδάκτωρ στο Α.Π.Θ. Τµήµα Φυσικής ΤΡΙΜΕΛΗΣ ΕΠΙΤΡΟΠΗ: Καθηγ. ΛΟΓΟΘΕΤΙ ΗΣ ΣΤΕΡΓΙΟΣ (Τµ. Φυσικής,

Διαβάστε περισσότερα

ιάδοση κυµάτων σε διηλεκτρικά. Απορρόφυση ακτινοβολίας. Μέρος 1ον : ιάδοση κυµάτων σε διηλεκτρικά.

ιάδοση κυµάτων σε διηλεκτρικά. Απορρόφυση ακτινοβολίας. Μέρος 1ον : ιάδοση κυµάτων σε διηλεκτρικά. ρ. Χ. Βοζίκης Εργαστήριο Φυσικής ΙΙ 53 ιάδοση κυµάτων σε διηλεκτρικά. Απορρόφυση ακτινοβολίας. 5. Άσκηση 5 5.1 Σκοπός της εργαστηριακής άσκησης Σκοπός της άσκησης είναι η γνωριµία των σπουδαστών µε την

Διαβάστε περισσότερα

Όλα τα θέματα των εξετάσεων έως και το 2014 σε συμβολή, στάσιμα, ηλεκτρομαγνητικά κύματα, ανάκλαση - διάθλαση ΑΝΑΚΛΑΣΗ ΔΙΑΘΛΑΣΗ

Όλα τα θέματα των εξετάσεων έως και το 2014 σε συμβολή, στάσιμα, ηλεκτρομαγνητικά κύματα, ανάκλαση - διάθλαση ΑΝΑΚΛΑΣΗ ΔΙΑΘΛΑΣΗ ΑΝΑΚΛΑΣΗ ΔΙΑΘΛΑΣΗ Ερωτήσεις Πολλαπλής επιλογής 1. To βάθος µιας πισίνας φαίνεται από παρατηρητή εκτός της πισίνας µικρότερο από το πραγµατικό, λόγω του φαινοµένου της: α. ανάκλασης β. διάθλασης γ. διάχυσης

Διαβάστε περισσότερα

ΕΙΣΑΓΩΓΗ ΣΤΙΣ ΦΑΣΜΑΤΟΜΕΤΡΙΚΕΣ ΤΕΧΝΙΚΕΣ (SPECTROMETRIC TECHNIQUES)

ΕΙΣΑΓΩΓΗ ΣΤΙΣ ΦΑΣΜΑΤΟΜΕΤΡΙΚΕΣ ΤΕΧΝΙΚΕΣ (SPECTROMETRIC TECHNIQUES) ΕΙΣΑΓΩΓΗ ΣΤΙΣ ΦΑΣΜΑΤΟΜΕΤΡΙΚΕΣ ΤΕΧΝΙΚΕΣ (SPECTROMETRIC TECHNIQUES) ΑΘΗΝΑ, ΟΚΤΩΒΡΙΟΣ 2014 ΦΑΣΜΑΤΟΜΕΤΡΙΚΕΣ ΤΕΧΝΙΚΕΣ Στηρίζονται στις αλληλεπιδράσεις της ηλεκτρομαγνητικής ακτινοβολίας με την ύλη. Φασματομετρία=

Διαβάστε περισσότερα

ΘΕΩΡΗΤΙΚΟ ΜΕΡΟΣ. Εργαστήριο Φυσικής IΙ. Μελέτη της απόδοσης φωτοβολταϊκού στοιχείου με χρήση υπολογιστή. 1. Σκοπός. 2. Σύντομο θεωρητικό μέρος

ΘΕΩΡΗΤΙΚΟ ΜΕΡΟΣ. Εργαστήριο Φυσικής IΙ. Μελέτη της απόδοσης φωτοβολταϊκού στοιχείου με χρήση υπολογιστή. 1. Σκοπός. 2. Σύντομο θεωρητικό μέρος ΘΕΩΡΗΤΙΚΟ ΜΕΡΟΣ 1. Σκοπός Το φωτοβολταϊκό στοιχείο είναι μία διάταξη ημιαγωγών η οποία μετατρέπει την φωτεινή ενέργεια που προσπίπτει σε αυτήν σε ηλεκτρική.. Όταν αυτή φωτιστεί με φωτόνια κατάλληλης συχνότητας

Διαβάστε περισσότερα

Κεφάλαιο 32 Φως: Ανάκλασηκαι ιάθλαση. Copyright 2009 Pearson Education, Inc.

Κεφάλαιο 32 Φως: Ανάκλασηκαι ιάθλαση. Copyright 2009 Pearson Education, Inc. Κεφάλαιο 32 Φως: Ανάκλασηκαι ιάθλαση Γεωµετρική θεώρηση του Φωτός Ανάκλαση ηµιουργίαειδώλουαπόκάτοπτρα. είκτης ιάθλασης Νόµος του Snell Ορατό Φάσµα και ιασπορά Εσωτερική ανάκλαση Οπτικές ίνες ιάθλαση σε

Διαβάστε περισσότερα

ΕΡΓΑΣΤΗΡΙΟ ΦΥΣΙΚΗΣ ΧΗΜΕΙΑΣ ΤΜΗΜΑΤΟΣ ΦΑΡΜΑΚΕΥΤΙΚΗΣ

ΕΡΓΑΣΤΗΡΙΟ ΦΥΣΙΚΗΣ ΧΗΜΕΙΑΣ ΤΜΗΜΑΤΟΣ ΦΑΡΜΑΚΕΥΤΙΚΗΣ ΑΡΙΣΤΟΤΕΛΕΙΟ ΠΑΝΕΠΙΣΤΗΜΙΟ ΘΕΣΣΑΛΟΝΙΚΗΣ ΣΧΟΛΗ ΘΕΤΙΚΩΝ ΕΠΙΣΤΗΜΩΝ ΤΜΗΜΑ ΧΗΜΕΙΑΣ ΕΡΓΑΣΤΗΡΙΟ ΦΥΣΙΚΟΧΗΜΕΙΑΣ Γραφείο 211 Επίκουρος Καθηγητής: Δ. Τσιπλακίδης Τηλ.: 2310 997766 e mail: dtsiplak@chem.auth.gr url:

Διαβάστε περισσότερα

Βρέντζου Τίνα Φυσικός Μεταπτυχιακός τίτλος: «Σπουδές στην εκπαίδευση» ΜEd Email : stvrentzou@gmail.com

Βρέντζου Τίνα Φυσικός Μεταπτυχιακός τίτλος: «Σπουδές στην εκπαίδευση» ΜEd Email : stvrentzou@gmail.com 1 ΚΕΦΑΛΑΙΟ 2ο ΗΛΕΚΤΡΙΚΟ ΡΕΥΜΑ Σκοπός Στο δεύτερο κεφάλαιο θα εισαχθεί η έννοια του ηλεκτρικού ρεύματος και της ηλεκτρικής τάσης,θα μελετηθεί ένα ηλεκτρικό κύκλωμα και θα εισαχθεί η έννοια της αντίστασης.

Διαβάστε περισσότερα

ΚΕΦΑΛΑΙΟ 2: Ηλεκτρικό Ρεύμα Μέρος 1 ο

ΚΕΦΑΛΑΙΟ 2: Ηλεκτρικό Ρεύμα Μέρος 1 ο ΚΕΦΑΛΑΙΟ 2: Ηλεκτρικό Ρεύμα Μέρος 1 ο Βασίλης Γαργανουράκης Φυσική ήγ Γυμνασίου Εισαγωγή Στο προηγούμενο κεφάλαιο μελετήσαμε τις αλληλεπιδράσεις των στατικών (ακίνητων) ηλεκτρικών φορτίων. Σε αυτό το κεφάλαιο

Διαβάστε περισσότερα

Οργανική Χημεία. Κεφάλαια 12 &13: Φασματοσκοπία μαζών και υπερύθρου

Οργανική Χημεία. Κεφάλαια 12 &13: Φασματοσκοπία μαζών και υπερύθρου Οργανική Χημεία Κεφάλαια 12 &13: Φασματοσκοπία μαζών και υπερύθρου 1. Γενικά Δυνατότητα προσδιορισμού δομών με σαφήνεια χρησιμοποιώντας τεχνικές φασματοσκοπίας Φασματοσκοπία μαζών Μέγεθος, μοριακός τύπος

Διαβάστε περισσότερα

Περίθλαση από µία σχισµή.

Περίθλαση από µία σχισµή. ρ. Χ. Βοζίκης Εργαστήριο Φυσικής ΙΙ 71 7. Άσκηση 7 Περίθλαση από µία σχισµή. 7.1 Σκοπός της εργαστηριακής άσκησης Σκοπός της άσκησης είναι η γνωριµία των σπουδαστών µε την συµπεριφορά των µικροκυµάτων

Διαβάστε περισσότερα

Φύλλο εργασίας Το φωτοβολταϊκό στοιχείο

Φύλλο εργασίας Το φωτοβολταϊκό στοιχείο Φύλλο εργασίας Το φωτοβολταϊκό στοιχείο Στοιχεία ομάδας: Ονοματεπώνυμο Α.Μ. Ημερομηνία: Τμήμα: Απαραίτητες Θεωρητικές Γνώσεις: Το φωτοβολταϊκό στοιχείο είναι μία διάταξη που μετατρέπει τη φωτεινή ενέργεια

Διαβάστε περισσότερα

Απορρόφηση φωτός: Προσδιορισμός του συντελεστή απορρόφησης διαφανών υλικών

Απορρόφηση φωτός: Προσδιορισμός του συντελεστή απορρόφησης διαφανών υλικών O11 Απορρόφηση φωτός: Προσδιορισμός του συντελεστή απορρόφησης διαφανών υλικών 1. Σκοπός Η εργαστηριακή αυτή άσκηση αποσκοπεί α) στη μελέτη του φαινομένου της εξασθένησης φωτός καθώς διέρχεται μέσα από

Διαβάστε περισσότερα

Κεφάλαιο 35 ΠερίθλασηκαιΠόλωση. Copyright 2009 Pearson Education, Inc.

Κεφάλαιο 35 ΠερίθλασηκαιΠόλωση. Copyright 2009 Pearson Education, Inc. Κεφάλαιο 35 ΠερίθλασηκαιΠόλωση ΠεριεχόµεναΚεφαλαίου 35 Περίθλαση απλής σχισµής ή δίσκου Intensity in Single-Slit Diffraction Pattern Περίθλαση διπλής σχισµής ιακριτική ικανότητα; Κυκλικές ίριδες ιακριτική

Διαβάστε περισσότερα

ΚΕΦΑΛΑΙΟ 13 LASER. Light Amplification by Stimulated Emission of Radiation Ενίσχυση Φωτός με Επαγόμενη Εκπομπή Ακτινοβολίας

ΚΕΦΑΛΑΙΟ 13 LASER. Light Amplification by Stimulated Emission of Radiation Ενίσχυση Φωτός με Επαγόμενη Εκπομπή Ακτινοβολίας ΚΕΦΑΛΑΙΟ 13 Μαρία Κατσικίνη katsiki@auth.gr users.auth.gr/~katsiki Light Amplification by Stimulated Emission of Radiation Ενίσχυση Φωτός με Επαγόμενη Εκπομπή Ακτινοβολίας wikipedia Το πρώτο κατασκευάστηκε

Διαβάστε περισσότερα

ΟΜΟΣΠΟΝ ΙΑ ΕΚΠΑΙ ΕΥΤΙΚΩΝ ΦΡΟΝΤΙΣΤΩΝ ΕΛΛΑ ΟΣ (Ο.Ε.Φ.Ε.) ΕΠΑΝΑΛΗΠΤΙΚΑ ΘΕΜΑΤΑ ΕΠΑΝΑΛΗΠΤΙΚΑ ΘΕΜΑΤΑ 2015 Β ΦΑΣΗ

ΟΜΟΣΠΟΝ ΙΑ ΕΚΠΑΙ ΕΥΤΙΚΩΝ ΦΡΟΝΤΙΣΤΩΝ ΕΛΛΑ ΟΣ (Ο.Ε.Φ.Ε.) ΕΠΑΝΑΛΗΠΤΙΚΑ ΘΕΜΑΤΑ ΕΠΑΝΑΛΗΠΤΙΚΑ ΘΕΜΑΤΑ 2015 Β ΦΑΣΗ ΤΑΞΗ: ΜΑΘΗΜΑ: Β ΓΕΝΙΚΟΥ ΛΥΚΕΙΟΥ ΦΥΣΙΚΗ / ΓΕΝΙΚΗΣ ΠΑΙ ΕΙΑΣ Ηµεροµηνία: Κυριακή 3 Μαΐου 015 ιάρκεια Εξέτασης: ώρες ΕΚΦΩΝΗΣΕΙΣ ΘΕΜΑ A Στις ηµιτελείς προτάσεις Α1 Α4 να γράψετε στο τετράδιό σας τον αριθµό

Διαβάστε περισσότερα

ΠΟΥ ΔΙΑΔΙΔΕΤΑΙ ΤΟ ΦΩΣ

ΠΟΥ ΔΙΑΔΙΔΕΤΑΙ ΤΟ ΦΩΣ 1 ΦΩΣ Στο μικρόκοσμο θεωρούμε ότι το φως έχει δυο μορφές. Άλλοτε το αντιμετωπίζουμε με τη μορφή σωματιδίων που ονομάζουμε φωτόνια. Τα φωτόνια δεν έχουν μάζα αλλά μόνον ενέργεια. Άλλοτε πάλι αντιμετωπίζουμε

Διαβάστε περισσότερα

ΑΣΚΗΣΗ 7. Θερµοϊονικό φαινόµενο - ίοδος λυχνία

ΑΣΚΗΣΗ 7. Θερµοϊονικό φαινόµενο - ίοδος λυχνία ΑΣΚΗΣΗ 7 Θερµοϊονικό φαινόµενο - ίοδος λυχνία ΣΥΣΚΕΥΕΣ : Πηγή συνεχούς 0-50 Volts, πηγή 6V/2A, βολτόµετρο συνεχούς, αµπερόµετρο συνεχούς, βολτόµετρο, ροοστάτης. ΘΕΩΡΗΤΙΚΗ ΕΙΣΑΓΩΓΗ Όταν η θερµοκρασία ενός

Διαβάστε περισσότερα

ΑΠΑΝΤΗΣΕΙΣ. Επιµέλεια: Οµάδα Φυσικών της Ώθησης

ΑΠΑΝΤΗΣΕΙΣ. Επιµέλεια: Οµάδα Φυσικών της Ώθησης ΕΘΝΙΚΕΣ ΕΞΕΤΑΣΕΙΣ 0 ΑΠΑΝΤΗΣΕΙΣ Επιµέλεια: Οµάδα Φυσικών της Ώθησης ΘΕΜΑ A ΕΘΝΙΚΕΣ ΕΞΕΤΑΣΕΙΣ 0 Παρασκευή, 0 Μαΐου 0 Γ ΛΥΚΕΙΟΥ ΓΕΝΙΚΗΣ ΠΑΙ ΕΙΑΣ ΦΥΣΙΚΗ Στις ερωτήσεις Α -Α να γράψετε στο τετράδιό σας τον

Διαβάστε περισσότερα

Ακτίνες Χ (Roentgen) Κ.-Α. Θ. Θωμά

Ακτίνες Χ (Roentgen) Κ.-Α. Θ. Θωμά Ακτίνες Χ (Roentgen) Είναι ηλεκτρομαγνητικά κύματα με μήκος κύματος μεταξύ 10 nm και 0.01 nm, δηλαδή περίπου 10 4 φορές μικρότερο από το μήκος κύματος της ορατής ακτινοβολίας. ( Φάσμα ηλεκτρομαγνητικής

Διαβάστε περισσότερα

ΣΥΝΘΕΣΗ ΝΑΝΟΣΩΛΗΝΩΝ ΑΝΘΡΑΚΑ ΜΕΣΩ ΘΕΡΜΟΛΥΣΗΣ ΟΡΓΑΜΟΜΕΤΑΛΛΙΚΗΣ ΕΝΩΣΗΣ ΣΕ ΣΤΕΡΕΑ ΚΑΤΑΣΤΑΣΗ

ΣΥΝΘΕΣΗ ΝΑΝΟΣΩΛΗΝΩΝ ΑΝΘΡΑΚΑ ΜΕΣΩ ΘΕΡΜΟΛΥΣΗΣ ΟΡΓΑΜΟΜΕΤΑΛΛΙΚΗΣ ΕΝΩΣΗΣ ΣΕ ΣΤΕΡΕΑ ΚΑΤΑΣΤΑΣΗ ΣΥΝΘΕΣΗ ΝΑΝΟΣΩΛΗΝΩΝ ΑΝΘΡΑΚΑ ΜΕΣΩ ΘΕΡΜΟΛΥΣΗΣ ΟΡΓΑΜΟΜΕΤΑΛΛΙΚΗΣ ΕΝΩΣΗΣ ΣΕ ΣΤΕΡΕΑ ΚΑΤΑΣΤΑΣΗ Α.Μ. Νέτσου 1, Ε. Χουντουλέση 1, Μ.Περράκη 2, Α.Ντζιούνη 1, Κ. Κορδάτος 1 1 Σχολή Χημικών Μηχανικών, ΕΜΠ 2 Σχολή

Διαβάστε περισσότερα

Άσκηση 5 ΦΩΤΟΒΟΛΤΑΪΚΟ ΦΑΙΝΟΜΕΝΟ

Άσκηση 5 ΦΩΤΟΒΟΛΤΑΪΚΟ ΦΑΙΝΟΜΕΝΟ Άσκηση 5 ΦΩΤΟΒΟΛΤΑΪΚΟ ΦΑΙΝΟΜΕΝΟ 1. ΓΕΝΙΚΑ Τα ηλιακά στοιχεία χρησιμοποιούνται για τη μετατροπή του φωτός (που αποτελεί μία μορφή ηλεκτρομαγνητικής ενέργειας) σε ηλεκτρική ενέργεια. Κατασκευάζονται από

Διαβάστε περισσότερα

Φύση του φωτός. Θεωρούμε ότι το φως έχει διττή φύση: διαταραχή που διαδίδεται στο χώρο. μήκος κύματος φωτός. συχνότητα φωτός

Φύση του φωτός. Θεωρούμε ότι το φως έχει διττή φύση: διαταραχή που διαδίδεται στο χώρο. μήκος κύματος φωτός. συχνότητα φωτός Γεωμετρική Οπτική Φύση του φωτός Θεωρούμε ότι το φως έχει διττή φύση: ΚΥΜΑΤΙΚΗ Βασική ιδέα Το φως είναι μια Η/Μ διαταραχή που διαδίδεται στο χώρο Βασική Εξίσωση Φαινόμενα που εξηγεί καλύτερα (κύμα) μήκος

Διαβάστε περισσότερα

ΓΕΩΜΕΤΡΙΚΗ ΟΠΤΙΚΗ. Ανάκλαση. Κάτοπτρα. Διάθλαση. Ολική ανάκλαση. Φαινόμενη ανύψωση αντικειμένου. Μετατόπιση ακτίνας. Πρίσματα

ΓΕΩΜΕΤΡΙΚΗ ΟΠΤΙΚΗ. Ανάκλαση. Κάτοπτρα. Διάθλαση. Ολική ανάκλαση. Φαινόμενη ανύψωση αντικειμένου. Μετατόπιση ακτίνας. Πρίσματα ΓΕΩΜΕΤΡΙΚΗ ΟΠΤΙΚΗ Ανάκλαση Κάτοπτρα Διάθλαση Ολική ανάκλαση Φαινόμενη ανύψωση αντικειμένου Μετατόπιση ακτίνας Πρίσματα ΓΕΩΜΕΤΡΙΚΗ ΟΠΤΙΚΗ - Ανάκλαση Επιστροφή σε «γεωμετρική οπτική» Ανάκλαση φωτός ονομάζεται

Διαβάστε περισσότερα

ΑΡΧΗ 1ΗΣ ΣΕΛΙ ΑΣ Γ ΗΜΕΡΗΣΙΩΝ ΕΣΠΕΡΙΝΩΝ

ΑΡΧΗ 1ΗΣ ΣΕΛΙ ΑΣ Γ ΗΜΕΡΗΣΙΩΝ ΕΣΠΕΡΙΝΩΝ ΑΡΧΗ ΗΣ ΣΕΛΙ ΑΣ Γ ΗΜΕΡΗΣΙΩΝ ΕΣΠΕΡΙΝΩΝ ΠΑΝΕΛΛΑΔΙΚΕΣ ΕΞΕΤΑΣΕΙΣ Γ ΤΑΞΗΣ ΗΜΕΡΗΣΙΟΥ ΚΑΙ Δ ΤΑΞΗΣ ΕΣΠΕΡΙΝΟΥ ΓΕΝΙΚΟΥ ΛΥΚΕΙΟΥ ΠΑΡΑΣΚΕΥΗ 0 ΜΑΪΟΥ 204 - ΕΞΕΤΑΖΟΜΕΝΟ ΜΑΘΗΜΑ: ΦΥΣΙΚΗ ΓΕΝΙΚΗΣ ΠΑΙΔΕΙΑΣ ΣΥΝΟΛΟ ΣΕΛΙΔΩΝ:

Διαβάστε περισσότερα

ΟΜΟΣΠΟΝ ΙΑ ΕΚΠΑΙ ΕΥΤΙΚΩΝ ΦΡΟΝΤΙΣΤΩΝ ΕΛΛΑ ΟΣ (Ο.Ε.Φ.Ε.) ΕΠΑΝΑΛΗΠΤΙΚΑ ΘΕΜΑΤΑ ΕΠΑΝΑΛΗΠΤΙΚΑ ΘΕΜΑΤΑ 2012. Ηµεροµηνία: Κυριακή 1 Απριλίου 2012 ΕΚΦΩΝΗΣΕΙΣ

ΟΜΟΣΠΟΝ ΙΑ ΕΚΠΑΙ ΕΥΤΙΚΩΝ ΦΡΟΝΤΙΣΤΩΝ ΕΛΛΑ ΟΣ (Ο.Ε.Φ.Ε.) ΕΠΑΝΑΛΗΠΤΙΚΑ ΘΕΜΑΤΑ ΕΠΑΝΑΛΗΠΤΙΚΑ ΘΕΜΑΤΑ 2012. Ηµεροµηνία: Κυριακή 1 Απριλίου 2012 ΕΚΦΩΝΗΣΕΙΣ ΤΑΞΗ: ΜΑΘΗΜΑ: ΘΕΜΑ Α Γ ΓΕΝΙΚΟΥ ΛΥΚΕΙΟΥ ΦΥΣΙΚΗ / ΓΕΝΙΚΗΣ ΠΑΙ ΕΙΑΣ Ηµεροµηνία: Κυριακή 1 Απριλίου 01 ΕΚΦΩΝΗΣΕΙΣ Να γράψετε στο τετράδιο σας τον αριθµό καθεµιάς από τις παρακάτω ερωτήσεις 1-4 και δίπλα το

Διαβάστε περισσότερα

Εξετάσεις Φυσικής για τα τμήματα Βιοτεχνολ. / Ε.Τ.Δ.Α Ιούνιος 2014 (α) Ονοματεπώνυμο...Τμήμα...Α.Μ...

Εξετάσεις Φυσικής για τα τμήματα Βιοτεχνολ. / Ε.Τ.Δ.Α Ιούνιος 2014 (α) Ονοματεπώνυμο...Τμήμα...Α.Μ... Εξετάσεις Φυσικής για τα τμήματα Βιοτεχνολ. / Ε.Τ.Δ.Α Ιούνιος 2014 (α) Ονοματεπώνυμο...Τμήμα...Α.Μ... Σημείωση: Διάφοροι τύποι και φυσικές σταθερές βρίσκονται στην τελευταία σελίδα. Θέμα 1ο (20 μονάδες)

Διαβάστε περισσότερα

ΦΥΣΙΚΗ Γ ΓΥΜΝΑΣΙΟΥ 2.1 ΤΟ ΗΛΕΚΤΡΙΚΟ ΡΕΥΜΑ

ΦΥΣΙΚΗ Γ ΓΥΜΝΑΣΙΟΥ 2.1 ΤΟ ΗΛΕΚΤΡΙΚΟ ΡΕΥΜΑ ΦΥΣΙΚΗ Γ ΓΥΜΝΑΣΙΟΥ 2Η ΕΝΟΤΗΤΑ ΗΛΕΚΤΡΙΚΟ ΡΕΥΜΑ 2.1 ΤΟ ΗΛΕΚΤΡΙΚΟ ΡΕΥΜΑ Τι είναι ; Ηλεκτρικό ρεύμα ονομάζεται η προσανατολισμένη κίνηση των ηλεκτρονίων ή γενικότερα των φορτισμένων σωματιδίων Που μπορεί να

Διαβάστε περισσότερα

Η Φύση του Φωτός. Τα Δ Θεματα της τράπεζας θεμάτων

Η Φύση του Φωτός. Τα Δ Θεματα της τράπεζας θεμάτων Η Φύση του Φωτός Τα Δ Θεματα της τράπεζας θεμάτων Η ΦΥΣΗ ΤΟΥ ΦΩΤΟΣ Θέμα Δ 4_2153 Δύο μονοχρωματικές ακτινοβολίες (1) και (2), που αρχικά διαδίδονται στο κενό με μήκη κύματος λ ο1 = 4 nm και λ ο2 = 6 nm

Διαβάστε περισσότερα

ΗΛΕΚΤΡΟΜΑΓΝΗΤΙΚΑ ΚΥΜΑΤΑ

ΗΛΕΚΤΡΟΜΑΓΝΗΤΙΚΑ ΚΥΜΑΤΑ 1 ο ΘΕΜΑ Α. Ερωτήσεις πολλαπλής επιλογής ΗΛΕΚΤΡΟΜΑΓΝΗΤΙΚΑ ΚΥΜΑΤΑ 1. Μια ακτίνα φωτός προσπίπτει στην επίπεδη διαχωριστική επιφάνεια δύο µέσων. Όταν η διαθλώµενη ακτίνα κινείται παράλληλα προς τη διαχωριστική

Διαβάστε περισσότερα

ΦΥΣΙΚΗ ΓΕΝΙΚΗΣ ΠΑΙ ΕΙΑΣ Γ ΛΥΚΕΙΟΥ & ΕΠΑ.Λ. Β 20 ΜΑΪΟΥ 2013 ΕΚΦΩΝΗΣΕΙΣ

ΦΥΣΙΚΗ ΓΕΝΙΚΗΣ ΠΑΙ ΕΙΑΣ Γ ΛΥΚΕΙΟΥ & ΕΠΑ.Λ. Β 20 ΜΑΪΟΥ 2013 ΕΚΦΩΝΗΣΕΙΣ Θέµα Α ΦΥΣΙΚΗ ΓΕΝΙΚΗΣ ΠΑΙ ΕΙΑΣ Γ ΛΥΚΕΙΟΥ & ΕΠΑ.Λ. Β 0 ΜΑΪΟΥ 013 ΕΚΦΩΝΗΣΕΙΣ Στις ερωτήσεις Α1-Α4 να γράψετε στο τετράδιό σας τον αριθµό της ερώτησης και δίπλα το γράµµα που αντιστοιχεί στη φράση, η οποία

Διαβάστε περισσότερα

Το μικροσκόπιο ως αναλυτικό όργανο. Το μικροσκόπιο δεν μας δίνει μόνο εικόνες των παρασκευασμάτων μας.

Το μικροσκόπιο ως αναλυτικό όργανο. Το μικροσκόπιο δεν μας δίνει μόνο εικόνες των παρασκευασμάτων μας. Το μικροσκόπιο ως αναλυτικό όργανο. Το μικροσκόπιο δεν μας δίνει μόνο εικόνες των παρασκευασμάτων μας. Η διάκριση των μικροσκοπίων σε κατηγορίες βασίζεται, κατά κύριο λόγο, στην ακτινοβολία που χρησιμοποιούν

Διαβάστε περισσότερα

Μάθημα 4.10: Οπτικά Αποθηκευτικά Μέσα

Μάθημα 4.10: Οπτικά Αποθηκευτικά Μέσα Κεφάλαιο 4 ο Ο Προσωπικός Υπολογιστής Μάθημα 4.10: Οπτικά Αποθηκευτικά Μέσα Όταν ολοκληρώσεις το κεφάλαιο θα μπορείς: Να εξηγείς τις αρχές λειτουργίας των οπτικών αποθηκευτικών μέσων. Να περιγράφεις τον

Διαβάστε περισσότερα

2. Οι ενεργειακές στάθµες του πυρήνα ενός στοιχείου είναι της τάξης α)µερικών ev γ)µερικών MeV

2. Οι ενεργειακές στάθµες του πυρήνα ενός στοιχείου είναι της τάξης α)µερικών ev γ)µερικών MeV ΙΑΓΩΝΙΣΜΑ Γ ΓΕΝΙΚΗΣ ΘΕΜΑ 1 ο 1. Αν ένα οπτικό µέσο Α µε δείκτη διάθλασης n Α είναι οπτικά πυκνότερο από ένα άλλο οπτικό µέσο Β µε δείκτη διάθλασης n Β και τα µήκη κύµατος του φωτός στα δυο µέσα είναι λ

Διαβάστε περισσότερα

6η Εργαστηριακή Άσκηση Μέτρηση διηλεκτρικής σταθεράς σε κύκλωµα RLC

6η Εργαστηριακή Άσκηση Μέτρηση διηλεκτρικής σταθεράς σε κύκλωµα RLC 6η Εργαστηριακή Άσκηση Μέτρηση διηλεκτρικής σταθεράς σε κύκλωµα RLC Θεωρητικό µέρος Αν µεταξύ δύο αρχικά αφόρτιστων αγωγών εφαρµοστεί µία συνεχής διαφορά δυναµικού ή τάση V, τότε στις επιφάνειές τους θα

Διαβάστε περισσότερα

ιάθλαση. Ολική ανάκλαση. ιάδοση µέσα σε κυµατοδηγό.

ιάθλαση. Ολική ανάκλαση. ιάδοση µέσα σε κυµατοδηγό. ρ. Χ. Βοζίκης Εργαστήριο Φυσικής ΙΙ 91 9. Άσκηση 9 ιάθλαση. Ολική ανάκλαση. ιάδοση µέσα σε κυµατοδηγό. 9.1 Σκοπός της εργαστηριακής άσκησης Σκοπός της άσκησης είναι η γνωριµία των σπουδαστών µε τα φαινόµενα

Διαβάστε περισσότερα

Φυσική των οφθαλμών και της όρασης. Κική Θεοδώρου

Φυσική των οφθαλμών και της όρασης. Κική Θεοδώρου Φυσική των οφθαλμών και της όρασης Κική Θεοδώρου Περιεχόμενα Στοιχεία Γεωμετρικής Οπτικής Ανατομία του Οφθαλμού Αμφιβληστροειδής Ο ανιχνευτής φωτός του οφθαλμού Το κατώφλι της όρασης Φαινόμενα περίθλασης

Διαβάστε περισσότερα

ΔΙΑΓΩΝΙΣΜΑ ΣΤΗ ΦΥΣΙΚΗ ΓΕΝ. ΠΑΙΔΕΙΑΣ Γ' ΛΥΚΕΙΟΥ

ΔΙΑΓΩΝΙΣΜΑ ΣΤΗ ΦΥΣΙΚΗ ΓΕΝ. ΠΑΙΔΕΙΑΣ Γ' ΛΥΚΕΙΟΥ 05 2 0 ΘΕΡΙΝΑ ΔΙΑΓΩΝΙΣΜΑ ΣΤΗ ΦΥΣΙΚΗ ΓΕΝ. ΠΑΙΔΕΙΑΣ Γ' ΛΥΚΕΙΟΥ ΘΕΜΑ ο Οδηγία: Να γράψετε στο τετράδιό σας τον αριθμό καθεμιάς από τις παρακάτω ερωτήσεις -4 και δίπλα το γράμμα που αντιστοιχεί στη σωστή απάντηση..

Διαβάστε περισσότερα

Χαρακτηρισμός υλικών με ιόντα

Χαρακτηρισμός υλικών με ιόντα Χαρακτηρισμός υλικών με ιόντα 1. Secondary ion mass spectroscopy (SIMS) Φασματοσκοπία μάζας δευτερογενών ιόντων. Rutherford backscattering (RBS) Φασματοσκοπία οπισθοσκέδασης κατά Rutherford Secondary ion

Διαβάστε περισσότερα

ΦΥΣΙΚΗ Β ΛΥΚΕΙΟΥ ΓΕΝΙΚΗΣ ΠΑΙΔΕΙΑΣ ΣΥΝΟΠΤΙΚΗ ΘΕΩΡΙΑ

ΦΥΣΙΚΗ Β ΛΥΚΕΙΟΥ ΓΕΝΙΚΗΣ ΠΑΙΔΕΙΑΣ ΣΥΝΟΠΤΙΚΗ ΘΕΩΡΙΑ ΦΥΣΙΚΗ Β ΛΥΚΕΙΟΥ ΓΕΝΙΚΗΣ ΠΑΙΔΕΙΑΣ ΣΥΝΟΠΤΙΚΗ ΘΕΩΡΙΑ Νόμος του Coulomb Έστω δύο ακίνητα σημειακά φορτία, τα οποία βρίσκονται σε απόσταση μεταξύ τους. Τα φορτία αυτά αλληλεπιδρούν μέσω δύναμης F, της οποίας

Διαβάστε περισσότερα

Κεφάλαιο 23 Ηλεκτρικό Δυναµικό. Copyright 2009 Pearson Education, Inc.

Κεφάλαιο 23 Ηλεκτρικό Δυναµικό. Copyright 2009 Pearson Education, Inc. Κεφάλαιο 23 Ηλεκτρικό Δυναµικό Διαφορά Δυναµικού-Δυναµική Ενέργεια Σχέση Ηλεκτρικού Πεδίου και Ηλεκτρικού Δυναµικού Ηλεκτρικό Δυναµικό Σηµειακών Φορτίων Δυναµικό Κατανοµής Φορτίων Ισοδυναµικές Επιφάνειες

Διαβάστε περισσότερα

ΑΡΧΗ 1ΗΣ ΣΕΛΙΔΑΣ ΤΕΛΟΣ 1ΗΣ ΣΕΛΙΔΑΣ

ΑΡΧΗ 1ΗΣ ΣΕΛΙΔΑΣ ΤΕΛΟΣ 1ΗΣ ΣΕΛΙΔΑΣ ΑΡΧΗ 1ΗΣ ΣΕΛΙΔΑΣ ΔΙΑΓΩΝΙΣΜΑ ΕΝΔΟΦΡΟΝΤΙΣΤΗΡΙΑΚΗΣ ΠΡΟΣΟΜΟΙΩΣΗΣ Γ ΤΑΞΗΣ ΗΜΕΡΗΣΙΟΥ ΓΕΝΙΚΟΥ ΛΥΚΕΙΟΥ ΣΑΒΒΑΤΟ 3 ΙΑΝΟΥΑΡΙΟΥ 2009 ΕΞΕΤΑΖΟΜΕΝΟ ΜΑΘΗΜΑ: ΦΥΣΙΚΗ ΓΕΝΙΚΗΣ ΠΑΙΔΕΙΑΣ ΣΥΝΟΛΟ ΣΕΛΙΔΩΝ: ΕΞΙ (6) ΘΕΜΑ 1ο Α. Στις

Διαβάστε περισσότερα

Bασική διάταξη τηλεπικοινωνιακού συστήµατος οπτικών ινών

Bασική διάταξη τηλεπικοινωνιακού συστήµατος οπτικών ινών ΕΙ ΙΚΑ ΚΕΦΑΛΑΙΑ ΗΛΕΚΤΡΟΝΙΚΩΝ - διαφάνεια 1 - Bασική διάταξη τηλεπικοινωνιακού συστήµατος οπτικών ινών ιαµορφωτής Ηλεκτρικό Σήµα Ποµπός Οπτικό Σήµα Οπτική Ίνα διαµορφωτής: διαµορφώνει τη φέρουσα συχνότητα

Διαβάστε περισσότερα

7α Γεωμετρική οπτική - οπτικά όργανα

7α Γεωμετρική οπτική - οπτικά όργανα 7α Γεωμετρική οπτική - οπτικά όργανα Εισαγωγή ορισμοί Φύση του φωτός Πηγές φωτός Δείκτης διάθλασης Ανάκλαση Δημιουργία ειδώλων από κάτοπτρα Μαρία Κατσικίνη katsiki@auth.gr users.auth.gr/katsiki Ηφύσητουφωτός

Διαβάστε περισσότερα

ΤΕΧΝΟΛΟΓΙΚΟ ΕΚΠΑΙ ΕΥΤΙΚΟ Ι ΡΥΜΑ ΧΑΛΚΙ ΑΣ

ΤΕΧΝΟΛΟΓΙΚΟ ΕΚΠΑΙ ΕΥΤΙΚΟ Ι ΡΥΜΑ ΧΑΛΚΙ ΑΣ Ενεργειακές µετρήσεις σε κτήρια, κέλυφος Χρήση θερµοκάµερας, διαπίστωση και προσδιορισµός απωλειών από θερµογέφυρες. ΤΕΧΝΟΛΟΓΙΚΟ ΕΚΠΑΙ ΕΥΤΙΚΟ Ι ΡΥΜΑ ΧΑΛΚΙ ΑΣ ΤΜΗΜΑ ΜΗΧΑΝΟΛΟΓΙΑΣ Ενεργειακές Μετρήσεις σε

Διαβάστε περισσότερα

Ακτίνες επιτρεπόμενων τροχιών (2.6)

Ακτίνες επιτρεπόμενων τροχιών (2.6) Αντικαθιστώντας το r με r n, έχουμε: Ακτίνες επιτρεπόμενων τροχιών (2.6) Αντικαθιστώντας n=1, βρίσκουμε την τροχιά με τη μικρότερη ακτίνα n: Αντικαθιστώντας την τελευταία εξίσωση στη 2.6, παίρνουμε: Αν

Διαβάστε περισσότερα

Α1. Πράσινο και κίτρινο φως προσπίπτουν ταυτόχρονα και µε την ίδια γωνία πρόσπτωσης σε γυάλινο πρίσµα. Ποιά από τις ακόλουθες προτάσεις είναι σωστή:

Α1. Πράσινο και κίτρινο φως προσπίπτουν ταυτόχρονα και µε την ίδια γωνία πρόσπτωσης σε γυάλινο πρίσµα. Ποιά από τις ακόλουθες προτάσεις είναι σωστή: 54 Χρόνια ΦΡΟΝΤΙΣΤΗΡΙΑ ΜΕΣΗΣ ΕΚΠΑΙΔΕΥΣΗΣ ΣΑΒΒΑΪΔΗ-ΜΑΝΩΛΑΡΑΚΗ ΠΑΓΚΡΑΤΙ : Φιλολάου & Εκφαντίδου 26 : Τηλ.: 2107601470 ΔΙΑΓΩΝΙΣΜΑ : ΦΥΣΙΚΗ ΓΕΝΙΚΗΣ ΠΑΙΔΕΙΑΣ Γ ΛΥΚΕΙΟΥ 2014 ΘΕΜΑ Α Α1. Πράσινο και κίτρινο φως

Διαβάστε περισσότερα

Ατομικές θεωρίες (πρότυπα)

Ατομικές θεωρίες (πρότυπα) Ατομικές θεωρίες (πρότυπα) 1. Αρχαίοι Έλληνες ατομικοί : η πρώτη θεωρία που διατυπώθηκε παγκοσμίως (καθαρά φιλοσοφική, αφού δεν στηριζόταν σε καμιά πειραματική παρατήρηση). Δημόκριτος (Λεύκιπος, Επίκουρος)

Διαβάστε περισσότερα

Γ ΛΥΚΕΙΟΥ ΦΥΣΙΚΗ ΘΕΤΙΚΗΣ & ΤΕΧΝΟΛΟΓΙΚΗΣ ΚΑΤΕΥΘΥΝΣΗΣ

Γ ΛΥΚΕΙΟΥ ΦΥΣΙΚΗ ΘΕΤΙΚΗΣ & ΤΕΧΝΟΛΟΓΙΚΗΣ ΚΑΤΕΥΘΥΝΣΗΣ ε π α ν α λ η π τ ι κ ά θ έ µ α τ α 0 0 5 Γ ΛΥΚΕΙΟΥ ΦΥΣΙΚΗ ΘΕΤΙΚΗΣ & ΤΕΧΝΟΛΟΓΙΚΗΣ ΚΑΤΕΥΘΥΝΣΗΣ 1 ΘΕΜΑ 1 o Για τις ερωτήσεις 1 4, να γράψετε στο τετράδιο σας τον αριθµό της ερώτησης και δίπλα το γράµµα που

Διαβάστε περισσότερα

Το φως ταξιδεύει γρηγορότερα από τον ήχο. Γι αυτό μερικοί άνθρωποι φαίνονται λαμπεροί μέχρι να αρχίσουν να μιλάνε.

Το φως ταξιδεύει γρηγορότερα από τον ήχο. Γι αυτό μερικοί άνθρωποι φαίνονται λαμπεροί μέχρι να αρχίσουν να μιλάνε. Άσκηση 6 Μελέτη φασμάτων Το φως ταξιδεύει γρηγορότερα από τον ήχο. Γι αυτό μερικοί άνθρωποι φαίνονται λαμπεροί μέχρι να αρχίσουν να μιλάνε. ΑΝΤΙΚΕΙΜΕΝΟ ΜΕΛΕΤΗΣ Η βαθμολογία φασματοσκοπίου και η μελέτη

Διαβάστε περισσότερα

Εισαγωγή Στοιχεία Θεωρίας

Εισαγωγή Στοιχεία Θεωρίας Εισαγωγή Σκοπός της άσκησης αυτής είναι η εισαγωγή στην τεχνογνωσία των οπτικών ινών και η μελέτη τους κατά τη διάδοση μιας δέσμης laser. Συγκεκριμένα μελετάται η εξασθένιση που υφίσταται το σήμα στην

Διαβάστε περισσότερα

ΗΛΕΚΤΡΟΜΑΓΝΗΤΙΚΑ ΚΥΜΑΤΑ

ΗΛΕΚΤΡΟΜΑΓΝΗΤΙΚΑ ΚΥΜΑΤΑ ΗΛΕΚΤΡΟΜΑΓΝΗΤΙΚΑ ΚΥΜΑΤΑ Συζευγμένα ηλεκτρικά και μαγνητικά πεδία τα οποία κινούνται με την ταχύτητα του φωτός και παρουσιάζουν τυπική κυματική συμπεριφορά Αν τα φορτία ταλαντώνονται περιοδικά οι διαταραχές

Διαβάστε περισσότερα

Κατασκευή ολοκληρωµένων κυκλωµάτων και Κανόνες Σχεδίασης

Κατασκευή ολοκληρωµένων κυκλωµάτων και Κανόνες Σχεδίασης 3 η Θεµατική Ενότητα : Κατασκευή ολοκληρωµένων κυκλωµάτων και Κανόνες Σχεδίασης Επιµέλεια διαφανειών:. Μπακάλης Κατασκευή δίσκου πυριτίου Κατασκευή ICs και Κανόνες Σχεδίασης 2 Κατασκευή ολοκληρωµένων κυκλωµάτων

Διαβάστε περισσότερα

ΠΑΝΕΠΙΣΤΗΜΙΟ ΙΩΑΝΝΙΝΩΝ

ΠΑΝΕΠΙΣΤΗΜΙΟ ΙΩΑΝΝΙΝΩΝ ΠΑΝΕΠΙΣΤΗΜΙΟ ΙΩΑΝΝΙΝΩΝ ΣΧΟΛΗ ΕΠΙΣΤΗΜΩΝ ΚΑΙ ΤΕΧΝΟΛΟΓΙΩΝ ΤΜΗΜΑ ΕΠΙΣΤΗΜΗΣ ΚΑΙ ΤΕΧΝΟΛΟΓΙΑΣ ΥΛΙΚΩΝ ιπλωµατική εργασία µε θέµα ΜΕΛΕΤΗ ΛΙΘΟΓΡΑΦΙΚΗΣ ΙΕΡΓΑΣΙΑΣ ΥΓΡΗΣ ΠΥΡΙΤΙΩΣΕΩΣ ΕΠΟΞΕΙ ΙΚΟΥ ΠΟΛΥΜΕΡΟΥΣ ΜΕ ΈΜΦΑΣΗ

Διαβάστε περισσότερα

Ευαιθησιομετρία Sensitometry ΑΚΤΙΝΟΛΟΓΙΑ Ι-6

Ευαιθησιομετρία Sensitometry ΑΚΤΙΝΟΛΟΓΙΑ Ι-6 Ευαιθησιομετρία Sensitometry ΑΚΤΙΝΟΛΟΓΙΑ Ι-6 Ακτινοβολία Χ και φιλμ Οι ακτίνες- X προκαλούν στο ακτινολογικό φιλμ κατανομή διαφορετικών ΟΠ επειδή Η ομοιόμορφη δέσμη που πέφτει πάνω στο ΑΘ εξασθενεί σε

Διαβάστε περισσότερα

Μελέτη και Ανάπτυξη Συστοιχιών Νανοκρυσταλλιτών Ημιαγωγών σε Μήτρα Μονωτικού για Εφαρμογές σε Μνήμες

Μελέτη και Ανάπτυξη Συστοιχιών Νανοκρυσταλλιτών Ημιαγωγών σε Μήτρα Μονωτικού για Εφαρμογές σε Μνήμες ΕΘΝΙΚΟ ΚΑΙ ΚΑΠΟΔΙΣΤΡΙΑΚΟ ΠΑΝΕΠΙΣΤΗΜΙΟ ΑΘΗΝΩΝ ΣΧΟΛΗ ΘΕΤΙΚΩΝ ΕΠΙΣΤΗΜΩΝ ΤΜΗΜΑ ΠΛΗΡΟΦΟΡΙΚΗΣ ΚΑΙ ΤΗΛΕΠΙΚΟΙΝΩΝΙΩΝ ΔΙΔΑΚΤΟΡΙΚΗ ΔΙΑΤΡΙΒΗ Μελέτη και Ανάπτυξη Συστοιχιών Νανοκρυσταλλιτών Ημιαγωγών σε Μήτρα Μονωτικού

Διαβάστε περισσότερα

1. ΤΟΜΟΓΡΑΦΙΚΗ ΑΠΕΙΚΟΝΙΣΗ ΜΕ ΙΣΟΤΟΠΑ ΕΦΑΡΜΟΓΕΣ ΙΟΝΤΙΖΟΥΣΩΝ ΑΚΤΙΝΟΒΟΛΙΩΝ

1. ΤΟΜΟΓΡΑΦΙΚΗ ΑΠΕΙΚΟΝΙΣΗ ΜΕ ΙΣΟΤΟΠΑ ΕΦΑΡΜΟΓΕΣ ΙΟΝΤΙΖΟΥΣΩΝ ΑΚΤΙΝΟΒΟΛΙΩΝ 1. ΤΟΜΟΓΡΑΦΙΚΗ ΑΠΕΙΚΟΝΙΣΗ ΜΕ ΙΣΟΤΟΠΑ 1 x y 1. γ-κάµερα ή Κύκλωµα Πύλης Αναλυτής Ύψους Παλµών z κάµερα Anger (H. Anger, Berkeley, 1958) Λογικό Κύκλωµα Θέσης ιάταξη Φωτοπολλαπλασιαστών Μολύβδινη Θωράκιση

Διαβάστε περισσότερα

ΘΕΡΜΙΚΕΣ ΚΑΤΕΡΓΑΣΙΕΣ

ΘΕΡΜΙΚΕΣ ΚΑΤΕΡΓΑΣΙΕΣ ΘΕΡΜΙΚΕΣ ΚΑΤΕΡΓΑΣΙΕΣ ΓENIKA Θερµική κατεργασία είναι σύνολο διεργασιών που περιλαµβάνει τη θέρµανση και ψύξη µεταλλικού προϊόντος σε στερεά κατάσταση και σε καθορισµένες θερµοκρασιακές και χρονικές συνθήκες.

Διαβάστε περισσότερα

ΤΕΣΤ 30 ΕΡΩΤΗΣΕΩΝ ΓΝΩΣΤΙΚΟΥ ΧΗΜΕΙΑΣ

ΤΕΣΤ 30 ΕΡΩΤΗΣΕΩΝ ΓΝΩΣΤΙΚΟΥ ΧΗΜΕΙΑΣ ΤΕΣΤ 30 ΕΡΩΤΗΣΕΩΝ ΓΝΩΣΤΙΚΟΥ ΧΗΜΕΙΑΣ ο αριθμός Avogadro, N A, L = 6,022 10 23 mol -1 η σταθερά Faraday, F = 96 487 C mol -1 σταθερά αερίων R = 8,314 510 (70) J K -1 mol -1 = 0,082 L atm mol -1 K -1 μοριακός

Διαβάστε περισσότερα

Εργαστήριο Συνθέτων Υλικών

Εργαστήριο Συνθέτων Υλικών Εργαστήριο Συνθέτων Υλικών Εργαστηριακή Άσκηση 03 ΔΟΚΙΜΕΣ(TEST) ΤΩΝ ΠΟΛΥΜΕΡΩΝ Διδάσκων Δρ Κατσιρόπουλος Χρήστος Τμήμα Μηχανολογίας ΑΤΕΙ Πατρών 2014-15 1 Καταστροφικές μέθοδοι 1. Τεχνική διάλυσης της μήτρας

Διαβάστε περισσότερα

ΕΠΙΠΕΔΗ ΤΕΧΝΟΛΟΓΙΑ. αρχικό υλικό. *στάδια επίπεδης τεχνολογίας. πλακίδιο Si. *ακολουθία βημάτων που προσθέτουν ή αφαιρούν υλικά στο πλακίδιο Si

ΕΠΙΠΕΔΗ ΤΕΧΝΟΛΟΓΙΑ. αρχικό υλικό. *στάδια επίπεδης τεχνολογίας. πλακίδιο Si. *ακολουθία βημάτων που προσθέτουν ή αφαιρούν υλικά στο πλακίδιο Si ΕΠΙΠΕΔΗ ΤΕΧΝΟΛΟΓΙΑ αρχικό υλικό + *στάδια επίπεδης τεχνολογίας πλακίδιο Si *ακολουθία βημάτων που προσθέτουν ή αφαιρούν υλικά στο πλακίδιο Si οξείδωση εναπόθεση διάχυση φωτολιθογραφία φωτοχάραξη Παραγωγή

Διαβάστε περισσότερα

Φασματοσκοπία πρίσματος Βαθμονόμηση Φασματοσκόπιου και ταυτοποίηση αερίου από το φάσμα του

Φασματοσκοπία πρίσματος Βαθμονόμηση Φασματοσκόπιου και ταυτοποίηση αερίου από το φάσμα του Σκοπός Μέθοδος 14 Φασματοσκοπία πρίσματος Βαθμονόμηση Φασματοσκόπιου και ταυτοποίηση αερίου από το φάσμα του Η άσκηση αυτή αποσκοπεί στην κατανόηση της αρχή λειτουργίας του οπτικού φασματοσκόπιου και στην

Διαβάστε περισσότερα

ΕΡΓΑΣΤΗΡΙΟ ΟΡΓΑΝΙΚΗΣ ΧΗΜΕΙΑΣ. Άσκηση 2 η : Φασματοφωτομετρία. ΓΕΩΠΟΝΙΚΟ ΠΑΝΕΠΙΣΤΗΜΙΟ ΑΘΗΝΩΝ Γενικό Τμήμα Εργαστήριο Χημείας

ΕΡΓΑΣΤΗΡΙΟ ΟΡΓΑΝΙΚΗΣ ΧΗΜΕΙΑΣ. Άσκηση 2 η : Φασματοφωτομετρία. ΓΕΩΠΟΝΙΚΟ ΠΑΝΕΠΙΣΤΗΜΙΟ ΑΘΗΝΩΝ Γενικό Τμήμα Εργαστήριο Χημείας Άσκηση 2 η : ΑΣΚΗΣΕΙΣ 1. Εκχύλιση - Διήθηση Διαχωρισμός-Απομόνωση 2. Ποσοτικός Προσδιορισμός 3. Ποτενσιομετρία 4. Χρωματογραφία Ηλεκτροχημεία Διαχωρισμός-Απομόνωση 5. Ταυτοποίηση Σακχάρων Χαρακτηριστικές

Διαβάστε περισσότερα

Γενικά για µικροκύµατα. ηµιουργία ηλεκτροµαγνητικών κυµάτων.

Γενικά για µικροκύµατα. ηµιουργία ηλεκτροµαγνητικών κυµάτων. ρ. Χ. Βοζίκης Εργαστήριο Φυσικής ΙΙ 5 1. Άσκηση 1 Γενικά για µικροκύµατα. ηµιουργία ηλεκτροµαγνητικών κυµάτων. 1.1 Εισαγωγή Τα µικροκύµατα είναι ηλεκτροµαγνητική ακτινοβολία όπως το ορατό φώς, οι ακτίνες

Διαβάστε περισσότερα

Μονάδες 5. 3. Η υπεριώδης ακτινοβολία. α. με πολύ μικρό μήκος κύματος δεν προκαλεί βλάβες στα κύτταρα του δέρματος. β. δεν προκαλεί φθορισμό.

Μονάδες 5. 3. Η υπεριώδης ακτινοβολία. α. με πολύ μικρό μήκος κύματος δεν προκαλεί βλάβες στα κύτταρα του δέρματος. β. δεν προκαλεί φθορισμό. ΑΡΧΗ ΗΣ ΣΕΛΙ ΑΣ ΕΠΑΝΑΛΗΠΤΙΚΕΣ ΑΠΟΛΥΤΗΡΙΕΣ ΕΞΕΤΑΣΕΙΣ ΗΜΕΡΗΣΙΟΥ ΕΝΙΑΙΟΥ ΛΥΚΕΙΟΥ ΕΥΤΕΡΑ 3 ΙΟΥΛΙΟΥ 2006 ΕΞΕΤΑΖΟΜΕΝΟ ΜΑΘΗΜΑ: ΦΥΣΙΚΗ ΓΕΝΙΚΗΣ ΠΑΙ ΕΙΑΣ ΣΥΝΟΛΟ ΣΕΛΙ ΩΝ: ΕΠΤΑ (7) ΘΕΜΑ ο Στις ερωτήσεις -4 να γράψετε

Διαβάστε περισσότερα

Θέµατα Φυσικής Γενικής Παιδείας Γ Λυκείου 2000

Θέµατα Φυσικής Γενικής Παιδείας Γ Λυκείου 2000 Θέµατα Φυσικής Γενικής Παιδείας Γ Λυκείου 2 ΕΚΦΩΝΗΣΕΙΣ Ζήτηµα 1ο Στις ερωτήσεις 1-5 να γράψετε στο τετράδιό σας τον αριθµό της ερώτησης και δίπλα το γράµµα που αντιστοιχεί στη σωστή απάντηση. 1. Σύµφωνα

Διαβάστε περισσότερα

ΕΠΑ.Λ. Β ΟΜΑ ΑΣ ΦΥΣΙΚΗ I ΕΚΦΩΝΗΣΕΙΣ

ΕΠΑ.Λ. Β ΟΜΑ ΑΣ ΦΥΣΙΚΗ I ΕΚΦΩΝΗΣΕΙΣ 1 ΕΠΑ.Λ. Β ΟΜΑ ΑΣ ΦΥΣΙΚΗ I ΕΚΦΩΝΗΣΕΙΣ ΘΕΜΑ 1 ο Να γράψετε στο τετράδιό σας τον αριθµό καθεµιάς από τις παρακάτω ερωτήσεις 1- και δίπλα το γράµµα που αντιστοιχεί στη σωστή απάντηση. 1. Σχετικά µε τις ιδιότητες

Διαβάστε περισσότερα

Εισαγωγή στις Ηλεκτρικές Μετρήσεις

Εισαγωγή στις Ηλεκτρικές Μετρήσεις Εισαγωγή στις Ηλεκτρικές Μετρήσεις Σφάλματα Μετρήσεων Συμβατικά όργανα μετρήσεων Χαρακτηριστικά μεγέθη οργάνων Παλμογράφος Λέκτορας Σοφία Τσεκερίδου 1 Σφάλματα μετρήσεων Επιτυχημένη μέτρηση Σωστή εκλογή

Διαβάστε περισσότερα

Λαμπτήρες Μαγνητικής Επαγωγής

Λαμπτήρες Μαγνητικής Επαγωγής Φωτισμός οδοποιίας, πάρκων, πλατειών ΚΡΙΤΗΡΙΑ ΕΠΙΛΟΓΗΣ ΠΛΕΟΝΕΚΤΗΜΑΤΑ-ΜΕΙΟΝΕΚΤΗΜΑΤΑ ΦΩΤΙΣΤΙΚΩΝ ΔΙΑΤΑΞΕΩΝ ΜΑΓΝΗΤΙΚΗΣ ΕΠΑΓΩΓΗΣ ΚΑΙ LED Λαμπτήρες Μαγνητικής Επαγωγής Light Emitting Diodes LED Αρχή λειτουργίας

Διαβάστε περισσότερα

7 σειρά ασκήσεων. Για την επίλυση των προβλημάτων να θεωρηθούν γνωστά: σταθερά του Planck 6,63 10-34 J s, ταχύτητα του φωτός στον αέρα 3 10 8 m/s

7 σειρά ασκήσεων. Για την επίλυση των προβλημάτων να θεωρηθούν γνωστά: σταθερά του Planck 6,63 10-34 J s, ταχύτητα του φωτός στον αέρα 3 10 8 m/s η 7 σειρά ασκήσεων Για την επίλυση των προβλημάτων να θεωρηθούν γνωστά: σταθερά του Planck 6,63 10-34 J s, ταχύτητα του φωτός στον αέρα 3 10 8 m/s 1. Εξηγήστε γιατί, όταν φως διαπερνά μία διαχωριστική

Διαβάστε περισσότερα

δ. εξαρτάται µόνο από το υλικό του οπτικού µέσου. Μονάδες 4

δ. εξαρτάται µόνο από το υλικό του οπτικού µέσου. Μονάδες 4 ΑΡΧΗ 1ΗΣ ΣΕΛΙ ΑΣ ΕΠΑΝΑΛΗΠΤΙΚΕΣ ΑΠΟΛΥΤΗΡΙΕΣ ΕΞΕΤΑΣΕΙΣ Σ ΗΜΕΡΗΣΙΟΥ ΕΝΙΑΙΟΥ ΛΥΚΕΙΟΥ ΕΥΤΕΡΑ 7 ΙΟΥΛΙΟΥ 2003 ΕΞΕΤΑΖΟΜΕΝΟ ΜΑΘΗΜΑ: ΦΥΣΙΚΗ ΓΕΝΙΚΗΣ ΠΑΙ ΕΙΑΣ ΣΥΝΟΛΟ ΣΕΛΙ ΩΝ: ΕΞΙ (6) ΘΕΜΑ 1ο Στις ερωτήσεις 1-5 να

Διαβάστε περισσότερα

B' ΤΑΞΗ ΓΕΝ.ΛΥΚΕΙΟΥ ΘΕΤΙΚΗ & ΤΕΧΝΟΛΟΓΙΚΗ ΚΑΤΕΥΘΥΝΣΗ ΦΥΣΙΚΗ ΕΚΦΩΝΗΣΕΙΣ ÅÐÉËÏÃÇ

B' ΤΑΞΗ ΓΕΝ.ΛΥΚΕΙΟΥ ΘΕΤΙΚΗ & ΤΕΧΝΟΛΟΓΙΚΗ ΚΑΤΕΥΘΥΝΣΗ ΦΥΣΙΚΗ ΕΚΦΩΝΗΣΕΙΣ ÅÐÉËÏÃÇ 1 B' ΤΑΞΗ ΓΕΝ.ΛΥΚΕΙΟΥ ΘΕΤΙΚΗ & ΤΕΧΝΟΛΟΓΙΚΗ ΚΑΤΕΥΘΥΝΣΗ ΦΥΣΙΚΗ ΘΕΜΑ 1 ο ΕΚΦΩΝΗΣΕΙΣ Να γράψετε στο τετράδιό σας τον αριθµό κάθε µιας από τις παρακάτω ερωτήσεις 1-4 και δίπλα το γράµµα που αντιστοιχεί στη

Διαβάστε περισσότερα

ΤΕΙ Καβάλας, Τμήμα Δασοπονίας και Διαχείρισης Φυσικού Περιβάλλοντος Μάθημα Μετεωρολογίας-Κλιματολογίας Υπεύθυνη : Δρ Μάρθα Λαζαρίδου Αθανασιάδου

ΤΕΙ Καβάλας, Τμήμα Δασοπονίας και Διαχείρισης Φυσικού Περιβάλλοντος Μάθημα Μετεωρολογίας-Κλιματολογίας Υπεύθυνη : Δρ Μάρθα Λαζαρίδου Αθανασιάδου 2. ΗΛΙΑΚΗ ΑΚΤΙΝΟΒΟΛΙΑ ΤΕΙ Καβάλας, Τμήμα Δασοπονίας και Διαχείρισης Φυσικού Περιβάλλοντος Μάθημα Μετεωρολογίας-Κλιματολογίας Υπεύθυνη : Δρ Μάρθα Λαζαρίδου Αθανασιάδου ΗΛΙΑΚΗ ΑΚΤΙΝΟΒΟΛΙΑ Με τον όρο ακτινοβολία

Διαβάστε περισσότερα

ΦΥΣΙΚΗ Γ' ΛΥΚΕΙΟΥ ΘΕΤΙΚΗΣ ΚΑΙ ΤΕΧΝΟΛΟΓΙΚΗΣ ΚΑΤΕΥΘΥΝΣΗΣ 2006 ΕΚΦΩΝΗΣΕΙΣ

ΦΥΣΙΚΗ Γ' ΛΥΚΕΙΟΥ ΘΕΤΙΚΗΣ ΚΑΙ ΤΕΧΝΟΛΟΓΙΚΗΣ ΚΑΤΕΥΘΥΝΣΗΣ 2006 ΕΚΦΩΝΗΣΕΙΣ ΦΥΣΙΚΗ Γ' ΛΥΚΕΙΟΥ ΘΕΤΙΚΗΣ ΚΑΙ ΤΕΧΝΟΛΟΓΙΚΗΣ ΚΑΤΕΥΘΥΝΣΗΣ 006 ΕΚΦΩΝΗΣΕΙΣ ΘΕΜΑ ο Να γράψετε στο τετράδιό σας τον αριθµό καθεµιάς από τις παρακάτω ερωτήσεις - 4 και δίπλα το γράµµα που αντιστοιχεί στη σωστή

Διαβάστε περισσότερα

ΤΕΙ - ΧΑΛΚΙ ΑΣ 4. ΕΙ ΙΚΕΣ ΙΟ ΟΙ. ίοδος zener. Χαρακτηριστική καµπύλη διόδου zener. Χαρακτηριστική καµπύλη διόδου Zener

ΤΕΙ - ΧΑΛΚΙ ΑΣ 4. ΕΙ ΙΚΕΣ ΙΟ ΟΙ. ίοδος zener. Χαρακτηριστική καµπύλη διόδου zener. Χαρακτηριστική καµπύλη διόδου Zener 4. Ειδικές ίοδοι - Ι.Σ. ΧΑΛΚΙΑ ΗΣ διαφάνεια 1 4. ΕΙ ΙΚΕΣ ΙΟ ΟΙ ίοδος zener Χαρακτηριστική καµπύλη διόδου zener Τάση Zener ( 100-400 V για µια απλή δίοδο) -V Άνοδος Ι -Ι Κάθοδος V Τάση zener V Z I Ζ 0,7V

Διαβάστε περισσότερα

αγωγοί ηµιαγωγοί µονωτές Σχήµα 1

αγωγοί ηµιαγωγοί µονωτές Σχήµα 1 Η2 Μελέτη ηµιαγωγών 1. Σκοπός Στην περιοχή της επαφής δυο ηµιαγωγών τύπου p και n δηµιουργούνται ορισµένα φαινόµενα τα οποία είναι υπεύθυνα για τη συµπεριφορά της επαφής pn ή κρυσταλλοδιόδου, όπως ονοµάζεται,

Διαβάστε περισσότερα

ΣΗΜΕΙΩΣΕΙΣ ΕΡΓΑΣΤΗΡΙΟΥ (Κυκλώματα Φωτισμού)

ΣΗΜΕΙΩΣΕΙΣ ΕΡΓΑΣΤΗΡΙΟΥ (Κυκλώματα Φωτισμού) Α.Τ.Ε.Ι. ΠΕΙΡΑΙΑ ΣΧΟΛΗ ΤΕΧΝΟΛΟΓΙΚΩΝ ΕΦΑΡΜΟΓΩΝ ΣΗΜΕΙΩΣΕΙΣ ΕΡΓΑΣΤΗΡΙΟΥ (Κυκλώματα Φωτισμού) στο μάθημα ΚΤΙΡΙΑΚΕΣ ΕΓΚΑΤΑΣΤΑΣΕΙΣ («ΗΛΕΚΤΡΙΚΕΣ ΕΓΚΑΤΑΣΤΑΣΕΙΣ») Σταύρος Καμινάρης Δρ. Ηλεκτρολόγος Μηχανικός ΕΜΠ

Διαβάστε περισσότερα

Ερωτήσεις πολλαπλής επιλογής στο φάσμα της ηλεκτρομαγνητικής ακτινοβολίας

Ερωτήσεις πολλαπλής επιλογής στο φάσμα της ηλεκτρομαγνητικής ακτινοβολίας Ερωτήσεις πολλαπλής επιλογής στο φάσμα της ηλεκτρομαγνητικής ακτινοβολίας Να επιλέξετε τη σωστή απάντηση στις ερωτήσεις που ακολουθούν. Μπορείτε να αξιοποιήσετε το παραπάνω σχήμα που αναφέρεται στο φάσμα

Διαβάστε περισσότερα

ΑΞΟΝΙΚΗ ΤΟΜΟΓΡΑΦΙΑ. Ευάγγελος Παντελής Επ. Καθ. Ιατρικής Φυσικής Εργαστήριο Ιατρικής Φυσικής Ιατρική Σχολή Αθηνών

ΑΞΟΝΙΚΗ ΤΟΜΟΓΡΑΦΙΑ. Ευάγγελος Παντελής Επ. Καθ. Ιατρικής Φυσικής Εργαστήριο Ιατρικής Φυσικής Ιατρική Σχολή Αθηνών ΑΞΟΝΙΚΗ ΤΟΜΟΓΡΑΦΙΑ Ευάγγελος Παντελής Επ. Καθ. Ιατρικής Φυσικής Εργαστήριο Ιατρικής Φυσικής Ιατρική Σχολή Αθηνών ΙΑΤΡΙΚΗ ΦΥΣΙΚΗ Διαγνωστικές και θεραπευτικές εφαρμογές ακτινοβολιών : Κεφάλαιο 11 ΕΙΣΑΓΩΓΗ

Διαβάστε περισσότερα

Η Φύση του Φωτός. Τα Β Θεματα της τράπεζας θεμάτων

Η Φύση του Φωτός. Τα Β Θεματα της τράπεζας θεμάτων Η Φύση του Φωτός Τα Β Θεματα της τράπεζας θεμάτων Η ΦΥΣΗ ΤΟΥ ΦΩΤΟΣ Θέμα Β _70 Β. Μονοχρωματική ακτίνα πράσινου φωτός διαδίδεται αρχικά στον αέρα. Στη πορεία της δέσμης έχουμε τοποθετήσει στη σειρά τρία

Διαβάστε περισσότερα