Πολςηεσνείο Κπήηηρ Σμήμα Ηλεκηπονικών Μησανικών & Μησανικών Η/Τ Μεηαπηςσιακή Δπγαζία CHARACTERIZATION AND RF DESIGN ASPECTS IN ADVANCED CΜΟS TECHNOLOGY Μαθξήο Νηθόιανο Δπηηξνπή: Μπνύρεξ Μαηηίαο (Δπηβιέπσλ) Μπάιαο Κσλζηαληίλνο Καιαηηδάθεο Κσλζηαληίλνο 1 Χανιά 2011
Θα ήθελα να ευχαριςτήςω τουσ φίλουσ μου Άγγελο,Γιϊργο, Άννα και Αναςταςία για την πολφτιμη ςτήριξη τουσ τον επιβλέποντα καθηγητή μου κ. Μποφχερ για την βοήθεια και την υπομονή του τουσ γονείσ μου για την αμέριςτη ςυμπαράςταςη τουσ τον Αντϊνη για τισ ςυμβουλέσ και παρακινήςεισ και να τουσ αφιερϊςω την εργαςία αυτή. 2
Πεπιεσόμενα Δηζαγσγή... 5 Κεθάιαην 1 Πεηξακαηηθή Γηαδηθαζία... 6 Κεθάιαην 2 Δπθηλεζία... 9 2.1 Δμαγσγή Δπθηλεζίαο... 9 2.2 Απνηειέζκαηα Μεηξήζεσλ... 12 Κεθάιαην 3 Σάζε Καησθιίνπ... 16 3.1 Οξηζκόο θαη κέζνδνη εμαγσγήο Σάζεο Καησθιίνπ... 16 3.2 Απνηειέζκαηα εμαγσγήο... 19 3.3 Φαηλόκελν DIBL... 23 3.3.1 Πεξηγξαθή Φαηλνκέλνπ... 23 3.3.2 πληειεζηήο DIBL... 24 Κεθάιαην 4 Καλνληθνπνηεκέλεο Γηαγσγηκόηεηεο... 29 4.1 Καλνληθνπνηεκέλε Γηαγσγηκόηεηα GMS... 29 4.1.1 Οξηζκόο θαη Αλάιπζε... 29 4.1.2 Δμάξηεζε από L θαη VDS... 31 4.2 Καλνληθνπνηεκέλε Γηαγσγηκόηεηα GMB... 32 4.2.1 Πεξηγξαθή θαη εμαξηήζεηο... 32 4.3 Καλνληθνπνηεκέλε Γηαγσγηκόηεηα GMΒ... 34 4.4 Καλνληθνπνηεκέλε Γηαγσγηκόηεηα GDS... 35 4.4.1 Πεξηγξαθή... 35 4.4.2 Μνληεινπνίεζε... 36 4.5 Δμάξηεζε δηαγσγηκνηήησλ από ηελ ζεξκνθξαζία... 39 4.5.1 πκπεξηθνξά ηνπ Ρεύκαηνο σο πξνο ηελ ζεξκνθξαζία... 39 4.5.2 πκπεξηθνξά Γηαγσγηκνηήησλ σο πξνο ηελ ζεξκνθξαζία... 40 4.6 Σάζε Early... 45 4.6.1 Οξηζκόο... 45 4.6.2 Δμαγσγή Απνηειεζκάησλ... 46 3
4. Κέξδνο κηθξνύ ζήκαηνο... 48 Κεθάιαην 5 - Slope Factor... 49 5.1 Οξηζκόο... 49 5.2 Δμαγσγή... 49 5.3 Μεηαβνιέο ζπληειεζηήο θιίζεο κε ηελ ζεξκνθξαζία... 52 Κεθάιαην 6 πρλόηεηα Μνλαδηαίνπ Κέξδνπο... 53 6.1 Οξηζκόο... 53 6.2 Αλάιπζε... 54 Κεθάιαην 7 πκπεξάζκαηα, Μειινληηθή Δξγαζία... 57 Παξάξηεκα Α - Θεσξία θνξηίσλ... 58 Θεσξία θνξηίσλ σο πξνο ην θάζεην άμνλα... 58 Αλάιπζε θνξηίσλ ζηελ αλαζηξνθή... 61 Αλάιπζε θνξηίσλ ζηελ αλαζηξνθή... 63 Ρεύκα θαλαιηνύ ζηελ πεξηνρή αλαζηξνθήο... 65 Γηαγσγηκόηεηεο κηθξνύ ζήκαηνο... 67 Τπνινγηζκόο ιόγσλ δηαγσγηκνηήησλ - ξεύκαηνο ζην θόξν... 68 Παξάξηεκα Β Δμαγσγή Specific Current & Cox... 70 Αλαθνξέο... 73 4
Διζαγωγή Οη εθαξκνγέο ηεο κηθξό θαη λάλν ειεθηξνληθήο πιένλ βξίζθνληαη ζε όινπο ηνπο ηνκείο ηεο βηνκεραλίαο θαη ηεο θαζεκεξηλόηεηαο καο. Οη ζρεδηαζηέο ησλ θπθισκάησλ ρξεηάδνληαη όζν ην δπλαηόλ πεξηζζόηεξα δεδνκέλα θαη εύθνιεο πξνζεγγίζεηο έηζη ώζηε λα έρνπλ ηελ θαιύηεξε δπλαηή ζρεδίαζε ζε ζύληνκν ρξόλν. Βάζεη ηνπ παξαπάλσ ζθεπηηθνύ ζηελ παξνύζα δηπισκαηηθή πξαγκαηνπνηείηαη κία πξνζέγγηζε σο πξνο ηελ επεμεξγαζία ησλ κεηξήζεσλ θαη ηελ αμηνιόγεζε ηνπο από ηελ πιεπξά ηνπ ζρεδηαζηή. Πξαγκαηνπνηείηαη πξνζπάζεηα κνληεινπνίεζεο ραξαθηεξηζηηθώλ ηδηαίηεξα ζεκαληηθώλ γηα ηελ αμηνιόγεζε ηεο απόδνζεο ελόο MOSFET όπσο ε ηάζε Early, νη δηαγσγηκόηεηεο θαη ε ζπρλόηεηα κνλαδηαίνπ θέξδνπο. Γηα ηνλ πιήξε ραξαθηεξηζκό ηεο ηερλνινγίαο πξαγκαηνπνηήζεθαλ κεηξήζεηο ζε δηαθνξεηηθέο ζεξκνθξαζίεο γηα ηελ ζπγθεθξηκέλε ηερλνινγία. ηελ παξνύζα εξγαζία, αξρηθά πεξηγξάθεηαη ε δηαδηθαζία εμαγσγήο δεδνκέλσλ, ζην Κεθάιαην 1. ηελ ζπλέρεηα, ζην Κεθάιαην 2 πεξηγξάθεηαη ε επθηλεζία ζηα NMOS θαη PMOS ηξαλδίζηνξο. ην ηξίην θεθάιαην πξαγκαηνπνηείηαη κία πεξηγξαθή ησλ κεζόδσλ εμαγσγήο ηεο ηάζεο θαησθιίνπ. ην ίδην κειεηάηαη ε ζπκπεξηθνξά ηεο ζηε ζεξκνθξαζία γηα NMOS θαη PMOS. Δλ ζπλερεία παξνπζηάδνληαη ηα κεγέζε ησλ δηαγσγηκνηήησλ θαη θαλνληθνπνηεκέλσλ δηαγσγηκνηήησλ θαη ν ηξόπνο πνπ επεξεάδνληαη από κεγέζε όπσο ην κήθνο θαλαιηνύ,ε ηάζε θαλαιηνύ θαη ε ζεξκνθξαζία. Δλ ζπλερεία νξίδεηαη ην κέγεζνο ηεο ηάζεο Early, ην θέξδνο κηθξνύ ζήκαηνο θαη ν ζπληειεζηήο θιίζεο. Σέινο πξαγκαηνπνηείηαη κία πεξηγξαθή ηεο ζπρλόηεηαο κνλαδηαίνπ θέξδνο. Χο παξάξηεκα παξαηίζεληαη ην ζεσξεηηθό ππόβαζξν ηεο όιεο δηαδηθαζίαο. 5
Κεθάλαιο 1 Πειπαμαηική Γιαδικαζία Οη dc κεηξήζεηο θαη ν ραξαθηεξηζκόο πξαγκαηνπνηήζεθαλ ζην εξγαζηήξην ειεθηξνληθήο ηνπ ηκήκαηνο H.M.M.Y ηνπ Πνιπηερλείνπ Κξήηεο ρξεζηκνπνηώληαο ηνλ HP4142B modular dc source monitor, HP 4145A semiconductor parameter analyzer θαζώο θαη ην Cascade Summit 10600 thermal probe station. Ο Temptronics TP 03000 ρξεζηκνπνηήζεθε γηα ηηο κεηξήζεηο ζε δηαθνξεηηθέο ζεξκνθξαζίεο. Ο TP 03000 κπνξεί λα πξαγκαηνπνηήζεη κεηξήζεηο ζε εύξνο ζεξκνθξαζηώλ από -65 C έσο+200 C κε αθξίβεηα ±0.5 C. Σν wafer πνπ κεηξήζεθε είλαη ηεο 110nm CMOS ηερλνινγίαο κε triple well, shallow-trench isolation (STI) θαη multi-vth MOSFETs ζηα 1.5/2.5 V. Οη κεηξήζεηο πξαγκαηνπνηήζεθαλ γηα κήθνο θαλαιηνύ από 110nm έσο 10um ρξεζηκνπνηώληαο αξθεηέο ελδηάκεζεο ηηκέο θαη γηα πιάηνο θαλαιηνύ ζηαζεξό, ζηα 10um. Σα setup ησλ κεηξήζεσλ έγηλαλ ζην ICCAP 2008. H επεμεξγαζία πξαγκαηνπνηήζεθε ζηε Matlab 2011 πξαγκαηνπνηώληαο εμαγσγή ησλ δεδνκέλσλ ζε txt αξρεία. Σα δεδνκέλα δνκήζεθαλ ζε δνκέο γηα ηελ επθνιόηεξε πξόζβαζε θαη νξγάλσζε ηνπο. Παξαθάησ παξαηίζεληαη ην ινγηθό δηάγξακκα πνπ δείρλεη ηελ δηαζύλδεζε ησλ νξγάλσλ πνπ ρξεζηκνπνηήζεθε γηα ηνλ ραξαθηεξηζκό θαζώο θαη έλα NMOS πξηλ κεηξεζεί. Δικόνα 1.1 Setup μεηπήζεων 6
Δικόνα 1.2 NMOS On wafer Η δηαδηθαζία εμαγσγήο ησλ κεηξήζεσλ θαίλεηαη παξαθάησ: 1. Μέηξεζε ξεύκαηνο σο πξνο ηελ ηάζε πόισζεο. 2. Τπνινγηζκόο ησλ δηαγσγηκνηήησλ. Οη κεηξήζεηο πξαγκαηνπνηήζεθαλ ρξεζηκνπνηώληαο σο θεληξηθέο ηηκέο ηάζεο πόισζεο θαλαιηνύ ηηο 300mV, 600mV θαη 900mV.Σν V GS κεηαβάιιεηαη κεηαμύ - 240mV - 1.2V κε βήκα 10mV. Δμαγσγή G MS γηα V DS =300mV/600mV/900mV Μέηξεζε I D γηα V S1 = -10mV & V S2 = 10mV & V B = 0V G MS = U T *(I Dvs2 - I Dvs1 ) / ( ΓV S *I D ) Δμαγσγή G MB γηα V DS =300mV/600mV/900mV Μέηξεζε I D γηα V B1 = -60mV & V B2 = 60mV & V S =0V G MS = U T *(I Dvb2 - I Dvb1 ) / ( Γ VB *I D ) 7
Δμαγσγή ηνπ G MG γηα V DS =300mV/600mV/900mV Μέηξεζε I D G MS = U T *(I Dvg2 - I Dvg1 ) / ( ΓV G *I D ) Δμαγσγή G DS γηα V DS =300mV/600mV/900mV & V S =0V Μέηξεζε I D γηα V D1 = 300mV/600mV/900mV -10mV & V D2 =300mV/600mV/900mV + 10mV G MS = U T *(I Dvg2 - I Dvg1 ) / ( ΓV G *I D ) Οη κεηαβνιέο ηεο ηάζεο πόισζεο επηιέρζεθαλ έηζη ώζηε νη δηαθνξέο ησλ ξεπκάησλ λα είλαη αξθεηά κεγάιεο, ώζηε λα κπνξεί λα γίλεη ε εμαγσγή ησλ δηαγσγηκνηήησλ κε ηνλ ειάρηζην δπλαηό ζόξπβν. Δπίζεο πξέπεη λα ζεκεησζεί όηη νη κεηξήζεηο ιακβάλνληαη ζε ζεξκνθξαζίεο 25 o C, 85 o C θαη 125 ν C. 8
Κεθάλαιο 2 Δςκινηζία 2.1 Δξαγωγή Δςκινηζίαρ H επθηλεζία ( mobility ) ησλ θνξέσλ ζην θαλάιη παξνπζηάδεη κία ηδηαίηεξα κεγάιε επαηζζεζία σο πξνο ηα θαηλόκελα πνπ επεξεάδνπλ ηελ ζπλνιηθόηεξε απόδνζε ηνπ MOSFET. Σα θπξηόηεξα θαηλόκελα πνπ ην επεξεάδνπλ είλαη ην Channel Length Modulation(CLM), ην velocity saturation θαη ην vertical field mobility reduction(vfmr). Σν θαηλόκελν ηνπ velocity saturation εκθαλίδεηαη όηαλ απμάλεηαη ην επίπεδν ηνπ ειεθηξηθνύ πεδίνπ θαηά κήθνο ηνπ θαλαιηνύ. Παξαθάησ θαίλεηαη ε ζρέζε ηεο ηαρύηεηαο ησλ θνξέσλ σο πξνο ην ειεθηξηθό πεδίν ζην ππξίηην. Η θιίζε ηεο θακπύιεο είλαη ε επθηλεζία πνπ παξαηεξείηαη. Η επθηλεζία γηα ηηκέο ηνπ ειεθηξηθνύ πεδίνπ κηθξέο (<10 4 ) παξακέλεη ζηαζεξή. Γηα ηηκέο Δ(ρ) πάλσ από 10 5 V/cm, ε επθηλεζία γίλεηαη αλεμάξηεηε ηνπ πεδίνπ θαη ε ηηκή ηεο κεηώλεηαη αηζζεηά ζε ζρέζε κε ηηο ηηκέο γηα κηθξό ειεθηξηθό πεδίν. Εικόνα 2.1 Σαχφτθτα θλεκτρονίων ωσ προσ το οριηόντιο θλεκτρικό πεδίο Η κείσζε ηεο επθηλεζίαο ιόγσ velocity saturation κπνξεί λα εθθξαζηεί, ζύκθσλα κε [1], κε ηνλ ηύπν: μ 0 0 μ Ε = Χ 1 a1 a a ΕΧ Ε Χ 1+ 1+ Εcrit Ε crit μ,(2.1) όπνπ κ 0 είλαη ε επθηλεζία ζε ρακειά επίπεδα νξηδόληηνπ ειεθηξηθνύ πεδίνπ θαη E crit είλαη ε ηηκή ηνπ πεδίνπ όπνπ ε επθηλεζία,βάζεη ηνπ παξαπάλσ κνληέινπ, κεηώλεηαη ζην 50% ηνπ κ 0. Γηα ηηκέο ηνπ V DS > V DSsat θαη ζηελ πεξηνρή ηνπ Strong Inversion κπνξεί λα πξνζεγγηζζεί ε ηηκή ηνπ ειεθηξηθνύ πεδίνπ ζηνλ x άμνλα σο: 9
VDsat ( Vgs Vth ) Ex ( ).(2.2) L L Οπόηε πξαγκαηνπνηώληαο ηηο αληηθαηαζηάζεηο πξνθύπηεη: μ0 με Χ = Vgs -V 1+ ΕcritL th.(2.3) To E crit κπνξεί λα πξνζεγγηζζεί κέζσ ηνπ ηύπνπ u = κδ(x) όπνπ u είλαη ε ηαρύηεηα ησλ θνξέσλ θαη κ ην mobility. Θεσξώληαο όηη νξηαθά ηζρύεη ν ηύπνο θαη γηα ην E crit ηόηε ιακβάλνληαο ην mobility ρακεινύ πεδίνπ γηα ην NMOS ίζν κε 536cm 2 /Vs θαη γηα ην PMOS ίζν κε 102 cm 2 /Vs θαη ηελ ηαρύηεηα θνξεζκνύ θνξέσλ ίζε κε 1.3*10 7 cm/s ηόηε πξνθύπηεη όηη ην E critnmos = u sat /κ nmos = 2.42 V/um θαη E critpmos = u sat /κ pmos = 12.718 V/um. Σα είδε ηεο επθηλεζίαο νξίδνληαη από ηελ κέζνδν εμαγσγήο ηνπο [2]. Σα είδε πνπ νξίδνληαη από [2] είλαη ηα 1) effective mobility, 2) field effect mobility θαη 3) saturation mobility. Η effective mobility εμάγεηαη από ην πξώηνπ βαζκνύ κνληέιν ηεο δηαγσγηκόηεηαο εμόδνπ ζηε γξακκηθή πεξηνρή ιεηηνπξγίαο. Σν ξεύκα ζηε γξακκηθή ιεηηνπξγία κνληεινπνηείηαη κε ηελ ίδηα εμίζσζε θαη γηα SI θαη WI: VD VS ID n( VP )( VD VS ).(2.4) 2 Λακβάλνληαο ηελ παξάγσγν ηνπ ξεύκαηνο πξνο ην V DS πξνθύπηεη ε ζρέζε: I g ( V V ).(2.5) DS dslinear GS th VDS VS0 V& VGSconst Οπόηε ην κ eff ππνινγίδεηαη απν ηνλ ηύπν : eff gdslinearl.(2.6) ( V V ) C W GS th ox Σν effective mobility παξνπζηάδεη πςειή εμάξηεζε από ηελ ηηκή ηνπ V th θαη ηελ ηηκή ηνπ L. Η field-effect mobility εμάγεηαη επίζεο ζηε γξακκηθή πεξηνρή από ηελ παξάγσγν ηνπ ξεύκαηνο πξνο ηε V gs γηα πνιύ κηθξό V DS (π.ρ. V DS =50mV) νπόηε θαη πξνθύπηεη: gmlinearl FE ( V ) C W.(2.7) DS 10 ox
H effective mobility κε ηελ field-effect mobility κπνξνύλ λα ζπλδεζνύλ κέζσ ηεο ζρέζεο [2]: eff FE eff ( Vgs Vth ) V gs VDSconst (2.8) Από ηνλ ηύπν απηό πξνθύπηεη όηη ε ζπγθεθξηκέλε πνζόηεηα είλαη κηθξόηεξε ηεο effective mobility θαζώο ε παξάγσγνο ηεο effective mobility είλαη αξλεηηθή. Η saturation mobility νξίδεηαη σο ε επθηλεζία πνπ ππνινγίδεηαη από ηελ θιίζε ηεο ξίδαο ηνπ ξεύκαηνο ζηνλ θνξεζκό. Σν ξεύκα ζηνλ θόξν θαη ζηελ ηζρπξή αλαζηξνθή είλαη ίζν κε: I n( V V ). Παίξλνληαο ηελ ξίδα ηνπ ξεύκαηνο, παξαγσγίδνληαο 2 D P s ηελ σο πξνο V S θαη επηιύνληαο σο πξνο κ πξνθύπηεη: SAT L I.(2.9) ncoxw Vs D 2 ηηο εξγαζηεξηαθέο κεηξήζεηο πνπ πξαγκαηνπνηήζεθαλ γηα ηελ εμαγσγή ηεο επθηλεζίαο ζηνλ θόξν θξαηήζεθε ε ηάζε ζηελ πύιε ζηαζεξή θαη ίζε κε 1V θαη -1V γηα ηα NMOS θαη PMOS αληίζηνηρα. H ηάζε V DS είλαη ίζε κε ηελ ηάζε V GS. Σν ξεύκα κεηξάηαη γηα ηηκέο ηνπ V s από ην 0 έσο 1.2V κε βήκα 0.02V. I Αξρηθά ιακβάλεηαη ε κέγηζηε ηηκή ηεο παξαγώγνπ D θαη έπεηηα ρξεζηκνπνηείηαη Vs ν παξαπάλσ ηύπνο γηα ηνλ ππνινγηζκό ηεο επθηλεζίαο. Η ζέζε ηεο κέγηζηεο ηηκήο ιακβάλεηαη κέζσ ηεο δεύηεξεο παξαγώγνπ ηεο ξίδαο ηνπ ξεύκαηνο πξνο ην V S. Η ηηκή πνπ κεδελίδεη ηε δεύηεξε παξάγσγν αληηζηνηρεί ζην κέγηζην ηεο πξώηεο παξαγώγνπ. 0.05 0.04 NMOS, L=0.5um, W=10um,T=25C 0.02 0 I ( ) D A 0.03 0.02 0.01-0.02 ID -0.04 Vs -0.06 A V CLM DOMINATES MAXIMUM SLOPE DE-SATURATION 0 0.2 0.4 0.6 0.8 1 1.2-0.08 V ( ) S V Εικόνα 2.2 Εξαγωγι ευκινθςίασ 11
ηελ παξαπάλσ γξαθηθή παξαηίζεηαη ε γξαθηθή ηεο ξίδαο ηνπ ξεύκαηνο θαη ηεο πξώηεο παξαγώγνπ ηεο σο πξνο ην VS. Σν ζεκείν κέγηζηεο θιίζεο (ειάρηζηε ηηκή ηεο παξαγώγνπ) είλαη ην ζεκείν όπνπ ην ξεύκα αθνινπζεί ηελ ζεσξεηηθή ηνπ ηηκή. Γηα κηθξόηεξα V S ην θαηλόκελν ηεο κεηαβνιήο ηνπ κήθνπο θαλαιηνύ ππεξηεξεί κε απνηέιεζκα ε θιίζε λα κεηώλεηαη θαηά απόιπηε ηηκή. ε MOSFET κε κεγαιύηεξν κήθνο θαλαιηνύ ε επίδξαζε ηνπ CLM είλαη ζαθώο κηθξόηεξε κε απνηέιεζκα ε θιίζε λα παξακέλεη ζηαζεξή. Απμάλνληαο ην V S, ην MOSFET βγαίλεη από ηελ πεξηνρή θνξεζκνύ (de-saturation). 2.2 Αποηελέζμαηα Μεηπήζεων Παξαθάησ παξαηίζεληαη νη γξαθηθέο ηεο επθηλεζίαο σο πξνο ην κήθνο θαλαιηνύ θαη ηελ ζεξκνθξαζία θαζώο θαη ε κέζε επαηζζεζία ηεο επθηλεζίαο όζνλ αθνξά ηελ αύμεζε ηεο ζεξκνθξαζίαο, ρξεζηκνπνηώληαο σο ζεκείν αλαθνξάο ηνπο 25 ν C. Η πνζόηεηα πεξηγξάθεηαη από ηνλ ηύπν: SENSITIVITY HIGH REF %.(2.10) REF Με ηελ παξαηήξεζε ησλ απνηειεζκάησλ γηα NMOS θαη PMOS κπνξνύλ λα εμαρζνύλ θάπνηα πξώηα ζπκπεξάζκαηα. Η επθηλεζία ησλ θνξέσλ ησλ NMOS είλαη ζαθώο πςειόηεξε ζε ζρέζε κε ηελ αληίζηνηρε ησλ PMOS, ζηελ ίδηα ζεξκνθξαζία. Πην ζπγθεθξηκέλα, ε επθηλεζία είλαη πεξίπνπ 4 κε 5 θνξέο πςειόηεξε ζηα NMOS ζε ζρέζε κε ηα PMOS, γηα κήθνο θαλαιηνύ L=10um. Με ηελ αύμεζε ηεο ζεξκνθξαζίαο, ε επθηλεζία κεηώλεηαη. Σν θαηλόκελν απηό δηθαηνινγείηαη από ην γεγνλόο όηη ην scattering ησλ θνξέσλ απμάλεηαη κε ηελ αύμεζε ηεο ζεξκνθξαζίαο κε απνηέιεζκα ηελ κείσζε ηεο επθηλεζίαο. Η επθηλεζία ζηνλ θόξν ησλ NMOS παξνπζηάδεη κηθξέο δηαθπκάλζεηο γηα κήθε θαλαιηνύ από 10um έσο 300nm. Η κείσζε ηεο επθηλεζίαο ζηνπο 25 ν C πνπ παξαηεξείηαη κεηαβάιινληαο ηελ ηηκή ηνπ κήθνπο θαλαιηνύ από 10um ζηα 300nm αληηζηνηρεί ζην 7.8% ηεο αξρηθήο ηηκήο. H αληίζηνηρε κείσζε ηεο επθηλεζίαο ζηνπο 85 ν C θαη ζηνπο 125 ν C είλαη 4,7% θαη 2% ηεο αξρηθήο ηηκήο. Μπνξεί λα ζεσξεζεί όηη ε επθηλεζία παξακέλεη ζηαζεξή θαη αλεμάξηεηε ηνπ κήθνπο θαλαιηνύ γηα 300nm<L<10um. Η επθηλεζία θάησ από ηα 300nm παξνπζηάδεη κεγάιε εμάξηεζε από ην κήθνο θαλαιηνύ. Η κείσζε απηή δηθαηνινγείηαη από ην γεγνλόο όηη ε εμαγσγή ηνπ mobility πξαγκαηνπνηείηαη κε ην κήθνο θαλαιηνύ πνπ ζρεδηάζηεθε ην MOSFET θαη όρη κε ην effective L ην νπνίν είλαη ζαθώο κηθξόηεξν ηνπ. Η κεηαβνιή απηή γηα L< 300nm κπνξεί λα κνληεινπνηεζεί κε ηελ ρξήζε ηνπ ηύπνπ μ=αl b. Παξαηίζεληαη 12
NMOS mobility (cm 2 /V.s) παξαθάησ νη ηηκέο γηα NMOS. Από ηνλ παξαθάησ πίλαθα δηαπηζηώλεηαη όηη ην mobility είλαη αλάινγν ηνπ L 0.4 θαη ην b θαίλεηαη λα είλαη αλεμάξηεην ηεο ζεξκνθξαζίαο. To a παξαηεξνύκε λα έρεη ηζρπξή εμάξηεζε από ηελ ζεξκνθξαζία, εηδηθά ζε πνιύ πςειέο ζεξκνθξαζίεο(125 ν C). T( o C) a b 25 14.63 0.40 85 13.02 0.42 125 5.87 0.38 Πίνακασ 2.1 Μεταβολι των παραμζτρων ευκινθςίασ, a, b, ωσ προσ τθ κερμοκραςία Από ηελ γξαθηθή ηνπ sensitivity ηεο επθηλεζίαο σο πξνο ηε ζεξκνθξαζία γηα NMOS θαίλεηαη όηη έρνπκε κεγαιύηεξε κείσζε ηεο επθηλεζίαο γηα κεγάια κήθε θαλαιηνύ. Φαίλεηαη όηη ην CLM κεηώλεη ηελ ζεξκνθξαζηαθή επαηζζεζία ησλ ηξαλζίζηνξ γηα κηθξά κήθε θαλαιηνύ. 350 T=25C o 300 250 T=85C o 200 T=125C o 150 100 10-7 10-6 10-5 Length(m) Εικόνα 2.3 Ευκινθςία NMOS ωσ προσ το μικοσ καναλιοφ, για διαφορετικζσ κερμοκραςίεσ 13
NMOS mean mobility sensitivity (% / C o ) -0.34-0.36-0.38-0.4-0.42-0.44-0.46-0.48 10-7 10-6 10-5 Length(m) Εικόνα 2.4 Ευαιςκθςία ευκινθςίασ NMOS ωσ προσ το μικοσ καναλιοφ Η επθηλεζία ζηνλ θόξν ησλ PMOS παξνπζηάδεη κηθξέο δηαθπκάλζεηο γηα κήθε θαλαιηνύ από 10um έσο 190nm (maximum 5% έρνληαο σο αλαθνξά ην L=10um). Γηα L=170nm παξνπζηάδεηαη κε αλακελόκελε αύμεζε ηεο επθηλεζίαο πηζαλόηαηα ιόγσ απμεκέλνπ doping ζηελ γεσκεηξία. Γηα L<170nm ε επθηλεζία κεηώλεηαη ιόγσ ηνπ CLM. Υξεζηκνπνηώληαο ην κνληέιν πνπ πξνηείλεηαη ζηα NMOS πξαγκαηνπνηνύκε ηελ εμαγσγή ησλ κεηαβιεηώλ a θαη b γηα ην PMOS γηα L=110nm έσο 140nm. T( o C) a b 25 119.00 0.62 85 10.94 0.47 125 3.37 0.40 Πίνακασ 2.2 Μεταβολι των παραμζτρων ευκινθςίασ, a, b, ωσ προσ τθ κερμοκραςία για L=110nm-140nm Παξαηεξείηαη εμάξηεζε από ηελ ζεξκνθξαζία θαη ησλ a θαη b. Σν κνληέιν θαίλεηαη λα έρεη κεγάιεο κεηαβνιέο ζηηο κεηαβιεηέο a θαη b γεγνλόο ην νπνίν δελ καο επηηξέπεη λα εμαγάγνπκε αζθαιή ζπκπεξάζκαηα. Η κείσζε ηνπ mobility σο πξνο ην κήθνο θαλαιηνύ έρνληαο σο αλαθνξά ηελ επθηλεζία ηνπ L=10um έρεη σο κεγαιύηεξε ηηκή γηα ηνπο 25 o C,85 o C θαη 125 o C 14,5%, 7% θαη 3% αληίζηνηρα. Η εμάξηεζε ηεο επθηλεζίαο από ηo κήθνο θαλαιηνύ ζηα PMOS κεηώλεηαη αηζζεηά κε ηελ αύμεζε ηεο 14
PMOS mean mobility sensitivity (% / C o ) PMOS mobility (cm 2 /V.s) ζεξκνθξαζίαο. Η εμάξηεζε ηεο επθηλεζίαο σο πξνο ηε ζεξκνθξαζία γηα θάζε κήθνο θαλαιηνύ πνπ θαίλεηαη ζηελ Δηθόλα 2.5, παξνπζηάδεη ηελ ίδηα ζπκπεξηθνξά κε απηή ησλ ΝΜΟS. H επαηζζεζία είλαη απμεκέλε γηα ηα κεγάια κήθε θαλαιηνύ θαη κεηώλεηαη κε ηελ κείσζε ηνπο. ε ζρέζε κε ηα NMOS,ηα PMOS θαίλεηαη λα επεξεάδνληαη ιηγόηεξν από ηελ αύμεζε ηεο ζεξκνθξαζίαο. Δλδηαθέξνλ παξνπζηάδεη επίζεο,ην γεγνλόο όηη ε κείσζε ηεο επαηζζεζίαο είλαη ίζε κε πεξίπνπ 1%/ o C γηα ηα nmos θαη PMOS κεηαβαίλνληαο από ην κεγαιύηεξν κήθνο θαλαιηνύ ζην κηθξόηεξν. 75 70 T=25 o C 65 60 T=85 o C 55 50 T=125 o C 45 10-7 10-6 10-5 Length(m) Εικόνα 2.5 Ευκινθςίασ PMOS ωσ προσ το μικοσ καναλιοφ, για διαφορετικζσ κερμοκραςίεσ -0.2-0.22-0.24-0.26-0.28-0.3-0.32 10-7 10-6 10-5 Length(m) Εικόνα 2.6 Ευαιςκθςία ευκινθςίασ PMOS ωσ προσ το μικοσ καναλιοφ 15
Κεθάλαιο 3 Τάζη Καηωθλίος 3.1 Οπιζμόρ και μέθοδοι εξαγωγήρ Σάζηρ Καηωθλίος H ηάζε θαησθιίνπ νξίδεηαη από ηελ πεξηνρή ιεηηνπξγίαο πνπ εμάγεηαη. Γηα ηνλ ιόγν απηό νξίδνληαη: ε ηάζε θαησθιίνπ ζηε γξακκηθή πεξηνρή θαη ε ηάζε θαησθιίνπ ζηνλ θόξν. Πνιιέο κέζνδνη εμαγσγήο πξνηείλνληαη από [3] θαη [4]. Οη απινύζηεξεο κέζνδνη γηα ηελ εθηίκεζε ηεο ηάζεο θαησθιίνπ ζην θόξν αιιά θαη ζηε γξακκηθή πεξηνρή είλαη νη ESR θαη ELR αληίζηνηρα. ηελ ESR πξνηείλεηαη ε εθηίκεζε ηεο ηάζεο θαησθιίνπ από ηελ αζύκπησηε πνπ δηέξρεηαη από ην ζεκείν κέγηζηεο θιίζεο ηεο θακπύιεο I σο πξνο ην V D G θαη ην ζεκείν όπνπ ν άμνλαο ηνπ ξεύκαηνο κεδελίδεη. H κέγηζηε θιίζε πξνζδηνξίδεηαη από ην κέγηζην ηεο πξώηεο παξαγώγνπ ηνπ I σο D πξνο ην V G. Σν ζεκείν απηό νξίδεηαη σο ε ηάζε θαησθιίνπ.. Η ηάζε θαησθιίνπ ππνινγίδεηαη κε ηελ ρξήζε ηνπ ηύπνπ y = ax b (ε θιίζε a αληηζηνηρεί ζην I MAX V G D ). Οπόηε θαη πξνθύπηεη όηη: b y I a a I max V 0 Vth0 x0 VGS MAXSLOPE DMAXSLOPE D GS.(3.1) Εικόνα 3.1 Προςδιοριςμόσ τάςσ κατωφλίου Ο ELR έρεη ηελ ίδηα ινγηθή πινπνίεζεο κε ηελ δηαθνξά όηη ην ξεύκα ιακβάλεηαη ζηελ γξακκηθή πεξηνρή σο αλάινγν ηεο ηάζεο θαησθιίνπ. Οπόηε ρξεζηκνπνηείηαη ε 16
γξαθηθή ηνπ ξεύκαηνο σο πξνο ηε ηάζε πύιεο, ιακβάλεηαη ην ζεκείν κέγηζηεο θιίζεο (κέγηζην ηνπ g mg = (ΓΙ D )/(ΓV G )) θαη εθηηκάηαη ε αζύκπησηε ηεο θακπύιεο από ην ζπγθεθξηκέλν ζεκείν ζην i d = 0. Σν ζεκείν ηνκήο είλαη ε ηάζε θαησθιίνπ. Η κέζνδνο ηεο δεύηεξεο παξαγώγνπ ηνπ ινγαξίζκνπ ηνπ ξεύκαηνο (second derivative logarithmic method) εθηηκά ηελ ηηκή ηεο ηάζεο θαησθιίνπ από ην ειάρηζην ηεο θακπύιεο ηεο πξώηεο παξαγώγνπ ηνπ ινγαξίζκνπ ηνπ ξεύκαηνο σο πξνο ηελ ηάζε V gs. ηηο παξαπάλσ κεζόδνπο ε εθηίκεζε ηεο ηάζεο θαησθιίνπ γίλεηαη επίπνλε θαη ρξνλνβόξα. Δπίζεο ε αθξίβεηα ηνπο εμεηάδεηαη θαζώο εμαξηώληαη ηδηαίηεξα από ηελ αθξίβεηα ησλ κεηξήζεσλ θαη ηα επίπεδα ζνξύβνπ. Μηα εμαηξεηηθά δηαδεδνκέλε ζηε βηνκεραλία θαη γξήγνξε κέζνδνο είλαη ε εμαγσγή ηεο V T από ηελ γξαθηθή αλαπαξάζηαζε ηνπ ξεύκαηνο σο πξνο ηελ ηάζε ζηελ γξακκηθή πεξηνρή, ιακβάλνληαο ηελ ηάζε πνπ αληηζηνηρεί ζην 100uA*W/L. Μηα δεύηεξε πξνζέγγηζε κε αλάινγε ινγηθή είλαη ε κέζνδόο πνπ πξνηείλεηαη ζην [5] θαη ε νπνία θαιύπηεη θαη ηα δύν είδε. Η κέζνδνο απηή πξνηείλεη ηνλ νξηζκό ηνπ I Dcrit.To I Dcrit είλαη ην ξεύκα πνπ αληηζηνηρεί ζηελ κέγηζηε ηηκή ηνπ g mg γηα έλα κεγάινπ κήθνπο θαλαιηνύ MOSFET. Σν ζπγθεθξηκέλν ξεύκα είλαη ην ξεύκα πνπ επηθξαηεί ζην θαλάιη γηα ηάζε πεγήο ίζε κε ηελ ηάζε θαησθιίνπ. Υξεζηκνπνηώληαο ηνλ ηύπν I Dcrit *W/L γίλεηαη ε πξνζέγγηζε ησλ αληίζηνηρσλ ξεπκάησλ θαησθιίνπ γηα ηα ππόινηπα κήθε θαλαιηνύ. Η κέζνδνο απηή νδεγεί ζε γξήγνξή εθηίκεζε ηεο ηάζεο θαησθιίνπ. Η κέζνδνο πνπ ζα ρξεζηκνπνηεζεί ζηελ παξνύζα εξγαζία είλαη απηή πνπ πξνηείλεηαη από [6].H κέζνδνο απηή αθνινπζεί ηελ ζεσξία ηνπ EKV3 κνληέινπ. Η εμίζσζε πνπ ζπλδέεη ηελ pinch off ηάζε κε ηα θαλνληθνπνηεκέλα θνξηία είλαη: qs VP VS VG VTH VP 2qs lnqs.(3.2) U VS 0 nu T T Σν q s εθθξαζκέλν σο πξνο ην θαλνληθνπνηεκέλν ξεύκα είλαη 0.25 IC 0.5. Η ηηκή ηνπ IC ηεο θακπύιεο ηεο pinch off ηάζεο σο πξνο ην IC πνπ αληηζηνηρεί ζην V P =0V αληηζηνηρεί ζην ζπληειεζηή αλαζηξνθήο όπνπ ηζρύεη γηα V gs =V th. H ηηκή απηή είλαη IC=0.61. 17
V p V s 2 q s ln( q s ) 1 0-1 -2-3 -4-5 0 0.1 0.2 0.3 0.4 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 1 IC Εικόνα 3.2 Pinch off τάςθ, ωσ προσ τον δείκτθ αναςτροφισ Μία δηαθνξεηηθή πξνζέγγηζε κπνξεί λα πξαγκαηνπνηεζεί κε ηελ ρξήζε ηνπ ηύπνπ ηνπ ξεύκαηνο ζην θνξεζκό. Ιζρύεη: ID ISPEC ln 1 e VPVS 2nUT 2.(3.3) Με ηελ επίιπζε ηνπ ηύπνπ ηνπ ξεύκαηνο σο πξνο ηνλ ζπληειεζηή αλαζηξνθήο γηα D V th =V GS ηζρύεη 2 I IC ln 2 0.48. ηελ ζπγθεθξηκέλε εξγαζία ζα I SPEC πξαγκαηνπνηεζεί ρξήζε ηεο πξώηεο πξνζέγγηζεο. Η κεζνδνινγία απηή επηηξέπεη ζηνλ ζρεδηαζηή κε κία απιή γξαθηθή I D - V gs θαη γλσξίδνληαο ην I spec λα πξνζδηνξίζεη ηελ ηηκή ηεο ηάζεο θαησθιίνπ ζην θνξεζκό. Αθνινπζεί γξάθεκα πνπ θαίλεηαη ε ζύγθξηζε ησλ κεζόδσλ SRE θαη ηεο κεζόδνπ πνπ ρξεζηκνπνηνύκε γηα ηελ εμαγσγή ηεο ηάζεο θαησθιίνπ. Εικόνα 3.3 φγκριςθ μεκόδων εξαγωγισ τάςθσ κατωφλίου 18
3.2 Αποηελέζμαηα εξαγωγήρ Η παξαθάησ γξαθηθή αλαπαξηζηά ηελ ηάζε θαησθιίνπ σο πξνο ην κήθνο θαλαιηνύ γηα ηηο ζεξκνθξαζίεο πνπ κεηξήζεθαλ ηα NMOS. Γεληθά παξαηεξείηαη όηη ηα short channel MOSFET έρνπλ πςειόηεξε ηάζε θαησθιίνπ ζε ζρέζε κε ηα long, To γεγνλόο απηό νθείιεηαη ζηα halo Implants ησλ MOSFET. Γηα ηελ αληηκεηώπηζε ησλ θαηλνκέλσλ πνπ αλαπηύζζνληαη ζηα κηθξά κήθε θαλαιηνύ θαη ηνπ DIBL θαηλνκέλνπ πξνζηίζεληαη θνληά ζην drain θαη source πεξηνρέο ηζρπξά λνζεπκέλεο (doping) κε θνξείο ίδηνπ ηύπνπ κε ην ππόζηξσκα κε απνηέιεζκα ηε κείσζε ηεο πεξηνρήο απνγύκλσζεο. ηα κηθξά κήθε θαλαιηνύ νη πεξηνρέο πνπ έρνπλ λνζεπηεί ππεξηίζεληαη κε απνηέιεζκα ηελ αύμεζε ηεο κέζεο ζπγθέληξσζεο λόζεπζεο ζην θαλάιη. Η αύμεζε απηή νδεγεί ζηελ αύμεζε ηεο ηάζεο θαησθιίνπ. Αληίζεηα ζηα κεγάια κήθε θαλαιηνύ παξαηεξείηαη ην reverse short channel effect(rsce). Ο παξαπάλσ κεραληζκόο θαίλεηαη λα επεξεάδεη αληίζηξνθα ηα κεγάια κήθε θαλαιηνύ κε απνηέιεζκα ηελ κείσζε ηεο ηάζεο θαησθιίνπ. Η πηώζε ηεο ηάζεο θαησθιίνπ κε ηελ αύμεζε ηεο ζεξκνθξαζίαο νθείιεηαη ζηελ πηώζε ηνπ δπλακηθνύ επηθαλείαο. Ο νξηζκόο ηεο ηάζεο θαησθιίνπ είλαη : VTH VFB. Η flat band ηάζε θαη ην γ N SUB είλαη εμ νξηζκνύ αλεμάξηεηα ηεο ζεξκνθξαζίαο. Σν 2UT ln. Σν n i απμάλεη nt i( ) κε ηελ ζεξκνθξαζία γεγνλόο πνπ νδεγεί ζηε κείσζε ηνπ δπλακηθνύ επηθαλείαο θαη θαηόπηλ ζηε κείσζε ηεο ηάζεο θαησθιίνπ. Γηα κήθε θαλαιηνύ από 10um έσο 170nm ε αύμεζε ηεο ηάζεο θαησθιίνπ είλαη ίζε κε 77mV, 103mV θαη 109mV γηα 25, 85 θαη 125 o C αληίζηνηρα. Ο ξπζκόο αύμεζεο δείρλεη λα κεηώλεηαη όζν κεηώλεηαη θαη ην κήθνο θαλαιηνύ από 190nm ζηα 140nm. Από ηα 140nm έσο ηα 110nm ηα θαηλόκελα κηθξνύ κήθνπο θαλαιηνύ ππεξηεξνύλ θαη γηα ην ιόγν απηό παξαηεξείηαη ε κείσζε ηεο ηάζε θαησθιίνπ. 19
ΔVth/ΔΣ *mv/ o C] VT[V] 0.35 0.3 T=25 o C T=85 o C T=125 o C 0.25 0.2 0.15 0.1 10-7 10-6 10-5 Length[um] Εικόνα 3.4 Σάςθ κατωφλίου NMOS ωσ προσ το μικοσ καναλιου, για διαφορετικζσ κερμοκραςίεσ Η παξαθάησ γξαθηθή παξνπζηάδεη ηελ κέζε κεηαβνιή ηεο ηάζεο θαησθιίνπ σο πξνο ηελ ζεξκνθξαζία ζπλαξηήζεη ηνπ κήθνπο θαλαιηνύ. Φαίλεηαη όηη ε κείσζε θπκαίλεηαη από -0,5 έσο -0,6 mv/ o C. Η κέζε ηηκή ηεο κείσζεο γηα όια ηα κήθε θαλαιηνύ είλαη -0,5246 mv/ o C. Η δηάκεζνο(median) είλαη ίζε κε -0,522 mv/ o C. -0.4-0.45-0.5-0.55-0.6-0.65 10-7 10-6 10-5 Length [um] Εικόνα 3.5 Μζςθ μεταβολι τθσ τάςθσ κατωφλίου NMOS ωσ προσ τθν κερμοκραςία, ςυναρτιςει του μικουσ καναλιοφ Παξαθάησ παξαηίζεληαη ηα απνηειέζκαηα γηα ηα PMOS. Παξαηεξείηαη όηη ε ηάζε θαησθιίνπ είλαη κεγαιύηεξε απηήο ησλ NMOS. πγθξίλνληαο ηηο ηηκέο γηα L=10κm γηα NMOS θαη PMOS δηαπηζηώλεηαη όηη αλεμαξηήησο ζεξκνθξαζίαο ε απόιπηή δηαθνξά είλαη ίζε κε 100mV. H απόιπηε αύμεζε ηεο ηηκήο ηεο ηάζεο θαησθιίνπ είλαη ίζε κε 50mV κεηαβαίλνληαο από L=10um ζε L=190nm γηα όιεο ηηο ζεξκνθξαζίεο. Σν 20
Vth[V] γεγνλόο απηό δείρλεη όηη ην θαηλόκελν ηνπ RSCE ζηα PMOS ηεο ζπγθεθξηκέλεο ηερλνινγίαο είλαη αλεμάξηεην ηεο ζεξκνθξαζίαο. Σα short channel ηξαλδίζηνξ παξνπζηάδνπλ κηθξόηεξε επαηζζεζία ζηα SCE ζε ζρέζε κε ηα PMOS θαζώο ε κείσζε πνπ αλακέλεηαη λα ζπκβεί κεηαβαίλνληαο από ηα 140nm ζηα 110nm είλαη ζαθώο κηθξόηεξε από απηή πνπ ζπκβαίλεη ζηα NMOS (πεξίπνπ 10mV). Η ηηκή ηεο ηάζεο θαησθιίνπ ζην κηθξόηεξν κήθνο θαλαιηνύ είλαη πεξίπνύ 60mV απμεκέλε (θαηά απόιπηε ηηκή) ζε ζρέζε κε ηελ ηηκή πνπ δηέπεη ην κέγηζην κήθνο θαλαιηνύ γηα όιεο ηηο ζεξκνθξαζίεο. -0.35-0.3-0.25-0.2 10-7 10-6 10-5 Length[m] Εικόνα 3.6 Σάςθ κατωφλίου PMOS ωσ προσ το μικοσ καναλιου, για διαφορετικζσ κερμοκραςίεσ Από ηελ κεηαβνιή ηεο ηάζεο θαησθιίνπ σο πξνο ηελ ζεξκνθξαζία πνπ θαίλεηαη παξαθάησ ζπκπεξαίλεηαη όηη ε επαηζζεζία παξακέλεη αξθεηά πςειή ζηα κηθξά κήθε θαλαιηνύ (~0,6mV/ ν C) ελώ όζν απμάλεηαη ην κήθνο θαλαιηνύ ε επαηζζεζία απηή πέθηεη κε κηθξόηεξε ηηκή πεξίπνπ 0,46mV/ O C γηα L=10um. Η κέζε ηηκή ηεο απόθιηζεο είλαη 0,58mV/ O C. Η κέζε ηηκή κπνξεί λα πξνβιέςεη κε ηθαλνπνηεηηθή αθξίβεηα ηελ απόθιηζε ζηα κηθξά κήθε θαλαιηνύ ελώ ζηα κεγάια κήθε θαλαιηνύ ε ηάζε θαησθιίνπ ζα ππνεθηηκεζεί θαηά 10mV ζηε ρεηξόηεξε πεξίπησζε. ε γεληθέο γξακκέο κπνξεί λα ζεκεησζεί όηη σο κέζε κείσζε (θαηά απόιπηε ηηκή) ηεο ηάζεο θαησθιίνπ γηα ηελ ζπγθεθξηκέλε ηερλνινγία είλαη ίζε κε 0,55mV/ O C. 21
ΔVth/ΔΣ*mV/ o C] 0.65 0.6 0.55 0.5 0.45 0.4 10-7 10-6 10-5 Length[m] Εικόνα 3.7 Μζςθ μεταβολι τθσ τάςθσ κατωφλίου PMOS ωσ προσ τθν κερμοκραςία, ςυναρτιςει του μικουσ καναλιοφ Χο επηβεβαίσζε ησλ παξαπάλσ απνηειεζκάησλ παξαηίζεηαη ε παξαθάησ γξαθηθή από ην [7]. Η γξαθηθή απηή δείρλεη ηελ εθηηκώκελε κεηαβνιή ηεο ζεξκνθξαζηαθήο επαηζζεζίαο ηεο ηάζεο θαησθιίνπ σο πξνο ην scaling ηεο ηερλνινγίαο. Measured in 110nm Εικόνα 3.8 Μεταβολι τθσ κερμοκραςιακισ ευαιςκθςίασ τθσ τάςθσ κατωφλίου ςυναρτιςει του scaling 22
3.3 Φαινόμενο DIBL 3.3.1 Πεπιγπαθή Φαινομένος To DIBL θαηλόκελν είλαη έλα από ηα θαηλόκελα δεύηεξεο ηάμεο ην νπνίν επεξεάδεη ηδηαίηεξα ηελ απόδνζε ηνπ transistor. Σν DIBL επηθξαηεί επί ησλ ππνινίπσλ θαηλνκέλσλ θπξίσο ζηελ πεξηνρή ηνπ WI ζην θνξεζκό. Σν drain induced barrier lowering νθείιεηαη ζηελ ηζρπξή εμάξηεζε ηεο ηάζεο θαησθιίνπ από ηελ δηαθνξά δπλακηθνύ πνπ εθαξκόδεηαη ζην θαλάιη. Η αύμεζε ηεο ηάζεο ζην V DS νδεγεί ζε κείσζε ηνπ source-channel junction barrier[8]. Η πηώζε ηνπ δπλακηθνύ θξάγκαηνο νδεγεί ζηελ αύμεζε ηνπ ξεύκαηνο θαη ζηελ πηώζε ηεο ηάζε θαησθιίνπ. Εικόνα 3.9 DIBL effect Σν DIBL effect κπνξεί λα εθθξαζηεί από ηνλ ηύπν: DIBLFactor V V T.(3.4) DS ηελ παξνύζα εξγαζία ζα παξνπζηαζηεί ε επίδξαζε ηνπ DIBL θαηλνκέλνπ γηα V DS = 300mV,600mV θαη 900mV γηα NMOS θαη PMOS θαη ζα θαλεί ε ηπρόλ εμάξηεζε από ηελ ζεξκνθξαζία. Σν DIBL effect όπσο αλαθέξζεθε παξαπάλσ έρεη άκεζε εμάξηεζε από ηελ V DS. Θέινληαο λα κνληεινπνηήζνπκε ηελ επίδξαζε ηνπ DIBL θαηλνκέλνπ σο πξνο ηελ ηάζε θαησθιίνπ κπνξνύκε λα ηζρπξηζηνύκε όηη ε πξαγκαηηθή ηάζε θαησθιίνπ κπνξεί λα ππνινγηζηεί (αγλνώληαο ηα θαηλόκελα κηθξά θαλαιηνύ ) από ηνλ ηύπν : VT VT V T V DS VDS.(3.5) 23
(ΔVT/ΔVds)Vds *V+ Η πνζόηεηα VT V DS VDS αλαπαξηζηά ηελ κείσζε ηεο ηάζεο θαησθιίνπ ιόγσ ηνπ DIBL θαηλνκέλνπ. Η κείσζε ηνπ DIBL θαηλνκέλνπ θαίλεηαη ζηελ παξαθάησ γξαθηθή. Η γξαθηθή απηή δείρλεη ηελ ηηκή ηεο παξαπάλσ πνζόηεηαο ζπλαξηήζεη ηνπ κήθνπο θαλαιηνύ θαη ηεο ηάζεο θαλαιηνύ. ηα κηθξά κήθε θαλαιηνύ ε δηαθνξά ηεο πξαγκαηηθήο ηάζεο θαησθιηνύ από ηελ ζεσξεηηθή είλαη ζεκαληηθή. Πην ζπγθεθξηκέλα γηα L=110nm ε ηάζε θαησθιίνπ κεηώλεηαη θαηά 66, 48 θαη 29,3 mv γηα V DS = 900mV, 600mV θαη 300mV αληίζηνηρα. ηα κηθξά κήθε θαλαιηνύ (L<140nm) ην DIBL θαηλόκελό είλαη ηδηαίηεξα έληνλν. Όζν ην L γίλεηαη κεγαιύηεξν ην DIBL εμαζζελεί θαη θαίλεηαη λα γίλεηαη ε ηηκή ηνπ αλεμάξηεηε ηεο αύμεζεο ηνπ V DS. Γηα L=10nm ην DIBL θαίλεηαη λα έρεη εμαζζελήζεη πιήξσο θαζώο ε κεηαβνιή ηεο ηάζεο θαησθιίνπ δελ μεπεξλά ηα 3mV. -10 0 DIBL EFFECT REDUCTION -10 1-10 2 0.9 0.6 Vds [V] 0.3 10-7 10-6 Length [m] 10-5 Εικόνα 3.10 DIBL effect ωσ προσ V DS, L 3.3.2 ςνηελεζηήρ DIBL O ζπληειεζηήο ηνπ DIBL εμάγεηαη γηα θάζε κέηξεζε ηνπ V DS πξαγκαηνπνηώληαο εθηίκεζε ηεο ηάζεο θαησθιίνπ γηα V DS = V DS + 40mV θαη V DS = V DS - 40mV. Παξαθάησ παξαηίζεληαη ηα απνηειέζκαηα γηα nmos ρξεζηκνπνηώληαο σο ηάζε θαλαιηνύ ηα 600mV. Αξρηθά επηζεκαίλεηαη ε ηζρπξή επίδξαζε ηνπ DIBL effect ζηα κηθξά κήθε θαλαιηνύ. Γηα L=110nm ε ηηκή ηνπ ζπληειεζηή είλαη ίζε κε -85mV/V ελώ γηα L=1um είλαη ίζε -13mV/V πνπ ζεκαίλεη όηη ην DIBL ζηελ πξώηε πεξίπησζε είλαη ζρεδόλ 8 θνξέο κεγαιύηεξν από ηελ δεύηεξε. Παξαηεξείηαη ηζρπξή εμάξηεζε από ην κήθνο θαλαιηνύ γηα L =110nm έσο L=190nm. Γηα L=300nm θαη πάλσ ε εμάξηεζε απηή δείρλεη λα κεώλεηαη. 24
ΔVT/ΔVDS [mv/v] Ο ζπληειεζηήο ηνπ DIBL θαίλεηαη αλεμάξηεηνο ηεο ζεξκνθξαζίαο. Δηδηθά ζηα κηθξά κήθε θαλαιηνύ ( L<190nm ) θαίλεηαη ε ζρεδόλ απόιπηε ηαύηηζε ησλ ηηκώλ ηνπ ζπληειεζηή. Αλάινγε ζπκπεξηθνξά παξαηεξείηαη γηα L= 500nm,1um θαη 4um. Η θαηλόκελε αύμεζε ζηνπο 125νC ζηελ πξαγκαηηθόηεηα πξνθαιεί πνιύ κηθξή κείσζε όζν αλαθνξά ηελ ηάζε θαησθιίνπ. -10 0-10 1 T=25 o C T=85 o C T=125 o C -10 2 Mean Value 10-7 10-6 10-5 Length [m] Εικόνα 3.11 Μεταβολι τάςθσ κατωφλίου ωσ προσ V DS για διαφορετικά μικθ καναλιοφ και κερμοκραςία Μεηά ηελ παξαδνρή όηη ν ζπληειεζηήο DIBL είλαη αλεμάξηεηνο ηεο ζεξκνθξαζίαο κπνξνύκε λα ιάβνπκε ηελ κέζε ηηκή ησλ ζεξκνθξαζηαθώλ κεηξήζεσλ γηα λα ραξαθηεξίζνπκε ην DIBL effect όζνλ αθνξά ηε ζπγθεθξηκέλε πόισζε. Σελ ζπκπεξηθνξά ηνπ ζπληειεζηή V V T DS κπνξνύκε λα ηελ κνληεινπνηήζνπκε σο πξνο ην κήθνο θαλαιηνύ ρσξίδνληαο ηελ ζε δύν πεξηνρέο. Γηα L<190nm θαη γηα L>190nm.H κνληεινπνίεζε πξαγκαηνπνηείηαη κε ηελ ρξήζε ηνπ ηύπνπ ηηκέο πνπ εμάγνληαη θαίλνληαη παξαθάησ. DIBL V V T DS L b. Οη 25
ΔVT/ΔVDS [mv/v] ΔVT/ΔVDS [mv/v] ΝΜΟS L<170nm L>170nm a b a b VDS=300mV 9.81e-15-1.87 2.615e-4-0.3254 VDS=600mV 7.28e-17-2.165 5.9e-5-0.388 VDS=900mV 1.10e-18-2.422 1.31e-5-0.4603 Πίνακασ 3.1 Παράμζτροι ευκινθςίασ NMOS, a, b, για L<170nm και L>170nm για διαφορετικζσ πολώςεισ Δλ ζπλερεία παξαηίζεληαη νη γξαθηθέο γηα V DS =300mV θαη V DS = 900mV -10 1 VDS=300mV NMOS -10 2 T=25 o C T=85 o C T=125 o C Mean Value 10-7 10-6 10-5 Length [m] Εικόνα 3.12 Μεταβολι τάςθσ κατωφλίου NMOS ωσ προσ V DS για διαφορετικά μικθ καναλιοφ και κερμοκραςία, με V DS =300mV -10 0 VDS = 900mV NMOS -10 1 T=25 o C T=85 o C T=125 o C Mean Value -10 2 10-7 10-6 10-5 Length [m] Εικόνα 3.13 Μεταβολι τάςθσ κατωφλίου NMOS ωσ προσ V DS για διαφορετικά μικθ καναλιοφ και κερμοκραςία, με V DS =900mV 26
ΔVT/ΔVDS [mv/v] ΔVT/ΔVDS [mv/v] γηα ηα PMOS. Με ηελ ίδηα κεζνδνινγία ζα πξαγκαηνπνηεζεί ε εμαγσγή ησλ παξακέηξσλ -10 0 VDS=-900mV PMOS -10 1 T=25 o C T=85 o C T=125 o C Mean Value -10 2 10-7 10-6 10-5 Length [m] Εικόνα 3.14 Μεταβολι τάςθσ κατωφλίου PMOS ωσ προσ V DS για διαφορετικά μικθ καναλιοφ και κερμοκραςία, με V DS =-900mV -10 0 VDS=-600mV PMOS -10 1 T=25 o C T=85 o C T=125 o C Mean Value -10 2 10-7 10-6 10-5 Length [m] Εικόνα 3.15 Μεταβολι τάςθσ κατωφλίου PMOS ωσ προσ V DS για διαφορετικά μικθ καναλιοφ και κερμοκραςία, με V DS =-600mV 27
ΔVT/ΔVDS [mv/v] VDS=-300mV -10 1-10 2 T=25 o C T=85 o C T=125 o C Mean Value 10-7 10-6 10-5 Length [m] Εικόνα 3.16 Μεταβολι τάςθσ κατωφλίου PMOS ωσ προσ V DS για διαφορετικά μικθ καναλιοφ και κερμοκραςία, με V DS =-300mV PMOS L<170nm L>170nm a b a b VDS=-300mV 7.03e-011-1.7438 0.0095-0.5441 VDS=-600mV 2.26e-14-2.165 0.0024-0.6005 VDS=-900mV 3.53e-15-2.3389 3.80e-4-0.6927 Πίνακασ 4 Παράμζτροι ευκινθςίασ PMOS, a, b, για L<170nm και L>170nm για διαφορετικζσ πολώςεισ Χο γεληθόηεξε εηθόλα κπνξεί λα ζεκεησζεί όηη γηα κηθξά κήθε θαλαιηνύ ε θιίζε b απμάλεηαη όζν απμάλνπκε ηελ ηάζε V DS. Γηα ελδηάκεζεο ηηκέο ηεο ηηκήο ηνπ V DS κπνξεί λα ζεσξεζεί όηη ην dibl είλαη αλάινγν ηνπ ηεηξαγώλνπ ηνπ ξεύκαηνο. 28
Κεθάλαιο 4 Κανονικοποιημένερ Γιαγωγιμόηηηερ 4.1 Κανονικοποιημένη Γιαγωγιμόηηηα GMS 4.1.1 Οπιζμόρ και Ανάλςζη Σν G MS νξίδεηαη σο ε θαλνληθνπνηεκέλε δηαγσγηκόηεηα πεγήο σο πξνο ην ξεύκα θαη ηελ ζεξκηθή ηάζε. Ο ηύπνο πνπ ην εθθξάδεη είλαη: G ms I U V I g U I ds T ms T s ds ds.(3.6) Η ζρέζε ηεο θαλνληθνπνηεκέλεο δηαγσγηκόηεηαο κε ηνλ δείθηε αλαζηξνθήο είλαη: ISPEC gms ISPEC gms qs 1 gms GSPECqs qs UT qs U 2 T 2 U IC qs qs T ID I D ID qs qs qs 1 (3.7) 1 GMS qs 0.25 IC 0.5 0.25 IC 0.5 Φαίλεηαη όηη γηα WI (IC<<0.1) ην GMS κπνξεί λα ζεσξεζεί ίζν κε 1. Γηα IC>>10 παξαηεξείηαη όηη ην G MS 1. IC Σν G MS παξνπζηάδεη ηελ κηθξόηεξε επαηζζεζία ζε ζρέζε κε ηηο άιιεο δηαγσγηκόηεηεο όζν αλαθνξά ηα θαηλόκελα δεύηεξεο ηάμεο DIBL θαη CLM. Γηα ηνλ ιόγν απηό ρξεζηκνπνηείηαη γηα εκπεηξηθή αμηνιόγεζε ησλ κεηξήζεσλ ελόο transistor θαζώο ζύκθσλα κε ην EKV3 κνληέιν ε ηηκή ηεο θαλνληθνπνηεκέλεο δηαγσγηκόηεηαο ζηελ αζζελή αλαζηξνθή (ΙC<0.01)δελ κπνξεί λα μεπεξλά ην 1. Η εμάξηεζε ηνπ G MS από ηελ ηάζε θαλαιηνύ ζην θνξεζκό είλαη εμαηξεηηθά κηθξή γηα ηελ πεξίπησζε ηεο αζζελνύο θαη κέζεο αλαζηξνθήο. Γηα L = 140nm ε κείσζε ηνπ G MS κεηαβαίλνληαο από ηα 300mV ζηα 900mV δελ μεπεξλά ην 1,5% ηεο αξρηθήο ηηκήο. ε ΜΙ θαη SI ηα απνηειέζκαηα είλαη παξόκνηα κέρξη ηελ ηηκή ηνπ IC όπνπ πξαγκαηνπνηείηαη ην desaturation (V DSAT >V DS ). Αλαιπηηθόηεξα, ε ηηκή ηνπ G MS κπνξεί λα εθθξαζηεί βξίζθνληαο ηελ παξάγσγν ηνπ ξεύκαηνο σο πξνο ην V s ρξεζηκνπνηώληαο ηελ ζρέζε ηνπ ξεύκαηνο σο πξνο ηα θαλνληθνπνηεκέλα θνξηία. Η ζρέζε απηή είλαη: I I q q q q.(4.1) 2 2 DS SPEC s s d d Παξαγσγίδνληαο ηελ πνζόηεηα απηή πξνθύπηεη: IDS I 2 2 SPEC qs q d qs qs qd qd ISPEC (2q s 1) (2q d 1).(4.2) Vs Vs Vs Vs 29
Η πνζόηεηα I V SPEC s αληηπξνζσπεύεη ηελ κεηαβνιή ηεο επθηλεζίαο σο πξνο ην Vs. Από ηνλ ηύπν πνπ ζπλδέεη ηηο θαλνληθνπνηεκέλεο ηάζεηο σο πξνο ηα θνξηία πξνθύπηεη: V V v v 2q lnq 2q lnq V V U 2q lnq θαη p s p s s s s s p s T s s U Vps ( ) T vps ( ) UT Vp Vd vp vd 2qd lnqd 2qd lnqd Vp Vd UT 2qd lnqd (4.3) U T Παξαγσγίδνληαο ηηο πνζόηεηεο απηέο σο πξνο ην Vs θαη ζεσξώληαο όηη ην Vs πξνθαιεί κεηαβνιή ηεο ηάζεο θαησθιίνπ πξνθύπηεη : Vs qs 1 Vp Vs 1 q V s p 1 qs q s V s UT 2 1 UT 2 Vs qs Vs Vs qs Vs Vs UT 2qs 1 θαη Vp qd Vp V d 1 q V s p 1 qd q V d s UT 2 UT 2 Vs qs Vs Vs qd Vs Vs UT 2qd 1 Πξαγκαηνπνηώληαο ηηο αληηθαηαζηάζεηο ζηελ εμίζσζε 4.2 έρνπκε : Vp Vp qs 1 qd IDS ISPEC I DS Vs V s I SPEC (2q s 1) (2q d 1) Vs Vs ISPEC UT 2qs 1 UT 2qd 1 IDS ISPEC IDS I V SPEC p Vp ( qs 1) qd Vs Vs ISPEC U T Vs V s (4.5) I V DS ISPEC IDS I SPEC p qs qd qs Vs Vs ISPEC UT Vs.(4.4) Γλσξίδνληαο όηη ην G SPEC I U SPEC T θαη όηη V p V G VT n πξνθύπηεη: I I I q q VT G q G V V I n V DS SPEC DS s d SPEC s SPEC s s SPEC s.(4.6) H θαλνληθνπνηεκέλε ηηκή ηεο παξαπάλσ πνζόηεηαο είλαη: 30
GMS [-] ( G I U I I U q q U VT U G q G V I V I I n I V I DS T SPEC DS T s d T T SPEC s SPEC s DS s SPEC DS DS s DS ISPEC U q T s qd U T VT U T GMS GSPEC qsgspec Vs ISPEC n IDS Vs IDS (4.7) Λακβάλνληαο ππόςε ηηο ζεσξεηηθέο ηηκέο ηνπ g ms ( qg s SPEC )θαη g mg SPEC q s q n d ) πξνθύπηεη: I ( f) ( r) SPEC U G i G i T VT GMS Vs I SPEC n Vs G( i ) f.(4.8) Η ζρέζε απηή είλαη ηδηαίηεξα ρξήζηκε θαζώο θαίλεηαη ε εμάξηεζε ηεο ζεσξεηηθήο VT πνζόηεηαο ηνπ GMS από θαηλόκελα όπσο κία κνξθή DIBL θαηλόκελνπ ( ) V (ιακβάλνληαο σο reference ηάζε Vb) θαη ηνπ CLM. Γηα WI ε ηηκή VT είλαη ε θύξηα V αηηία κείσζεο ηεο ηηκήο ηνπ ιόγνπ g ms /i d. Όζν ην IC απμάλεη ε πνζόηεηα απηή κεηώλεηαη δξακαηηθά (θαζώο ην DIBL θαηλόκελν εμαζζελεί θαη ην G MG κεηώλεηαη) κε απνηέιεζκα λα θπξηαξρεί ν όξνο 4.1.2 Δξάπηηζη από L και VDS I V SPEC s U I T SPEC ζηελ κείσζε ηεο ηηκήο ηνπ G MS. Παξαηεξείηαη ζηελ εηθόλα 4.1 όηη ην GMS δελ κεηαβάιιεηαη ζεκαληηθά όζν αλαθνξά ηελ κεηαβνιή ηεο ηάζεο θαλαιηνύ. s s 0.9 0.8 VDS=300mV VDS=600mV VDS=900mV 0.7 0.6 0.5 0.4 0.3 0.2 0.1 L = 300nm NMOS 10-6 10-4 10-2 10 0 10 2 IC [-] Εικόνα 4.1 G MS NMOS ωσ προσ δείκτθ αναςτροφισ 31
GMS [-] Ιζρπξόηεξε εμάξηεζε ππάξρεη σο πξνο ην κήθνο θαλαιηνύ. Παξαηεξείηαη κείσζε ηεο ηηκήο ηνπ GMS ζην WI θαη ΜΙ κε ηελ κείσζε ηνπ κήθνπο θαλαιηνύ. Η κείσζε απηή γηα κεηάβαζε από ηξαλδίζηνξ κε L=10um ζε L=140nm ζην WI είλαη πεξίπνπ 8%.H κείσζε απηή νθείιεηαη ζην DIBL effect Γηα όια ηα κήθε θαλαιηνύ γηα ηηκέο IC από 2 έσο 6 παξαηεξείηαη ζπκθσλία ηηκώλ κεηαμύ ησλ G MS. Γηα IC > 10 νη ηηκέο ηνπ G MS κεηώλνληαη όζν κεηώλεηαη ην κήθνο θαλαιηνύ ιόγσ CLM θαη mobility saturation. Αλάινγε ζπκπεξηθνξά έρνπλ θαη ηα PMOS. Όζν αλαθνξά ηηο ηπρόλ κεηαβνιέο σο πξνο ηελ ζεξκνθξαζία πξέπεη λα ζεκεησζεί όηη ιόγσ ηνπ γεγνλόηνο όηη ην G MS δελ παξνπζηάδεη ηζρπξή εμάξηεζε από θάπνην θαηλόκελν δελ αλακέλεηαη λα ππάξρνπλ κεγάιεο δηαθνξέο όζν αλαθνξά ηελ ζπκπεξηθνξά ηνπ. 0.9 0.8 L=140nm L=300nm L=1um 0.7 0.6 0.5 0.4 0.3 0.2 0.1 VDS = 600mV NMOS 10-6 10-4 10-2 10 0 10 2 IC [-] Εικόνα 4.2 G MS NMOS ωσ προσ δείκτθ αναςτροφισ, για διαφορετικά μικθ καναλιοφ 4.2 Κανονικοποιημένη Γιαγωγιμόηηηα GMB 4.2.1 Πεπιγπαθή και εξαπηήζειρ H θαλνληθνπνηεκέλε δηαγσγηκόηεηα πύιεο ππνινγίδεηαη από ηνλ ηύπν: G mg Ids U V I T gmgu I g ds ds T.(4.9) Η δηαγσγηκόηεηα απηή είλαη ηδηαίηεξα ζεκαληηθή θαζώο ζπκκεηέρεη ζηνλ ππνινγηζκό ηνπ intrinsic DC θέξδνπο ησλ transistor. Δπίζεο κέζσ ηεο θαλνληθνπηήκέλεο δηαγσγηκόηεηαο κπνξεί λα πξνζεγγηζζεί ε ηηκή ηνπ slope factor ζηελ πεξηνρή ηεο αζζελνύο αλαζηξνθήο πνπ ζα αλαιπζεί ζηελ ζπλέρεηα. Η ηηκή ηεο 32
GMG[-] GMS[-] θαλνληθνπνηεκέλεο δηαγσγηκόηεηαο πύιεο είλαη πάληα κηθξόηεξε ηεο αληίζηνηρεο ηεο πεγήο. Από ηελ ζεσξία ηνπ EKV3 πξνθύπηεη G mg ( qs qd ) qsgspec Gms 1 GSPEC n IN SATURATION qd 0 n n n 0.25 IC 0.5 (IC<<0.01) ηζρύεη G mg.(4.10) Γηα WI 1. Η θαλνληθνπνηεκέλε ηηκή ηεο δηαγσγηκόηεηαο πύιεο n παξνπζηάδεη πεξίπνπ ίδηα ζπκπεξηθνξά κε ηνπ G MS. Μηθξή εμάξηεζε από ηελ ηάζε θαλαιηνύ ζην θνξεζκό θαη απμεκέλε εμάξηεζε από ην κήθνο θαλαιηνύ ιόγσ θαηλνκέλσλ κηθξνύ κήθνπο θαλαιηνύ. 0.9 0.8 0.7 VDS=300mV VDS=600mV VDS=900mV 0.6 0.5 0.4 0.3 0.2 0.1 L=140nm NMOS 0 10-8 10-6 10-4 10-2 10 0 10 2 IC[-] Εικόνα 4.3 G MS NMOS ωσ προσ δείκτθ αναςτροφισ για L=140nm 0.8 0.7 L=140nm L=300nm L=1um 0.6 0.5 0.4 0.3 0.2 0.1 VDS=600mV NMOS 10-6 10-4 10-2 10 0 10 2 IC[-] Εικόνα 4.4 G MS NMOS ωσ προσ δείκτθ αναςτροφισ για L=140nm 33
GMB[-] 4.3 Κανονικοποιημένη Γιαγωγιμόηηηα GMΒ H θαλνληθνπνηεκέλε δηαγσγηκόηεηα ππνζηξώκαηνο ππνινγίδεηαη από ηελ ζρέζεg mb I U V I g U I ds T mb T b ds ds. Θεσξεηηθά ππνινγίδεηαη από ηελ ζρέζε: n1 ( n 1) qsgspec ( n 1) Gms ( n1) Gmb GSPEC ( qs qd ).(4.11) n IN SATURATION qd 0 n n n 0.25 IC 0.5 Από ηηο παξαθάησ γξαθηθέο πξνθύπηεη όηη κε ηελ αύμεζε ηνπ V DS κεηώλεηαη ε ηηκή ηνπ ε ηηκή ηνπ G MB ζην WI. Δλώ όζν κεηαβαίλνπκε ζε SI νη ηηκέο ζπγθιίλνπλ. Με ηελ αύμεζε ηνπ κήθνπο θαλαιηνύ απμάλεηαη ε ηηκή ηνπ G MB ζηελ πεξηνρή αζζελνύο αλαζηξνθήο. Δλ ζπλερεία νη ηηκέο ηνπ G MB κεηώλνληαη θαη ζπγθιίλνπλ γηα SI. H ίδηα απόιπηε κεηαβνιή πνπ επεξεάδεη θαη ηηο άιιεο δηαγσγηκόηεηεο επεξεάδεη θαη ην GMB. 0.12 VDS=300mV VDS=600mV VDS=900mV 0.1 0.08 0.06 0.04 0.02 L=140nm NMOS 10-6 10-4 10-2 10 0 IC[-] Εικόνα 4.5 G MB NMOS ωσ προσ δείκτθ αναςτροφισ για L=140nm 34
GMB[-] 0.12 L=140nm L=300nm L=1um 0.1 0.08 0.06 0.04 VDS=600mV NMOS 0.02 10-6 10-4 10-2 10 0 10 2 IC[-] Εικόνα 4.6 G MB NMOS ωσ προσ δείκτθ αναςτροφισ V DS =600mV 4.4 Κανονικοποιημένη Γιαγωγιμόηηηα GDS 4.4.1 Πεπιγπαθή Η δηαγσγηθόηεηα εμόδνπ ή δηαγσγηκόηεηα θαλαιίνπ (gds) νξίδεηαη από ηνλ ιόγν: g I ds ds.(4.12) Vds Η θαλνληθπνηεκέλε κνξθή ηεο νξίδεηαη από ηελ ζρέζε: G g ds ds UT.(4.13) Ids Σν G ds είλαη ε κηθξόηεξε δηαγσγηκόηεηα(εκπεηξηθά κία δεθάδα θάησ από ηελ δηαγσγηκόηεηα ηνπ ππνζηξώκαηνο). Σν G ds παξνπζηάδεη απμεκέλε εμάξηεζε από ηελ ηηκή ηνπ Vds πνπ ππνινγίδεηαη. Δπηζεκαίλεηαη όηη νη δηαγσγηκόηεηεο ππνινγίδνληαη θάλνληαο ρξήζε κηαο θεληξηθήο ηηκήο ηνπ Vds (πρ. 300mV) θαη ελ ζπλερεία πξαγκαηνπνηώληαο κέηξεζε ξεπκάησλ γηα δεδνκέλν offset (ζηελ πεξίπησζε καο +/- 40mV)γύξσ από ηελ θεληξηθή απηή ηηκή. Χο παξάδεηγκα παξαηίζεηαη ε κεηαβνιή γηα L=140nm. Η κείσζε ηεο ηηκήο ηεο 35
είλαη ηδηαίηεξα αηζζεηή θαζώο από 300mV ζηα 900mV ηάζεο θαλαιηνύ, ε δηαγσγηκόηεηα εμόδνπ κεηαβάιιεηαη πεξίπνπ 20% ζηελ πεξηνρή αζζελνύο αλαζηξνθήο. Η αύμεζε ηνπ κήθνπο θαλαιηνύ κεηώλεη δξαζηηθά ηελ ηηκή ηελ δηαγσγηκόηεηα εμόδνπ θαζώο κε ηελ αύμεζε ηνπ κήθνπο θαλαιηνύ ε δηαθνξά κεηαμύ ησλ ξεπκάησλ γίλεηαη πνιύ κηθξή κε απνηέιεζκα ηελ πηώζε ηεο δηαγσγηκόηεηαο. 4.4.2 Μονηελοποίηζη Η δηαγσγηκόηεηα εμόδνπ είλαη κία πνζόηεηα πνπ δελ κπνξεί λα πξνζεγγηζζεί κε κεγάιε αθξίβεηα ιόγν ηεο επαηζζεζία ηεο από θαηλόκελα όπσο ην DIBL,ην CLM θαη ην charge sharing effect. Η εθηίκεζε ηνπ ζα έδηλε ηελ δπλαηόηεηα ζε έλα ζρεδηαζηή λα έρεη κία άπνςε γηα ηελ ηηκή ηεο αληίζηαζεο εμόδνπ, ηνπ small signal θέξδνπο,ηεο ηάζεο Early θαη channel length modulation. Μία πξώηε πξνζέγγηζε ζα κπνξνύζε λα γίλεη θάλνληαο ρξήζε ηεο κεζόδνπ πνπ πξνηείλεηαη ζην [9] όπνπ ην G d VP UT n. Μία αλαιπηηθόηεξε πξνζέγγηζε ζα πξαγκαηνπνηεζεί ζηελ V n V D D ζπγθεθξηκέλε εξγαζία. Θα απνδεηρζεί ε ζρέζε κεηαμύ ηνπ G DS θαη DIBL effect. Σν g ds κπνξεί λα ππνινγηζηεί κε ηελ ρξήζε ηνπ γεληθνύ ηύπνπ ηνπ ξεύκαηνο σο 2 2 πξνο ηα θαλνληθνπνηεκέλα θνξηία. IDS ISPEC qs qs qd qd παξάγσγν σο πξνο ην V d πξνθύπηεη:. Λακβάλνληαο ηελ IDS I 2 2 SPEC qs q d qs qs qd qd ISPEC (2q s 1) (2q d 1) Vd Vd Vd Vd.(4.14) IDS ISPEC I DS qs q d (2qs 1) (2qd 1) Vd Vd ISPEC Vd Vd Λακβάλνληαο ηελ παξάγσγν ησλ θαλνληθνπνηεκέλσλ ηάζεσλ πξνθύπηνπλ νη παξαθάησ ζρέζεηο : Vp qs Vp Vs 1 q V s p 1 qs qs Vds UT 2 UT 2 Vds qs Vds Vds qs Vds Vds UT 2qs 1 (4.15) Vp qd 1 Vp V d 1 q V s p 1 qd q V d d UT 2 1 UT 2 (4.16) Vd qs Vd Vd qd Vd Vd UT 2qd 1 36
Πξαγκαηνπνηώληαο ηηο αληηθαηαζηάζεηο ζηελ πξώηε ηόηε έρνπκε: V Vp p q q 1 s d IDS ISPEC IDS V V d d I SPEC (2q s 1) (2q d 1) Vd Vd I SPEC UT 2qs 1 UT 2qd 1 I V DS ISPEC IDS I SPEC p ISPEC qs qd qd (4.17) V V I U V U ISPEC d d SPEC T d T I I I V V I DS SPEC DS d d SPEC G SPEC V q q q G p s d d SPEC Vd G SPEC U T Αλαιύνληαο ηελ pinch off ηάζε σο πξνο ηελ ζρέζε ηνπ κε ηελ ηάζε θαησθιίνπ θαη ηελ ηάζε πύιεο πξνθύπηεη: I I I V G q q q G V V I V G DS SPEC DS p SPEC s d d SPEC V d d SPEC d Vp I I I q q V g G q G V V V I n V V n DS SPEC DS s d th ds SPEC d SPEC G th Vp d d SPEC d V n th (4.18) Από ηελ ζεσξία γλσξίδνπκε όηη ην gmg q q s d G SPEC θαη gmd q G d SPEC n νπόηε θαη πξνθύπηεη: I I V g g g SPEC DS th ds mg md Vds ISPEC Vds Η θαλνληθνπνηεκέλε δηαγσγηκόηεηα είλαη ίζε κε : (4.19) I I V U I I U U V U g g g g g g SPEC DS th T SPEC DS T T th T ds mg md ds mg md Vd ISPEC Vd IDS Vd ISPEC IDS IDS Vd IDS I U V G G G SPEC T th ds mg md Vd ISPEC Vd (4.20) Σν απνηέιεζκα ηεο παξαπάλσ δηαδηθαζίαο είλαη έλαο ηύπνο ν όπνηνο θαιύπηεη ηελ γξακκηθή πεξηνρή θαη ηνλ θνξεζκό. Παξαηεξείηαη όηη ζηνλ θνξεζκό θαη ζε αζζελή αλαζηξνθή, ην Gds κπνξεί λα πξνζεγγηζζεί ιακβάλνληαο ππόςε κόλν ηνλ 37
DIBL παξάγνληα G mg V V th d θαζώο ε επίδξαζε ηνπ G md είλαη ζρεδόλ κεδεληθή (θαζώο ην θνξηίν ζην drain είλαη πνιύ κηθξό) νπόηε θαη ην GDS γίλεηαη : I U V V G G G G SPEC T th th ds mg md mg V SATURATION & WI d ISPEC Vd Vd (4.21). Σν Gds ζηελ πεξίπησζε απηή γίλεηαη απεπζείαο αλάινγν ηεο δηαγσγηκόηεηαο ζηε πύιε θαη ηνπ ιόγνπ V V th d. Τπό ηηο ζπγθεθξηκέλεο ζπλζήθεο ην Gmg κπνξεί λα ζεσξεζεί ζηαζεξό θαη ίζν κε 1/n WI νπόηε θαη πξνθύπηεη: G V 1 th ds SATURATION & WI nwi Vd (4.22). Η ζρέζε πνπ πξνθύπηεη πξνβιέπεη όηη ε δηαγσγηκόηεηα εμόδνπ ζα είλαη ζηαζεξή ζην WI αθνύ ν ιόγνο V V th d παξακέλεη ζηαζεξόο (ρξεζηκνπνηνύκε ηελ εμαγσγή ηνπ dibl effect γηα IC = 0.6). O παξαπάλσ ηζρπξηζκόο θαίλεηαη λα επηβεβαηώλεηαη από ηα απνηειέζκαηα πνπ θαίλνληαη παξαθάησ. Δικόνα 4.7 GDS vs ΙC 38
Ids(A) 4.5 Δξάπηηζη διαγωγιμοηήηων από ηην θεπμοκπαζία 4.5.1 ςμπεπιθοπά ηος Ρεύμαηορ ωρ ππορ ηην θεπμοκπαζία Γηα ηελ θαιύηεξε θαηαλόεζε ηεο ζπκπεξηθνξάο ησλ κεγεζώλ σο πξνο ηελ ζεξκνθξαζία αξρηθά παξνπζηάδεηαη ε κεηαβνιή ηνπ ξεύκαηνο σο πξνο ηελ ζεξκνθξαζία. 10 0 10-5 current slope decreases from WI to SI Zero Temperature Current current decreases for T=125 o C in SI 10-10 Current increases over Temperature in subthreshold region T=25 o C T=125 o C 10-15 -0.4-0.2 0 0.2 0.4 0.6 0.8 1 1.2 Vg(V) Εικόνα 4.8 Ρεφμα καναλιοφ ωσ προσ τθν τάςθ πφλθσ, για διαφορετικζσ κερμοκραςίεσ ην παξαπάλσ γξάθεκα παξνπζηάδεηαη ε ζπκπεξηθνξά ηνπ ξεύκαηνο σο πξνο ηελ ζεξκνθξαζία ζηα NMOS γηα L=110nm θαη VDS=600mV. Παξαηεξείηαη αύμεζε ηνπ ξεύκαηνο σο πξνο ηελ ζεξκνθξαζία γηα ηελ πεξηνρή θάησ από ηελ ηάζε θαησθιίνπ. Καηά ηελ κεηάβαζε από ην WI ζην ΜΙ ε δηαθνξά ησλ ξεπκάησλ κεηώλεηαη έσο ηε ηάζε Vg(~0.5V) όπνπ ην ξεύκα γίλεηαη αλεμάξηεην ηεο ζεξκνθξαζίαο. Μεηαβαίλνληαο ζην SI παξαηεξείηαη κείσζε ηνπ ξεύκαηνο όζν απμάλεη ε ζεξκνθξαζία. Γηα V G =0.8V ην ξεύκα κεηώλεηαη θαηά ~13% κε ηελ αύμεζε ηεο ζεξκνθξαζίαο θαηά 100 ν C. ηα Long channel transistor παξαηεξείηαη αλάινγε ζπκπεξηθνξά ηνπ ξεύκαηνο. Με ηελ αύμεζε ηνπ δείθηε αλαζηξνθήο ην ξεύκα παξνπζηάδεη κεγαιύηεξε κείσζε σο πξνο ηελ ζεξκνθξαζία ζε ζρέζε κε απηήλ ζηα κηθξά κήθε θαλαιηνύ(γηα V G =0.8 ε κείσζε είλαη πεξίπνπ 30%). Η ζεξκνθξαζηαθή ζπκπεξηθνξά ησλ παξαπάλσ κεγεζώλ ζα κειεηεζεί ζε απηό ην ζεκείν. Σα γξαθήκαηα παξνπζηάδνπλ ηηο θαλνληθνπνηεκέλεο δηαγσγηκόηεηεο πύιεο, πεγήο θαη ππνζηξώκαηνο γηα VDS=+/-600mV γηα L=10um θαη L=110nm γηα NMOS θαη PMOS. 39
GMS[-] GMS [-] 4.5.2 ςμπεπιθοπά Γιαγωγιμοηήηων ωρ ππορ ηην θεπμοκπαζία Αξρηθά παξαηίζεληαη ηα G MS γηα NMOS θαη PMOS. Παξαηεξείηαη όηη ε ηηκή ηνπ GMS γηα ηηο δηάθνξεο ζεξκνθξαζίεο παξακέλεη ζηαζεξή. 10 0 L=110nm L=10um T=25 o C T=85 o C T=125 o C 10-1 10-3 10-2 10-1 10 0 10 1 10 2 IC [-] Εικόνα 4.9 G MS NMOS ωσ προσ τθν κερμοκραςία 10 0 L=110nm L=10um T=25 o C T=85 o C T=125 o C 10-1 10-2 10-1 10 0 10 1 10 2 IC[-] Εικόνα 4.10 G MS PMOS ωσ προσ τθν κερμοκραςία Αθνινπζεί ην G MG γηα NMOS θαη PMOS. 40
GMG[-] GMS[-] L=110nm L=10um T=25 o C T=85 o C T=125 o C 10-1 10-3 10-2 10-1 10 0 10 1 10 2 IC[-] Εικόνα 4.11 G MG NMOS ωσ προσ τθν κερμοκραςία 10 0 L=110nm L=10um T=25 o C T=85 o C T=125 o C 10-1 10-2 10-1 10 0 10 1 10 2 IC[-] Εικόνα 4.12 G MG PMOS ωσ προσ τθν κερμοκραςία Αθνινπζεί ην G MB γηα NMOS θαη PMOS. Παξαηεξείηαη ε ηζρπξή κεηαβνιή ηεο σο πξνο ηελ ζεξκνθξαζία. Η εμάξηεζε απηή από ηελ ζεξκνθξαζία νθείιεηαη ζην γεγνλόο όηη ε g mb παξακέλεη αλεμάξηεηε ηεο ζεξκνθξαζίαο κε απνηέιεζκα o ιόγνο ησλ gmb/id λα εμαξηάηαη απνθιεηζηηθά από ηελ κεηαβνιή ηνπ ξεύκαηνο σο πξνο ηελ ζεξκνθξαζία. Σν ξεύκα, όπσο θαίλεηαη παξαπάλσ, απμάλεη γηα WI θαη κεηώλεηαη γηα SI ζπλαξηήζεη ηεο αύμεζεο ηεο ζεξκνθξαζίαο. 41
GMB[-] GMB[-] 10-1 RISE WITH TEMPERATURE & L T=25 o C T=85 o C T=125 o C 10-2 10-2 10-1 10 0 10 1 10 2 IC[-] Εικόνα 4.13 G MB NMOS ωσ προσ τθν κερμοκραςία 10-1 RISE WITH TEMPERATURE & L L=110nm L=10um T=25 o C T=85 o C T=125 o C 10-2 10-2 10-1 10 0 10 1 10 2 IC[-] Εικόνα 4.14 G MB PMOS ωσ προσ τθν κερμοκραςία Παξαθάησ παξαηίζεληαη ηα γξαθήκαηα ηνπ GDS γηα NMOS θαη PMOS σο πξνο ην θαλνληθνπνηεκέλν ξεύκα αληίζηνηρα. Παξαηεξείηαη αξθεηά θαιή ζπκθσλία ησλ κεηξήζεσλ γηα ηα κηθξά κήθε θαλαιηνύ. Όζν ην scaling ηνπ transistor κεγαιώλεη, ηo gds κεηώλεηαη δξακαηηθά ηδηαίηεξα γηα κεγάια κήθε θαλαιηνύ. Με απνηέιεζκα ε κέηξεζε ζηα κεγάια κήθε θαλαιηνύ λα είλαη ζηα όξηα ηεο επαηζζεζίαο ησλ νξγάλσλ. Οπόηε θαη δελ κπνξνύκε λα αμηνινγήζνπκε επαξθώο ηηο κεηξήζεηο καο γηα κεγάια κήθε θαλαιηνύ. Γεληθά κπνξνύκε λα ηζρπξηζηνύκε όηη ππάξρεη ζπκθσλία ησλ ηηκώλ 42
GDS [-] GDS [-] ηνπ GDS γηα κηθξά κήθε θαλαιηνύ ζηε πεξηνρή ηεο αζζελνύο αλαζηξνθήο. Πξνο επηβεβαίσζε ηνπ παξαπάλσ ηζρπξηζκνύ, ππνινγίζηεθε ε κέγηζηε απόθιηζε από ηελ ηηκή ηνπ G DS ζηνπο 25 ν C γηα L=110nm, 120nm, 130nm θαη 140nm γηα IC=10-3 θαη V DS =300mV. Όπσο θαίλεηαη ζηελ παξαθάησ γξαθηθή αλαπαξάζηαζε ε κέγηζηε απόθιηζε πνπ παξαηεξείηαη είλαη 6% γηα L=110nm. Δπίζεο πξέπεη λα ζεκεησζεί όηη ε δελ θαίλεηαη λα ππάξρεη ζπγθεθξηκέλε ηάζε γηα αύμεζε ή κείσζε ησλ ηηκώλ ηνπ G DS σο πξνο ηελ αύμεζε ηεο ζεξκνθξαζίαο. Οη ηηκέο ηνπ G DS γηα δηαθνξεηηθέο ζεξκνθξαζίεο θαίλνληαη λα αθνινπζνύλ κία θεληξηθή ηηκή. Γηα ηηκέο αλαζηξνθήο από IC=0.01 έσο IC = 1 ζηα κηθξά κήθε θαλαιηνύ ζεκεηώλεηαη εληνλόηεξε κείσζε ηνπ G DS όζν αλαθνξά ην ηελ αύμεζε ηεο ζεξκνθξαζίαο κε απνηέιεζκα ηελ κείσζε ηνπ Early Voltage(V A = id/gds), πνζόηεηα ζα παξνπζηαζηεί παξαθάησ. Temperature increases 10-2 L=110nm L=120nm L=130nm L=140nm L=170nm L=190nm L=300nm L=500nm L=1um L=4um L=10um 10-6 10-4 10-2 10 0 10 2 IC [-] Εικόνα 4.15 G DS NMOS ωσ προσ τθν κερμοκραςία 10-1.1 L=110nm 10-1.2 L=120nm 10-1.3 L=130nm 10-1.4 L=140nm ~6% ~ 2% ~ 2% ~ 3% 10-1.5 L=170nm ~ 3% 10-1.6 L=190nm ~4.7% 10-3 IC [-] Εικόνα 4.16 G DS PMOS ωσ προσ τθν κερμοκραςία 43
Η εθηίκεζε απηή νδεγεί ζε έλα ρξήζηκν απνηέιεζκα όζν αλαθνξά έλαλ ζρεδηαζηή πνπ ζέιεη λα θάλεη κία εθηίκεζε ηνπ κέγηζηνπ gds/id γηα ζεξκνθξαζία ίζε κε 125 O C γηα κηθξό κήθνο θαλαιηνύ. Ιζρύεη όηη : g g GDS GDS 0 UT UT 0 ds125 ds25 125 25 125 25 WI I WI UT UT125 UT25 ds125 I ds25 g g UT UT UT 0 UT UT125 UT25 ds125 ds25 25 25 I WI ds125 Ids25 g g g UT g UT UT UT ds125 ds25 ds125 25 ds25 25 25 I WI WI ds125 Ids25 Ids125 UT25 UT I kt ds25 UT q kt25 g q g g T ( K) g kt I kt k( T T ) I I T ( K) I q q q UT ds125 ds25 ds125 25 ds25 WI kt WI ds125 25 125 25 ds25 UT ds125 125 ds25 q (4.23) Από ηελ παξαπάλσ ζρέζε πξνθύπηεη όηη ε πνζόηεηα gd s /i d γηα ζεξκνθξαζία πάλσ από απηή πνπ έρνπκε σο αλαθνξά (ζηελ πεξίπησζε καο 25 ν C) ζην WI είλαη απεπζείαο αλάινγε κε ηνλ ιόγν ηεο reference ζεξκνθξαζίαο πξνο ηελ ζεξκνθξαζία πνπ ζέιεη ν ζρεδηαζηήο*. Με ηελ ίδηα ινγηθή ζα κπνξνύζαλ λα ππνινγηζηνύλ λα πξνζεγγηζζνύλ θαη ηα αληίζηνηρα κεγέζε γηα gms/id θαη gm/id. Η επηβεβαίσζε ηεο παξαπάλσ ζρέζεο έξρεηαη από ην γξάθεκα ηνπ g ds /i d vs IC γηα V DS = 600mV. Βάζεη ηνπ παξαπάλσ ηύπνπ ε ηηκή ηνπ L=110nm είλαη : WI ds125 125 ds25 g I ds125 ds125 γηα IC=0.001 θαη gds125 T25 ( K) gds25 273.15 25 us us us 2.38 0.7488*2.38 1.78 I T ( K) I 273.15+125 ua ua ua Η ηηκή πνπ πξνθύπηεη από ηηο κεηξήζεηο είλαη 1,86 us/ua γεγνλόο πνπ ζεκαίλεη όηη ε παξαπάλσ πνζόηεηα απνθιίλεη κόιηο 4.5% από ηε ζεσξεηηθή. * Οη ζπγθεθξηκέλεο ζεξκνθξαζίεο ππνινγίδνληαη ζε Kelvin. 44
gds/id [us/ua] gds/id=2.38 us/ua T=25 o C T=85 o C T=125 o C gds/id=1.865 us/ua 10 0 10-3 10-2 10-1 10 0 IC [-] Εικόνα 4.17 G DS /I D ωσ προσ τον δείκτθ αναςτροφισ 4.6 Σάζη Early 4.6.1 Οπιζμόρ H Early ηάζε νξίδεηαη από ηελ ζρέζε V A = i d /g ds. Απνηειεί κία πνζόηεηα κε ηελ νπνία ν ζρεδηαζηήο κπνξεί λα πξνζεγγίζεη ην CLM θαηλόκελν θαη λα αμηνινγήζεη ηελ επίδξαζε ηνπ ζηε απόδνζε ηνπ transistor θαη λα ππνινγίζεη ην θέξδνο κηθξνύ θύκαηνο (small signal gain(av)) γλσξίδνληαο ην g m /i d. O Binkley ζην [1] αλαθέξεη όηη ε Early ηάζε είλαη ε ηάζε πνπ πξνθύπηεη αλ ζρεδηαζηεί κία αζύκπησηε γξακκή ε νπνία δηέξρεηαη από ην bias point ηεο γξαθηθήο ηνπ ξεύκαηνο σο πξνο ηελ ηάζε θαλαιηνύ θαη ην ζεκείν όπνπ ην ξεύκα κεδελίδεηαη. Δικόνα 4.18 Πποζδιοπιζμόρ ηάζηρ Early 45
VA [V] To g ds είλαη ε θιίζε ηεο αζύκπησηεο απηήο. Ο αξρηθόο νξηζκόο ηνπ κεγέζνπο απηνύ είλαη g ds = i d /(V ds +V A ). Λόγσ ηνπ γεγνλόηνο όηη ην V A είλαη θαηά θαλόλα κεγαιύηεξν ηνπ V DS θαζηεξώζεθε ν ηύπνο κε ηνλ νπνίν νξίζηεθε παξαπάλσ. Η πνζόηεηα απηή αλακέλεηαη λα έρεη ρακειέο ηηκέο ζην WI θαη λα απμάλεηαη ζην SI. Μεγάιεο ηηκέο όζνλ αθνξά ην κήθνο θαλαιηνύ θαη κεγάιε εμάξηεζε από ην V DS. 4.6.2 Δξαγωγή Αποηελεζμάηων Παξαθάησ θαίλεηαη ε εμάξηεζε ηνπ Early voltage σο πξνο IC γηα V DS =300mV θαη V DS =600mV. Παξαηεξείηαη απμεκέλε εμάξηεζε σο πξνο ην κήθνο θαλαιηνύ θαη ην V DS. Όζν απμάλεηαη ην κήθνο θαλαιηνύ ην Early Voltage απμάλεη κε απνηέιεζκα ηελ κείσζε ηνπ ιόγνπ g ds /i d. ηα short channel transistor επηθξαηεί ην DIBL Effect ζην WI. Βαζηζκέλνη ζηελ κνληεινπνίεζε πνπ δείρηεθε παξαπάλσ Καζώο κεηαβαίλνπκε από ην WI ζην ΜΙ ε αύμεζε ηνπ Early Voltage είλαη εκθαλήο γηα ηα κηθξά κήθε θαλαιηνύ. Όζν αλαθνξά ηελ αύμεζε ηνπ VDS παξαηεξείηαη ζαθήο βειηίσζε ηνπ Early Voltage κε ηελ αύμεζε ηνπ IC. 10 1 10 0 L=110nm L=120nm L=130nm L=140nm L=170nm L=190nm L=300nm L=500nm L=1um VDS INCREASES DIBL EFFECT CLM DE SAT 10-4 10-2 10 0 10 2 Length [m] IC [-] Εικόνα 4.19 Προςδιοριςμόσ τάςθσ Early, για διαφορετικά μικθ καναλιοφ Η Δηθόλα 4.20 παξνπζηάδεη ηελ κέζε πνζνζηηαία κεηαβνιή ηεο ηηκήο ηνπ Early voltage σο πξνο ην V DS γηα δηάθνξα L γηα ηα NMOS. Φαίλεηαη όηη ε αύμεζε είλαη κηθξή γηα ηα κηθξά κήθε θαλαιηνύ ελώ ην θαηλόκελν γίλεηαη εληνλόηεξν κε ηελ αύμεζε ηνπ κήθνπο θαλαιηνύ. Δπίζεο επηζεκαίλεηαη όηη δελ κπνξνύκε λα θάλνπκε κία γεληθόηεξε ζεώξεζε ηνπ θαηλνκέλνπ ιακβάλνληαο κία κέζε ηηκή ηεο κεηαβνιήο θαζώο ε δηαθνξά είλαη κεγάιε όζν αλαθνξά ην ζπγθεθξηκέλν κέγεζνο (γηα κεγάια L είλαη ζρεδόλ 4 θνξέο πάλσ από ηελ αληίζηνηρε ζηα κηθξά ). 46