Μια ματιά στο πρώτο εργοστάσιο παραγωγής φωτοβολταϊκών πάνελ λεπτών υμενίων στην Ελλάδα. Ilias Garidis COO

Μέγεθος: px

Εμφάνιση ξεκινά από τη σελίδα:

Download "Μια ματιά στο πρώτο εργοστάσιο παραγωγής φωτοβολταϊκών πάνελ λεπτών υμενίων στην Ελλάδα. Ilias Garidis COO"

Μύρων Βιτάλης
8 χρόνια πριν
Προβολές:

1 Μια ματιά στο πρώτο εργοστάσιο παραγωγής φωτοβολταϊκών πάνελ λεπτών υμενίων στην Ελλάδα Ilias Garidis COO 0

2 Παγκόσμια ενεργειακή κάλυψη έως το

3 Η εταιρεία μας 2

4 Κεντρικά γραφεία στην Αθήνα Εργοστάσιο παραγωγής στην Τρίπολη Γραφεία πωλήσεων σε Ισπανία, Γαλλία, Τυνησία, Τουρκία, Ελλάδα 200 m επένδυση το εργαζόμενοι +60 MW ετήσια παραγωγική δυναμικότητα πάνελ φορτηγα/έτος ~1400 πάνελ/ημέρα 3

m επένδυση το 2008-2009 +180 εργαζόμενοι +60 MW ετήσια παραγωγική

5 Οι στρατηγικοί μας πυλώνες Εταιρική Ευθύνη Διεθνής Εστίαση Υποστήριξη Πελατών Παραγωγή υψηλής αποδοτικότητας Cutting Edge Technology 4

6 Προϊόντα και τεχνολογία 5

7 Τα προϊόντα μας State of the art Thin Film micromorph-tandem technology (developed by Oerlikon-Ελβετίας) 105, 110, 115, 120, 125, 130 Wp Ισχύς (-0/+5 Wp) Ανοχή Double glass laminate (6.4 mm thickness) Unframed 1,43 m2 (1.3 x 1.1 m) 7,34% -9,09% απόδοση Max. τάση : Vdc!!! Εγγύηση: 5 χρόνια εγγύηση προϊόντος Εγγύηση ισχύος: 10 χρόνια 90% 20 χρόνια 80% της Pmpp Πιστοποίηση: IEC &

4 mm thickness) Unframed 1,43 m2 (1.3 x 1.1 m) 7,34% -9,09% απόδοση Max. τάση : 1.000 Vdc!

8 Δύο κύριες φ/β τεχνολογίες: Bulk semiconductor και thin film φ/β πάνελ βασισμένα σε κρυσταλλικό πυρίτιο Παραγωγή: Τα πάνελ παράγονται σε βάση wafer κρυσταλλικού πυριτίου Λειτουργικότητα του κελιού, π.χ. για τις ηλεκτρικές ενώσεις, εφαρμοσμένη σε κάθε κρυσταλλικό wafer φ/β πάνελ με βάση εναπόθεση υμενίων πυριτίου Παραγωγή: Τα πάνελ παραγόνται μέσω της εναπόθεσης πολύ λεπτών φίλμ πάνω σε υάλινο υπόστρωμα Λειτουργικότητα του κελιού επίσης μέσω εναπόθεσης λεπτών, διαφανών φίλμ Οικονομικά κι οικολογικά χαρακτηριστικά: Ανταγωνισμός για το πυρίτιο καθιστά την παραγωγή σημαντικά ακριβότερη Σχετικά υψηλές εκπομπές (vs. TF) CO 2 κατά την παραγωγή λόγω μεγαλύτερης εντάσεως πρώτων υλών Οικονομικά κι οικολογικά χαρακτηριστικά: Χαμηλότερες εκπομπές CO 2 λόγω αποδοτικότερης χρήσης των πρώτων υλών Ραγδαία τεχνολογική ανάπτυξη και αύξηση της αποδοτικότητας 7

υπόστρωμα Λειτουργικότητα του κελιού επίσης μέσω εναπόθεσης λεπτών, διαφανών φίλμ Οικονομικά κι οικολογικά χαρακτηριστικά: Ανταγωνισμός για το πυρίτιο καθιστά την παραγωγή σημαντικά ακριβότερη

9 Εξέλιξη αγοράς Αγορά φ/β κατά τεχνολογία Διπλασιασμός μεριδίου αγοράς σε 4 χρόνια 100% 90% 80% 70% 60% 50% 40% 30% 20% 10% 0% Thin Film Multicrystalline silicon Monocrystalline silicon 6,1% 5,8% 5,6% 5,9% 8,3% 11,6% 13,0% 59,9% 62,5% 60,3% 56,6% 50,4% 47,9% 45,7% 34,0% 31,7% 34,1% 37,5% 41,4% 40,4% 41,3%

Monocrystalline silicon 6,1% 5,8% 5,6% 5,9% 8,3% 11,6% 13,0% 59,9% 62,5% 60,3% 56,6%

10 Thin Film Απόδοση και ισχύς φ/β πάνελ Ένας εξαιρετικός συνδυασμός: Απόδοση Ισχύς 1000 Vdc -0/+5 W ανοχή Legend: Max. Operating Voltage 1000 Vdc <600 Vdc Power tolerance -0/+5 W +/- 3%, 5% or 10% Efficiency 12% 11% 10% 9% 8% 7% 6% 5% Würth CIS Solibro CIS FS CdTe Calixo CdTe HelioSphera Sharp (usi) MHI (usi) Sontor (usi) KnK asi Schott asi Auria asi QSSolar asi MHI asi Ersol asi Apmat asi KnK asi Unisolar asi EPV asi 4% Wp nominal (*) Source: public datasheets from manufacturers. Some of the products are not yet available in the market 9

Calixo CdTe HelioSphera Sharp (usi) MHI (usi) Sontor (usi) KnK asi Schott asi Auria asi QSSolar asi MHI asi Ersol asi Apmat asi KnK asi Unisolar

11 Δομή φ/β micromorph 10

12 Πλεονεκτήματα τεχνολογίας micromorph -Καλύτερη αξιοποίηση του ηλιακού φάσματος σε σχέση με τα συνήθη φ/β (π.χ. a-si) -Ευρύτερη φασματική απόκριση λόγω του συνδυασμού 2 διαφορετικών υλικών (a-si & mc-si) 11

13 Ολοκληρωμένο Micromorph φ/β πάνελ Pattern 3 Pattern 2 Pattern 1 Glass TCO a-si:h Back Contact (TCO) Ολοκληρωμένη σειριακή διασύνδεση στοιχείων 12

14 Πλεονεκτήματα τεχνολογίας micromorph Καλύτερη απόδοση σε συνθήκες σκίασης Κρυσταλλικό Si- Ολόκληρο το πάνελ δεν παράγει ρεύμα αν τουλάχιστον 1 στοιχείο είναι σκιασμένο Micromorph Η δομή συνεχίζει να παράγει αρκετό ρεύμα σε συνθήκες μερικής σκίασης 13

ρεύμα αν τουλάχιστον 1 στοιχείο είναι σκιασμένο Micromorph Η

15 Πλεονεκτήματα τεχνολογίας micromorph Παράδειγμα σκίασης σε micromorph Κάθετη σκίαση με λωρίδα πλάτους 11cm Μικρή απώλεια ισχύος (10%) 14

16 Πλεονεκτήματα τεχνολογίας micromorph Μεταβολή απόδοσης με τη θερμοκρασία Κρυσταλλικό Si micromorph Πτώση ισχύος με τη θερμοκρασία (% / 0 C) σχεδόν 2 φορές καλύτερη συμπεριφορά σε σχέση με το κρυσταλλικό Si 15

17 Πλεονεκτήματα τεχνολογίας micromorph Επίδραση της θερμοκρασίας σε φ/β πάρκο micromorph Κρυσταλλικό Si Πτώση ισχύος με τη θερμοκρασία σε πάρκο 100kW 16

18 Πλεονεκτήματα τεχνολογίας micromorph Εποχιακή μεταβολή απόδοσης Πτώση ισχύος με τη θερμοκρασία (% / 0 C) σχεδόν 2 φορές καλύτερη συμπεριφορά σε σχέση με το κρυσταλλικό Si 17

19 Απόδοση φ/β thin film Si σε ηλιακά πάρκα Thin film Si Κρυσταλλικό Si 15-20% περισσότερες αποδιδόμενες kwh σε σχέση με το κρυσταλλικό 18

20 Απόδοση φ/β σε διαφορετικές εντάσεις φωτισμού Διατήρηση καλής απόδοσης ακόμα και σε χαμηλά επίπεδα φωτισμού ( W/cm 2 ) 19

21 Πλεονεκτήματα HelioSphera φ/β πάνελ άνευ πλαισίου Χαμηλότατες διαρροές ρεύματος Δεν χρειάζεται γείωση Καμία συγκέντρωση ύδατος και κίνδυνος πάγου μεταξύ πλαισίου και γυαλιού Καμία συγκέντρωση σκόνης και σκίαση των κελιών 20

22 Περίληψη: Τεχνολογία micromorph Μικρότερη κατανάλωση υλικού (μ-si:h 0.8g SiH 4 /W p αντί 10 g/w p for c-si) που είναι άφθονο και μη τοξικό Χαμηλή θερμοκρασία παραγωγής (a-si:h~ C) που επιτρέπει αποδοτικότερη παραγωγική διαδικασία Καλύτερη εκμετάλλευση του ηλιακού φάσματος σε σχέση με το κρυσταλλικό Si καλύτερη απόδοση σε συνθήκες συννεφιάς και διάχυτου φωτός Καλύτερη απόδοση σε σχέση με το κρυσταλλικό Si σε συνθήκες σκίασης λόγω ολοκληρωμένης σειριακής διασύνδεσης των στοιχείων με laser Περιβαλλοντικά φιλική τεχνολογία σε αντίθεση με άλλες thin film (CdTe) Καλύτερη απόδοση σε υψηλές θερμοκρασίες σε σχέση με το κρυσταλλικό Si (π.χ. Καλοκαίρι) Χαμηλό ενέργειακό ισοζυγίο (energy payback time), 3-4 χρόνια Σε σύγκριση με το κρυσταλλικό Si, τα πάνελ thin film micromorph παράγουν ως και 15% περισσότερη ενέργεια για την ίδια εγκατεστημένη ισχύ 21

23 22

24 Κόστος εγκατάστασης φ/β λεπτών φιλμ σε σχέση με το κρυσταλλικό Χαμηλότερο συνολικό κόστος Χαμηλό κόστος πάνελ μειώνει το συνολικό κόστος εγκατάστασης 23

Σχετικά έγγραφα

Τεχνολογικές Εξελίξεις Φωτοβολταϊκών Συστημάτων

Τεχνολογικές Εξελίξεις Φωτοβολταϊκών Συστημάτων Πανεπιστήμιο Κύπρου Περιεχόμενα Σημερινή κατάσταση στα θέματα Ενέργειας Τιμές Ηλεκτρικού Ρεύματος Προοπτική Ηλιακής Ενέργειας Εξελίξεις σε θέματα ΦΒ τεχνολογίας