Αλλαγή της δομής των ταινιών λόγω κραματοποίησης



Σχετικά έγγραφα
H επεξεργασία πληροφορίας απαιτεί ανίχνευση πληροφορίας

Φυσική Στερεάς Κατάστασης η ομάδα ασκήσεων Διδάσκουσα Ε. Κ. Παλούρα

ΝΑΝΟΥΛΙΚΑ ΚΑΙ ΝΑΝΟΤΕΧΝΟΛΟΓΙΑ ΣΤΕΛΛΑ ΚΕΝΝΟΥ ΚΑΘΗΓΗΤΡΙΑ

Σύµφωνα µε την προσέγγιση << Ιδεατού Κρυστάλλου>> για κράµατα έχουµε:

ιδάσκων: Λευτέρης Λοιδωρίκης Π

ΑΡΧΕΣ ΗΛΕΚΤΡΟΝΙΚΩΝ ΣΤΟΙΧΕΙΩΝ

Τα αρχικά στάδια της επιταξιακής ανάπτυξης

ΑΡΧΕΣ ΗΛΕΚΤΡΟΝΙΚΩΝ ΣΤΟΙΧΕΙΩΝ

Τα αρχικά στάδια της επιταξιακής ανάπτυξης

Ε. Κ. ΠΑΛΟΎΡΑ Ημιαγωγοί 1. Ημιαγωγοί. Το 1931 ο Pauli δήλωσε: "One shouldn't work on. semiconductors, that is a filthy mess; who knows if they really

Τα αρχικά στάδια της επιταξιακής ανάπτυξης

p - n επαφή και εκπομπή φωτονίων

Χαρακτηρισμός και μοντέλα τρανζίστορ λεπτών υμενίων βιομηχανικής παραγωγής: Τεχνολογία μικροκρυσταλλικού πυριτίου χαμηλής θερμοκρασίας

Ημιαγωγοί. Ημιαγωγοί. Ενδογενείς εξωγενείς ημιαγωγοί. Ενδογενείς ημιαγωγοί Πυρίτιο. Δομή ενεργειακών ζωνών

Μετρήσεις Διατάξεων Laser Ανιχνευτές Σύμφωνης Ακτινοβολίας. Ιωάννης Καγκλής Φυσικός Ιατρικής Ακτινοφυσικός

Δίοδοι εκπομπής φωτός Light Emitting Diodes

ΤΕΧΝΟΛΟΓΙΑ ΥΛΙΚΩΝ ΜΑΘΗΜΑ 1 Ο ΙΔΙΟΤΗΤΕΣ ΥΛΙΚΩΝ. Δρ. M.Χανιάς Αν.Καθηγητής Τμήμα Ηλεκτρολόγων Μηχανικών ΤΕ, ΤΕΙ Ανατολικής Μακεδονίας και Θράκης

Φασματοσκοπία SIMS (secondary ion mass spectrometry) Φασματοσκοπία μάζης δευτερογενών ιόντων

ΒΑΣΙΚΑ ΗΛΕΚΤΡΟΝΙΚΑ ΜΙΚΡΟΗΛΕΚΤΡΟΝΙΚΗ Ηµιαγωγοί VLSI T echnol ogy ogy and Computer A r A chitecture Lab Γ Τσ ιατ α ο τ ύχ ύ α χ ς ΒΑΣΙΚΑ ΗΛΕΚΤΡΟΝΙΚΑ

ΦΩΤΟΒΟΛΤΑΪΚΑ. Γ. Λευθεριώτης Αναπλ. Καθηγητής Γ. Συρροκώστας Μεταδιδακτορικός Ερευνητής

Mετασχηματισμοί διάχυσης στα στερεά / Πυρηνοποίηση στην στερεά κατάσταση. Ομογενής πυρηνοποίηση στα στερεά/μετασχηματισμοί διάχυσης.

ΚΕΦΑΛΑΙΟ ΕΚΤΟ ΤΕΧΝΟΛΟΓΙΚΕΣ ΔΙΕΡΓΑΣΙΕΣ ΣΤΕΡΕΑΣ ΚΑΤΑΣΤΑΣΗΣ. Περιληπτική θεωρητική εισαγωγή

Nανο τρανζιστορ. Κανόνες σμίκρυνσης του τρανζίστορ. Εναλλακτικές αρχιτεκτονικές HEMT. Ηλεκτρονικά με σπιν

Βρέντζου Τίνα Φυσικός Μεταπτυχιακός τίτλος: «Σπουδές στην εκπαίδευση» ΜEd stvrentzou@gmail.com

ΣΧΟΛΗ ΕΜΦΕ ΤΟΜΕΑΣ ΦΥΣΙΚΗΣ ΕΑΡΙΝΟ ΕΞΑΜΗΝΟ Φυσική Συμπυκνωμένης Ύλης (Ενότητα: Ημιαγωγοί) Ασκήσεις Ι. Ράπτης

Στοιχεία Φυσικής Ημιαγωγών (ΕΤΥ481)

Ελεύθερα ηλεκτρόνια στα μέταλλα-σχέση διασποράς

2η Εργαστηριακή Άσκηση Εξάρτηση της ηλεκτρικής αντίστασης από τη θερμοκρασία Θεωρητικό μέρος

ΟΠΤΙΚΟΗΛΕΚΤΡΟΝΙΚΗ. Μάθημα 6ο Φωτοπηγές Φωτοεκπέμπουσες δίοδοι LED. Αρ. Τσίπουρας, Phd ΤΜΗΜΑ ΠΛΗΡΟΦΟΡΙΚΗΣ &ΤΗΛΕΠΙΚΟΙΝΩΝΙΩΝ

ΣΧΟΛΗ ΕΜΦΕ ΤΟΜΕΑΣ ΦΥΣΙΚΗΣ Ηµιαγωγοί και Ηµιαγώγιµες οµές (7 ο Εξάµηνο Σπουδών)

ΦΩΤΟΒΟΛΤΑΪΚΑ. Γ. Λευθεριώτης Αναπλ. Καθηγητής Γ. Συρροκώστας Μεταδιδακτορικός Ερευνητής

Ηλεκτρικη αγωγιµοτητα

Ηλεκτρονική δομή ημιαγωγών-περίληψη. Σχέση διασποράς για ελεύθερα ηλεκτρόνια στα μέταλλα-

1.1 Ηλεκτρονικές ιδιότητες των στερεών. Μονωτές και αγωγοί

Ξεκινώντας από την εξίσωση Poisson για το δυναμικό V στο στατικό ηλεκτρικό πεδίο:

ΑΠΑΝΤΗΣΕΙΣ. Σχήμα 1 Σχήμα 2 Σχήμα 3

ΦΩΤΟΒΟΛΤΑΪΚΑ. Γ. Λευθεριώτης Αναπλ. Καθηγητής Γ. Συρροκώστας Μεταδιδακτορικός Ερευνητής

Ελεύθερα ηλεκτρόνια στα μέταλλα-σχέση διασποράς (μέρος 2)

ΗΛΕΚΤΡΟΤΕΧΝΙΚΑ Υλικα 3ο μεροσ. Θεωρητικη αναλυση

Εισαγωγή στη Μικροηλεκτρονική 1. Στοιχειακοί ηµιαγωγοί

Κεφάλαιο 3 ο. Γ. Τσιατούχας. VLSI Technology and Computer Architecture Lab. Ημιαγωγοί - ίοδος Επαφής 2

αγωγοί ηµιαγωγοί µονωτές Σχήµα 1

12. Εάν ένα κομμάτι ημιαγωγού τύπου n και ένα κομμάτι ΟΧΙ

Οι ηµιαγωγοι αποτελουν την πλεον χρησιµη κατηγορια υλικων απο ολα τα στερεα για εφαρµογες στα ηλεκτρονικα.

. Να βρεθεί η Ψ(x,t).

Ένταση Ηλεκτρικού Πεδίου υναµικό

ΑΣΚΗΣΗ 15 Μελέτη φωτοδιόδου (φωτοανιχνευτή) και διόδου εκπομπής φωτός LED

Νανοηλεκτρονικές Διατάξεις Π. Φωτόπουλος ΠΑΔΑ

Κβαντικά σύρματα, κβαντικές τελείες, νανοτεχνολογία Nucleation of a Si nanowire

ΑΝΑΛΟΓΙΚΑ ΗΛΕΚΤΡΟΝΙΚΑ

Μοριακή Φασματοσκοπία I. Παραδόσεις μαθήματος Θ. Λαζαρίδης

Αγωγιμότητα στα μέταλλα

Διδακτικό υλικό για το μάθημα ΦΥΣΙΚΗ ΚΑΙ ΤΕΧΝΟΛΟΓΙΑ ΥΛΙΚΩΝ & ΔΙΑΤΑΞΕΩΝ ΟΠΤΟΗΛΕΚΤΡΟΝΙΚΗΣ

Επαφές μετάλλου ημιαγωγού

Φυσική νανοδομών & επιφανειών

Διατάξεις ημιαγωγών. Δίοδος, δίοδος εκπομπής φωτός (LED) Τρανζίστορ. Ολοκληρωμένο κύκλωμα

Υλικά Ηλεκτρονικής & Διατάξεις

/personalpages/papageorgas/ download/3/

ΦΥΣΙΚΗ ΓΕΝΙΚΗΣ ΠΑΙΔΕΙΑΣ

Χαρακτηρισμός υλικών με ιόντα

Περιεχόμενο της άσκησης

Περιεχόμενο της άσκησης

ΧΑΡΑΚΤΗΡΙΣΜΟΣ ΛΕΠΤΩΝ ΥΜΕΝΙΩΝ ΥΔΡΟΓΟΝΩΜΕΝΟΥ ΠΥΡΙΤΙΟΥ (Si:H) ΜΕ ΦΑΣΜΑΤΟΣΚΟΠΙΑ ΥΠΕΡΙΩΔΟΥΣ ΟΡΑΤΟΥ (UV/VIS)

ΤΕΧΝΟΛΟΓΙΑ & ΕΠΙΣΤΗΜΗ ΤΩΝ ΥΛΙΚΩΝ

ΑΡΧΕΣ ΗΛΕΚΤΡΟΝΙΚΩΝ ΣΤΟΙΧΕΙΩΝ Αγωγιμότητα σε ημιαγωγούς

Ημιαγωγοί και Νανοηλεκτρονική

Ατομική και ηλεκτρονιακή δομή των στερεών

Δομή ενεργειακών ζωνών

Άσκηση 5 ΦΩΤΟΒΟΛΤΑΪΚΟ ΦΑΙΝΟΜΕΝΟ

τα μεταλλικά Μια στρώμα. Για την έννοια πως αν και νανοσωματίδια (με εξάχνωση Al). πρέπει κανείς να τοποθετήσει τα μερικές δεκάδες nm πράγμα

7.a. Οι δεσμοί στα στερεά

Ασκήσεις Φασµατοσκοπίας

Π. Φωτόπουλος Νανοηλεκτρονικές Διατάξεις ΠΑΔΑ

Άσκηση 3 Η φωτο-εκπέµπουσα δίοδος (Light Emitting Diode)

Ημιαγωγοί: Η Φυσική της Τεχνολογίας

4. Παρατηρείστε το ίχνος ενός ηλεκτρονίου (click here to select an electron

ΗΛΕΚΤΡΟΝΙΚΗ Ι Ενότητα 2

Αγωγιμότητα στα μέταλλα

Ηλεκτρονική Φυσική & Οπτικοηλεκτρονική

ΚΕΦΑΛΑΙΟ ΕΚΤΟ 6. ΔΙΟΔΟΙ ΕΚΠΟΜΠΗΣ ΦΩΤΟΣ (LIGHT EMITTING DIODE, LED)

Φώραση Οπτικών Σηµάτων

ΑΡΧΗ 1ΗΣ ΣΕΛΙ ΑΣ Γ ΗΜΕΡΗΣΙΩΝ ΕΣΠΕΡΙΝΩΝ

Η επαφή p n. Η επαφή p n. Υπενθύμιση: Ημιαγωγός τύπου n. Υπενθύμιση: Ημιαγωγός τύπου p

Ερωτήσεις-Θέματα προηγούμενων εξετάσεων

ΠΑΡΑΓΩΓΗ ΜΙΚΡΟΚΥΜAΤΩΝ ΜΕ ΔΙΟΔΟ GUNN

ΤΕΙ ΑΘΗΝΑΣ ΤΜΗΜΑ ΦΥΣΙΚΗΣ ΧΗΜΕΙΑΣ & Τ/Υ ΕΡΓΑΣΤΗΡΙΟ ΦΥΣΙΚΗΣ ΟΠΤΙΚΗΣ - ΟΠΤΟΗΛΕΚΤΡΟΝΙΚΗΣ & LASER

ΠΑΡΑΡΤΗΜΑ Β. ΚΑΤΑΜΕΤΡΗΣΗ ΚΑΝΟΝΙΚΩΝ ΤΡΟΠΩΝ - ΠΥΚΝΟΤΗΤΑ ΚΑΤΑΣΤΑΣΕΩΝ D.O. S Density Of States

Πείραμα - 6 Η ηλεκτρική αγωγιμότητα και η μέτρηση του ενεγειακού χασματος στο Γερμάνιο

Διάλεξη 6: Ατομική Δομή Συμμετρία Εναλλαγής

ΤΜΗΜΑ ΗΛΕΚΤΡΟΝΙΚΩΝ ΜΗΧΑΝΙΚΩΝ

Ηλεκτρομαγνητισμός. Μαγνητικό πεδίο. Νίκος Ν. Αρπατζάνης

Ορθή πόλωση της επαφής p n

ΦΥΣΙΚΕΣ ΜΕΘΟΔΟΙ ΣΤΗΝ ΑΝΟΡΓΑΝΗ ΧΗΜΕΙΑ

Βασικές διαδικασίες παραγωγής πολωμένου φωτός

Ανάστροφη πόλωση της επαφής p n

Βασικές αρχές ηµιαγωγών και τρανζίστορ MOS. Εισαγωγή στην Ηλεκτρονική

ΑΡΧΗ 1ΗΣ ΣΕΛΙ ΑΣ Γ ΗΜΕΡΗΣΙΩΝ ΕΣΠΕΡΙΝΩΝ

Ε. Κ. Παλούρα ΦΣΚ Εισαγωγικές έννοιες

Δίοδος Εκπομπής Φωτός, (LED, Light Emitting Diode), αποκαλείται ένας ημιαγωγός ο οποίος εκπέμπει φωτεινή ακτινοβολία στενού φάσματος όταν του

ΠΑΡΑΡΤΗΜΑ Β. υποθέτουμε ότι ένα σωματίδιο είναι μέσα σε ένα μεγάλο (ενεργειακή κβαντοποίηση) αλλά πεπερασμένο κουτί (φρεάτιο δυναμικού):

Transcript:

Αλλαγή της δομής των ταινιών λόγω κραματοποίησης Παράμετροι που τροποποιούν την δομή των ταινιών Σχηματισμός κράματος ή περισσοτέρων ημιαγωγών Ανάπτυξη ετεροδομών ή υπερδομών κβαντικός περιορισμός (quantum confinement) Επιταξιακή ανάπτυξη υπό συνθήκες strained epita. Κβαντικό πηγάδι σχηματίζεται όταν ανάμεσα σε υμένια υλικού ευρέως χάσματος, παρεμβάλλεται υλικό μικρότερου χάσματος π.χ. GaAs/ΑlAs/GaAs. Το κβαντικό πηγάδι σχηματίζεται τόσο στην ταινία αγωγιμότητας όσο και στην ταινία σθένους τα ηλεκτρόνια και οι οπές δεν κινούνται ελεύθερα στον κρύσταλλο αλλά παραμένουν «εντοπισμένα» (confined). Η κίνηση επίπεδο ανάπτυξης είναι απαγορευμένη ενώ η μόνη επιτρεπτή κίνηση είναι στο επίπεδο διεύθυνση ανάπτυξης. Σελίδα 1 από 15

Σχηματικό διάγραμμα κβαντικού πηγαδιού για e και h σε ετεροδομή AlAs/GaAs/AlAs. Σελίδα από 15

Τι συμβαίνει στο χάσμα?? Πόση είναι η ασυνέχεια στα ακρότατα των ταινιών (band edge discontinuit)? Επειδή εκατέρωθεν της διεπιφάνειας υπάρχουν ανόμοιοι δεσμοί μεταφορά φορτίου και σχηματισμός διπόλων απόκλιση από το μοντέλο της διαφοράς της ηλεκτρονικής συγγένειας που προβλέπει ότι η ΔΕ C =e(χ Α -χ Β ). Όμως κανόνας αυτός δεν ισχύει π.χ: στο σύστημα GaAs/AlAs ΔΕ C =60-65% (ΔΕ g ) Σελίδα 3 από 15

Σχηματικό διάγραμμα κβαντικού πηγαδιού για ηλεκτρόνια & οπές και των επι μέρους ταινιών (subband levels). Στο επίπεδο οι ταινίες είναι παραβολικές. Για το κβαντικό πηγάδι του σχήματος, η Schrödinger για την ισότροπη ταινία αγωγιμότητας (ΤΑ) γράφεται: h + ( ) = Ε * V m Όπου m* η ενεργός μάζα του e. Η σχέση ισχύει για υλικά ευθέως χάσματος όπου η m* είναι ισότροπη. Σελίδα 4 από 15

Σελίδα 5 από 15 Το e είναι περιορισμένο κατά την διεύθυνση η Schrödinger διαχωρίζεται ως εξής: = E m = Ψ * h E m = Ψ * h και E V m = + Ψ ) ( * h Και οι αντίστοιχες λύσεις είναι Στο επίπεδο, Κατά τον άξονα ik e L 1 = * m k E h = ik e L 1 = * m k E h = W n W π cos =, n περιττό W n W π sin =, n άρτιο * W m n E h π =

Η συνολική ενέργεια του ηλεκτρονίου, όπως αυτή μετράται από τον πυθμένα της ΤΑ για το υλικό όγκου είναι: E h n h k ( n, k, k ) = π + + * * * m W m h k m δημιουργούνται υπο-ταινίες στις οποίες το e συμπεριφέρεται σαν σε χώρο -διαστάσεων. η πυκνότητα καταστάσεων έχει την χαρακτηριστική βηματική μορφή. Επίδραση του κβαντικού περιορισμού στην ταινία σθένους. Θεωρούμε ότι υπάρχουν παραβολικές ταινίες, των ελαφρών και βαρέων οπών μεταξύ των οποίων υπάρχει ισχυρή σύζευξη η δομή της ταινίας σθένους αποκλίνει από την παραβολική συμπεριφορά και η μάζα των οπών στο επίπεδο εξαρτάται από τη διάσταση του πηγαδιού. Ταινία σθένους του κβαντικού πηγαδιού GaAs/AlGaAs όπου φαίνεται η απόκλιση από την παραβολική συμπεριφορά. Το γεγονός ότι στην κορυφή της ΤΑ υπάρχει η ταινία ΗΗ επηρεάζει την εξάρτηση από την πόλωση των οπτικών μεταπτώσεων. Σελίδα 6 από 15

Επίδραση του strain Strain εισάγεται στα επιταξιακά υμένια όταν η ανάπτυξη γίνεται επάνω σε υπόστρωμα με διαφορετική πλεγματική σταθερά. Αν το πάχος του υμενίου είναι μικρότερο από το κρίσιμο πάχος, τότε το strain είναι ομοιόμορφο και δεν δημιουργούνται εξαρμώσεις. To ομοιόμορφο strain η πλεγματική σταθερά στη διεπιφάνεια προσαρμόζεται έτσι ώστε να γίνει ίση προς αυτή του υποστρώματος. η πλεγματική σταθερά έξω από αυτό το επίπεδο προσαρμόζεται σε μία νέα τιμή σύμφωνα με τον νόμο του Poisson. Παράδειγμα Αν ε είναι το strain ανάμεσα σε επιταξιακό υμένιο Α με πλεγματική σταθερά α Α και υπόστρωμα με πλεγματική σταθερά α s και η ανάπτυξη γίνεται κατά την (001) ο τανυστής του strain είναι ε = as a a A A ε =ε, ε =ε, ε C = C 1 11 Όπου C 11, C 1 είναι σταθερές του υλικού (force constants). Σελίδα 7 από 15

Σε ένα κυβικό υλικό το strain αίρεται η κυβική συμμετρία αίρεται ο εκφυλισμός των ταινιών HH & LH & εμφανίζεται σημαντικό splitting 100 mev όταν η πλεγματική σταθερά του υποστρώματος < αυτής του επιταξιακού υμενίου η ταινία ΗΗ σχηματίζει την κορυφή της σθένους επηρεάζεται η οπτοηλεκτρονική συμπεριφορά (μέσω της m* που μπαίνει στην σχέση που δίνει την πυκνότητα καταστάσεων) παρατηρείται δραματική μείωση της ενεργού μάζας.. Επίδραση του strain στη δομή ταινιών ημιαγωγού ευθέως χάσματος: Αίρεται ο εκφυλισμός στο k=0 και διαχωρίζονται οι ταινίες ΗΗ και LH. Αλλαγή της ενεργού μάζας στην ταινία σθένους του InGaAs συναρτήσει του strain. H m * h μειώνεται κατά παράγοντα 3. Σελίδα 8 από 15

Μεταβολή της πυκνότητας καταστάσεων συναρτήσει των διαστάσεων (dimensionalit) Πυκνότητα καταστάσεων ημιαγωγού στη 1 διάσταση (πράσινη γραμμή-κβαντικό σύρμα 10nm), διαστάσεις(κόκκινη γραμμήκβαντικό πηγάδι εύρους 10nm) και 3 διαστάσεις (μπλέ γραμμή). m * /m 0 = 0.8. Σελίδα 9 από 15

Επίδραση του strain στο χάσμα κβαντικών τελειών (quantum dots). Οι κβαντικές τελείες κατασκευάζονται δύσκολα και οι ιδιότητές τους ελέγχονται από το υηλό strain. Διαμόρφωση του χάσματος κβαντικής τελείας InAs σε μήτρα GaAs. Αν και το χάσμα του InN είναι 0,35eV το E g της κβαντικής τελείας είναι 1,1ev. Η διαφορά οφείλεται στο μεγάλο συμπιεστικό strain που ασκείται στην κβαντική τελεία. Σελίδα 10 από 15

Επίδραση του περιορισμού των διαστάσεων στην απορρόφηση. Απορρόφηση πολλαπλού κβαντικού πηγαδιού (MQW) GaAs/Al 0.8 Ga 0.7 As, στους 300K. To MQW αποτελείται από 77 QW εύρους 10 nm. Στο σχήμα φαίνεται και η απορρόφηση bulk GaAs. Συντελεστής απορρόφησης δομής MQW 40 περιόδων στους 6 Κ. η περίοδος των QW είναι 7.6 nm. Η επίδραση του μεγέθους της κβαντικής τελείας (QD) στο φάσμα απορρόφησης στους 4.Κ. Το QD διαστάσεων 33 nm έχει ιδιότητες bulk κρυστάλλου. Σελίδα 11 από 15

Modulation doping Οι ιδιότητες μεταφοράς των ημιαγωγών επηρεάζονται αρνητικά από την σκέδαση φορέων. Σε ημιαγωγούς με προσμείξεις ο ιονισμός των προσμείξεων δημιουργία ζευγών ελεύθερων φορέων & ιονισμένων ατόμων προσμείξεων Τα ιονισμένα άτομα των προσμείξεων συμβάλουν στην σκέδαση. Μπορούμε να ελέγξουμε την αγωγιμότητα ενός ημιαγωγού και ταυτόχρονα να αποφύγουμε την σκέδαση από τα ιονισμένα άτομα προσμείξεων?? ΝΑΙ χρησιμοποιώντας modulation doping Επιτυγχάνεται με την κατασκευή ετεροεπαφών (δομές MODFET) μεταξύ υλικών ευρέως και στενού χάσματος, π.χ. GaAs/AlGaAs. Οι προσμείξεις εισάγονται στο υλικό ευρέως χάσματος (AlGaAs) τα e των προσμείξεων προτιμούν τις χαμηλότερες ενεργειακά καταστάσεις στο υλικό μικρού χάσματος (GaAs) Δημιουργείται φυσικός διαχωρισμός μεταξύ των ιονισμένων προσμείξεων και των φορέων Δημιουργείται ηλεκτρικό πεδίο Κάμη των ταινιών Σελίδα 1 από 15

Modulation doped ετεροδομή. Τα ηλεκτρόνια μεταφέρονται στον ημιαγωγό μικρού χάσματος όπου δημιουργείται ένα διδιάστατο ηλεκτρονικό «αέριο» (-D electron gas). To AlGaAs spacer χρησιμοποιείται για να απομακρύνει ακόμη περισσότερο τα ηλεκτρόνια από τους ιονισμένους δότες. Η φυσική απομάκρυνση των e από τα άτομα των προσμείξεων Μειώνεται σημαντικά η σκέδαση μεταξύ φορέων & ιονισμένων προσμείξεων αποφεύγεται το φαινόμενο του παγώματος των e στα άτομα των προσμείξεων (carrier freee-out) σε χαμηλές θερμοκρασίες Δομές κατάλληλες για λειτουργία σε πολύ χαμηλές Τ, ανίχνευση πολύ ασθενικών σημάτων, π.χ. από το διάστημα, και εφαρμογές όπου απαιτείται πολύ χαμηλός θόρυβος. Σελίδα 13 από 15

Θερμοκρασιακή εξάρτηση της ευκινησίας σε modulation doped GaAs/AlGaAs. H σημαντική αύξηση του μ στις χαμηλές θερμοκρασίες λόγω καταστολής της σκέδασης από ιονισμένες προσμείξεις είναι προφανής. Η δομή των ταινιών καθορίζει τις εφαρμογές των υλικών σε διατάξεις Διατάξεις υηλής ισχύος Υλικά μεγάλου E g GaN, SiC, C Διατάξεις υηλής συχνότητας Μικρή ενεργός μάζα Μεγάλη απόσταση μεταξύ ταινιών (intervalle distance) InAs, InGaAs Εκπομπή φωτός Ευθύ χάσμα Laser για επικοινωνίες μεγάλων αποστάσεων (1.55μm, 1.33μm) E g 0.8eV InGaAsP Οθόνες απεικόνισης Eg=1.6 έως 3.6eV AlGaAs, InGaN Εκπομπή σε μικρό λ για οπτικές μνήμες, εκτυπωτές Μεγάλο E g GaN, AlN Νυχτερινή όραση / θερμική απεικόνιση Μικρό E g InSb, HgCdTe Σελίδα 14 από 15

Τα «πλεονεκτήματα» των διατάξεων ετεροδομών. Διαμόρφωση ταινιών Εντοπισμός φορτίου Πεδία strain Υπερδομές MODFETs Εμπλουτισμός Απλά & πολλαπλά κβαντικά πηγάδια Ανισότροπες m φορέων ρυθμιζόμενα E g ρυθμιζόμενες ιδιότητες μεταφοράς Lasers (enhancement) οπτικών Ecitonic devices & ηλεκτρικών ιδιοτήτων Superior ιδιότητες Superior διατάξεις μεταφοράς μ- και οπτοηελκτρονικής Ενισχυμένα εξιτονικά φαινόμενα Ανιχνευτές Διαμορφωτές Διατάξεις οπτοηλεκτρονικής με υηλή ταχύτητα λειτουργίας Σελίδα 15 από 15